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含有掺杂剂的磷化铟晶体及其制造方法[发明专利]

专利名称：含有掺杂剂的磷化铟晶体及其制造方法专利类型：发明专利

发明人：川瀬智博

申请号：CN200810005226.5

申请日：20040506

公开号：CN101307500A

公开日：

20081119

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：为了得到晶片上性能均匀和稳定且使用寿命长的化合物半导体器件，本发明提供一种含有掺杂剂的磷化铟晶体及其制造方法，其中磷化铟晶体的位错密度低，掺杂剂浓度在晶片上以及在深度方向上具有优异的均匀性。为了使晶体生长方向沿<100>取向，将相对于结晶体具有指定横截面积比例的晶种置于生长容器的下端。然后将装有晶种、磷化铟原料、掺杂剂和氧化硼的生长容器置于晶体生长室内。并将温度升高到等于或大于磷化铟的熔点。当氧化硼、磷化铟原料和掺杂剂熔化后，降低生长容器的温度，以便得到位错密度低以及在晶片上和深度方向上掺杂剂浓度均匀的磷化铟晶体。

申请人：住友电气工业株式会社

地址：日本大阪府

国籍：JP

代理机构：北京天昊联合知识产权代理有限公司

本文发布于:2024-09-22 06:54:16，感谢您对本站的认可！

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