成像器件及其制备方法与流程



1.本技术涉及显示技术领域,尤其涉及一种成像器件及其制备方法。


背景技术:



2.空中成像技术突破传统显示依靠介质载体成像的限制,可以在空中呈现悬浮显示画面,推动显示技术发展演变出新的形态。相关技术中的空中成像核心器件中,其反射阵列板一般采用在玻璃上镀反射层,然后裁切成长条状,最后叠层粘贴形成上下两板条纹方向垂直排布的反射层。存在以下技术问题:
3.反射层中的叠层的单层材料厚度为如玻璃裁切前厚度,因此,受到玻璃厚度的影响,成像分辨率相对交底,例如:一般情况下低于200ppi,因此,显示效果较差。此外,双层的反射层容易产生显示重影,显示效果不佳。


技术实现要素:



4.鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种成像器件及其制备方法,可以有效地提升成像器件的成像分辨率,从而提升用户观看体验。
5.第一方面,本技术实施例提供了一种成像器件,包括:
6.第一透明保护层;
7.反射层,所述反射层设置在所述第一透明保护层上,所述反射层包括金属反射阵列板,所述金属反射阵列板形成多个金属网格,其中,所述金属网格的边长根据设定分辨率确定;
8.第二透明保护层,所述第二透明保护层设置在所述反射层上。
9.在一些示例中,所述金属反射阵列板的厚度与所述金属网格的边张之间的比值根据成像面积确定。
10.在一些示例中,所述金属网格呈多行多列排布。
11.在一些示例中,相邻两行之间的金属网格交错设置。
12.在一些示例中,还包括:透明填充物,所述透明填充物填充在所述金属网格内。
13.第二方面,本技术实施例提供一种成像器件的制备方法,所述成像器件为根据上述第一方面所述的成像器件,所述制备方法包括:
14.在容器底部的外表面铺设金属反射阵列板,其中,所述容器底部由第一透明保护层构成,其中,所述容器内容纳有电解液,所述电解液内包括金属阳离子;
15.向所述金属反射阵列板通入负电压,以使所述金属阳离子沉降到所述第一透明保护层上;
16.在所述金属反射阵列板的另一面粘贴第二透明保护层。
17.第三方面,本技术实施例提供一种成像器件的制备方法,所述成像器件为根据上述第一方面所述的成像器件,所述制备方法包括:
18.在第一透明保护层上电镀金属种子层;
19.对所述电镀金属种子层进行掩膜、蚀刻和图案化处理,以得到所述金属反射阵列板;
20.将所述金属反射阵列板放置到电解液中,以使所述电解液中的金属阳离子沉积到所述金属反射阵列板上;
21.在所述金属反射阵列板的另一面粘贴第二透明保护层。
22.第四方面,本技术实施例提供一种成像器件的制备方法,所述成像器件为根据上述第一方面所述的成像器件,所述制备方法包括:
23.在透明介质层上涂覆光刻胶层;
24.对光刻胶层进行图案化处理以形成多个网格;
25.基于所述网格蚀刻所述透明介质层;
26.在所述透明介质层的刻槽内壁电镀金属,以形成所述金属反射阵列板;
27.在所述金属反射阵列板的一面设置第一透明保护层,在所述金属反射阵列板的另一面设置第二透明保护层。
28.在一些示例中,所述金属反射阵列板具有第一子金属反射阵列板和第二子金属反射阵列板,所述第一子金属反射阵列板和所述第二子金属反射阵列板贴合。
29.在一些示例中,所述透明介质层为硅片。
30.第五方面,本技术实施例提供一种电子设备,包括存储器、处理器以及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序,该处理器执行该程序时实现如上述第二方面、第三方面或者第四方面所述的成像器件的制备方法。
31.第六方面,本技术实施例提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,该计算机程序用于实现如上述第二方面、第三方面或者第四方面所述的成像器件的制备方法。
32.第七方面,本技术实施例提供一种计算机程序产品,其上存储有计算机程序,该计算机程序用于实现如上述第二方面、第三方面或者第四方面所述的成像器件的制备方法。
33.本技术实施例提供的成像器件及其制备方法,反射层包括金属反射阵列板,金属反射阵列板形成多个金属网格,由于金属网格的边长根据设定分辨率确定,例如:金属网格的边长越小,其对应的显示分辨率越高。从而,可以针对不同的显示分辨率的要求,通过调节金属网格的边长的大小便可以实现显示分辨率的调节。这样,不但可以使成像器件达到更高的分辨率,还可以根据不同的需求,灵活地调节分辨率,从而使成像器件能够满足更多用户的需求,提升使用体验。
34.此外,本发明实施例的成像器件,反射层可以为一层结构,相比于现有技术中的两层结构的成像器件而言,可以有效降低甚至避免显示重影,从而,提升成像器件的成像质量,提升用户观看体验。
附图说明
35.通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
36.图1为本技术实施例的成像器件的示意图;
37.图2为本技术实施例的成像器件的反射层的示意图;
38.图3a至3b为金属反射阵列板的成像原理及光路示意图;
39.图4为金属反射阵列板成像光路模拟图;
40.图5为金属反射阵列板成像光路空间立体模拟图;
41.图6为多物点发光通过金属反射阵列板后成像光路模拟图;
42.图7为本发明实施例的一种成像器件的制备方法的流程图;
43.图8为成像器件的制备过程的示意图;
44.图9为本发明第二种成像器件的制备方法的示意图;
45.图10为本发明第三种成像器件的制备方法的示意图;
46.图11为金属反射阵列板的掩膜图形采用中空网格紧密排布的形式且金属网格成对其分布的示意图;
47.图12为金属反射阵列板的掩膜图形采用中空网格紧密排布的形式且呈交错分布的示意图;
48.图13为反射阵列板的一种制作工艺的示意图;
49.图14为两层金属反射阵列板中的一个金属反射阵列板以及双层金属阵列板的示意图;
50.图15为反射阵列板的另一种制作工艺的示意图;
51.图16为本技术实施例的电子设备的结构示意图。
具体实施方式
52.下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关公开,而非对该公开的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与公开相关的部分。
53.需要说明的是,在不冲突的情况下,本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
54.以下结合附图描述根据本发明实施例的电子设备的检测方法、系统、电子设备及存储介质。
55.图1是本技术一个实施例的成像器件的示意图,如图1所示,根据本技术实一个实施例的成像器件,包括:第一透明保护层110、反射层120和第二透明保护层130,其中:
56.反射层120设置在所述第一透明保护层110上,所述反射层120包括金属反射阵列板,所述金属反射阵列板形成多个金属网格,其中,所述金属网格的边长根据设定分辨率确定;第二透明保护层130设置在所述反射层120上。
57.具体地说,本技术中的成像器件大体上为一个三层结构的成像器件,即:上下两层为透明保护层(第一透明保护层110和第二透明保护层130),透明保护层的作用为防止反射层120受到外力破坏。在具体示例中,透明保护层可采用透明玻璃或透明树脂。位于上下两层为透明保护层中间的一层为反射层120,反射层120例如包括中空结构为正方形阵列排布的金属反射阵列板,从而使金属反射阵列板形成多个正方形的金属网格。其中,金属网格内的中空部可以不填充物质。当然,在本发明的其它示例中,如图1所示,成像器件还可包括透明填充物140,透明填充物140填充在金属网格内,其中,透明填充物例如采用玻璃(二氧化硅)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)、聚苯乙烯(ps)或者聚碳酸脂(pc)等材质,这样,可以防止第
一透明保护层和/或第二透明保护层受到外力挤压时破坏金属网格的形状,即:通过在金属网格内填充透明填充物,可以使金属网格的形状更加不易变形,提升金属网格的牢固性,从而,提升成像器件的产品质量。
58.如图2所示,为本发明一种实施例的金属反射阵列板的示意图。从图2中可以看出,金属反射阵列板中分布有多个相邻的金属网格。结合图2所示,金属反射阵列板的外轮廓为矩形或者正方形,金属反射阵列板中的金属网格采用中空正方形阵列排布,在具体示例中,金属反射阵列板可采用铝、银或铬等金属材质,这样,可以提升光的反射效率。
59.本发明实施例的成像器件可以具有更高的显示分辨率,具体地说,通过设置金属网格的边长,可以使城县期间的显示分辨率达到用户期望较高的分辨率。即:金属网格的边长根据设定分辨率确定,其中,金属网格的边长越小,其对应的显示分辨率越高,因此,针对不同的显示分辨率的要求,通过调节金属网格的边长的大小便可以实现显示分辨率的调节。这样,不但可以使成像器件达到更高的分辨率,还可以根据不同的需求,灵活地调节分辨率,从而使成像器件能够满足更多用户的需求,提升使用体验。
60.在本发明的一个实施例中,金属反射阵列板的厚度与金属网格的边张之间的比值可以根据成像面积确定。例如:金属网格的厚度(即:金属反射阵列板的厚度)与金属网格的边长比值为5:1到1:1之间,在具体示例中,可以将金属网格的厚度与金属网格的边长的比值设为2.8:1到3.8:1之间。需要说明的是,成像面积越大对应的金属网格的厚度与网格边长的比值越大,由此,可以根据成像面积的不同需求,灵活地调整金属网格的厚度与网格边长的比值,从而使成像器件满足更多用户体的需求。
61.在本发明的一个实施例中,如图2所示,金属网格呈多行多列排布。当然,在其它示例中,相邻两行之间的金属网格可以交错设置,这种相邻两行之间的金属网格可以交错设置的方式,即:采用间隔排布的方式可以避免透明保护层受压时破坏中间反射阵列层,即:交错设置,可以在成像器件受到挤压时,有足够的空间保证金属网格不会变形,从而,可以有效提升成像器件的质量。
62.根据本发明实施例的成像器件,反射层包括金属反射阵列板,金属反射阵列板形成多个金属网格,由于金属网格的边长根据设定分辨率确定,例如:金属网格的边长越小,其对应的显示分辨率越高。从而,可以针对不同的显示分辨率的要求,通过调节金属网格的边长的大小便可以实现显示分辨率的调节。这样,不但可以使成像器件达到更高的分辨率,还可以根据不同的需求,灵活地调节分辨率,从而使成像器件能够满足更多用户的需求,提升使用体验。
63.此外,本发明实施例的成像器件,反射层可以为一层结构,相比于现有技术中的两层结构的成像器件而言,可以有效降低甚至避免显示重影,从而,提升成像器件的成像质量,提升用户观看体验。
64.以下对本发明实施例的成像器件的成像原理进行详细说明。
65.如图3a至3b所示,为金属反射阵列板的成像原理及光路示意图。具体来说,发光物发出的光线经过不同层的金属网格,反射光线聚焦在金属反射阵列板的对侧,从而形成悬浮实像。
66.如图4所示,为金属反射阵列板成像光路模拟图。结合图5所示,为金属反射阵列板成像光路空间立体模拟图。发光物发出的光线经过金属反射阵列板,一部分反射光线汇聚
在金属反射阵列板的对侧,从而形成悬浮实像。总体上反射光线分为四组,其中三组光线通过金属反射阵列板后呈现发散状态,不能形成实像。其中一组呈现汇聚状态的光线在以金属反射阵列板的一个出光面为对称轴,落在金属反射阵列板的对侧。由于汇聚光线在空间上正视图与侧视图两个试图上都汇聚为一点,从而形成了一个空间悬浮实像。
67.如图6所示,为多物点发光通过金属反射阵列板后成像光路模拟图。其中,a截面上4处发光点发出4束光线,光线经过反射阵列板后在以金属反射阵列板的一个出光面为对称面的令一侧b截面上形成4个汇聚点。当观察者位于b面右侧观察时,多个汇聚点组成了悬浮实像面。
68.根据本发明实施例的成像器件,具有更高的成像分辨率以及可以有效避免成像重影,从而提升了成像器件的用户使用体验。
69.进一步地,如图7所示,为本发明实施例的一种成像器件的制备方法的流程图。本发明的实施例中提供了一种成像器件的制备方法,其中,成像器件为根据上述的任意一个实施例所述的成像器件,该制备方法包括:
70.s701:在容器底部的外表面铺设金属反射阵列板,其中,所述容器底部由第一透明保护层构成,其中,所述容器内容纳有电解液,所述电解液内包括金属阳离子;
71.s702:向所述金属反射阵列板通入负电压,以使所述金属阳离子沉降到所述第一透明保护层上;
72.s703:在所述金属反射阵列板的另一面粘贴第二透明保护层。
73.具体来说,结合图8所示,为成像器件的制备过程的示意图。容器外底部铺设网格状金属电极。制备方法详细如下:容器内底部放置透明保护层(即:第一透明保护层),容器内充满电解液,电解液内包含金属阳离子,金属阳离子可以是铝离子,银离子等。当容器外底的金属电极通负电压后,电解液内的金属阳离子收电场力吸引吸附在具有金属电极的部位,电解沉降在透明保护层上,从而形成金属网格,而得到金属阵列反射层,金属阵列反射层制作完成后,可以在金属网格内部填充透明填充物。然后在金属阵列反射层的另一面粘贴另一块透明保护层(即:第二透明保护层)。该成像器件的制备方法制备的成像器件,具有更高的成像分辨率以及可以有效避免成像重影,从而提升了成像器件的用户使用体验。
74.如图9所示,本发明还提供了另一种成像器件的制备方法,包括:在第一透明保护层上电镀金属种子层;对所述电镀金属种子层进行掩膜、蚀刻和图案化处理,以得到所述金属反射阵列板;将所述金属反射阵列板放置到电解液中,以使所述电解液中的金属阳离子沉积到所述金属反射阵列板上;在所述金属反射阵列板的另一面粘贴第二透明保护层。具体来说,如图9所示,步骤1、2首先在透明保护层上电镀金属种子层,步骤3、4、5对金属种子层图案化,形成希望得到的网格形状。步骤6用带有图案化金属种子层的基板放置到电解液中,以金属种子层作为电极,使金属离子沉积到金属电极上。金属网格制作完成后,在金属网格内部填充透明填充物。步骤7在金属阵列反射层的另一面粘贴透明保护层而制备完成成像器件。该成像器件的制备方法制备的成像器件,具有更高的成像分辨率以及可以有效避免成像重影,从而提升了成像器件的用户使用体验。
75.如图10所示,本发明的实施例中还提供有另一种成像器件的制备方法,包括:在透明介质层上涂覆光刻胶层;对光刻胶层进行图案化处理以形成多个网格;基于所述网格蚀刻所述透明介质层;在所述透明介质层的刻槽内壁电镀金属,以形成所述金属反射阵列板;
在所述金属反射阵列板的一面设置第一透明保护层,在所述金属反射阵列板的另一面设置第二透明保护层。如图10所示,步骤1、2首先在透明保护层上旋涂pr胶(即:光刻胶),步骤3对pr胶层图案化,形成希望得到的网格形状。步骤4蚀刻透明介质层。步骤5在透明介质层孔洞侧壁电镀金属反射层。步骤6在金属阵列网格两侧粘贴透明保护层而制备完成成像器件。该成像器件的制备方法制备的成像器件,具有更高的成像分辨率以及可以有效避免成像重影,从而提升了成像器件的用户使用体验。
76.如图11所示,为金属反射阵列板的掩膜图形采用中空网格紧密排布的形式,从而使行和列中的金属网格成对其分布。当然,还可以使金属网格呈交错分布,如图12所示,金属反射阵列板的掩膜图形采用中空网格采用相间排布的形式,采用间隔排布的方式可以避免透明保护层受压时破坏中间的反射层。
77.该实例中,金属反射阵列板可以具有第一子金属反射阵列板和第二子金属反射阵列板,第一子金属反射阵列板和所述第二子金属反射阵列板贴合。即:金属反射阵列板为两层结构。具体来说,如图13所示,为反射阵列板的另一种制作工艺的示意图,步骤1、2首先在透明介质上旋涂pr胶,步骤3对pr胶层图案化,形成希望得到的网格形状。步骤4深度蚀刻透明介质。步骤5在硅片层孔洞侧壁电镀金属反射层。步骤6进行两层阵列板贴合。步骤7在金属阵列网格两侧粘贴透明保护层而制备完成成像器件。该成像器件的制备方法制备的成像器件,具有更高的成像分辨率以及可以有效避免成像重影,从而提升了成像器件的用户使用体验。
78.如图14所示,图14上方为两层金属反射阵列板中的一个金属反射阵列板的示意图,图14下方为,为采用图14上方的两个金属反射阵列板贴合后的双层金属反射阵列板的示意图。
79.如图15所示,在具体示例中,透明介质层为硅片。相应地,其成像器件的制备方法包括:步骤1、2首先在硅片上旋涂pr胶,步骤3对pr胶层图案化,形成希望得到的网格形状。步骤4深度蚀刻硅片。步骤5在硅片层孔洞侧壁电镀金属反射层,然后将硅片裁切成正方形。步骤6在金属网格的两个面粘贴透明保护层而制备完成成像器件。该成像器件的制备方法制备的成像器件,具有更高的成像分辨率以及可以有效避免成像重影,从而提升了成像器件的用户使用体验。
80.图16为本技术实施例的电子设备的结构示意图。
81.如图16所示,电子设备600包括中央处理单元(cpu)601,其可以根据存储在只读存储器(rom)602中的程序或者从存储部分602加载到随机访问存储器(ram)603中的程序而执行各种适当的动作和处理。在ram 603中,还存储有电子设备600操作所需的各种程序和数据。cpu 601、rom602以及ram 603通过总线604彼此相连。输入/输出(i/o)接口605也连接至总线604。
82.以下部件连接至i/o接口605:包括键盘、鼠标等的输入部分606;包括诸如阴极射线管(crt)、液晶显示器(lcd)等以及扬声器等的输出部分607;包括硬盘等的存储部分608;以及包括诸如lan卡、调制解调器等的网络接口卡的通信部分609。通信部分609经由诸如因特网的网络执行通信处理。驱动器610也根据需要连接至i/o接口605。可拆卸介质611,诸如磁盘、光盘、磁光盘、半导体存储器等等,根据需要安装在驱动器610上,以便于从其上读出的计算机程序根据需要被安装入存储部分608。
83.特别地,根据本技术的实施例,上文参考流程图描述的过程可以被实现为计算机软件程序。例如,本技术的实施例包括一种计算机程序产品,其包括承载在机器可读介质上的计算机程序,该计算机程序包含用于执行流程图所示的方法的程序代码。在这样的实施例中,该计算机程序可以通过通信部分609从网络上被下载和安装,和/或从可拆卸介质611被安装。在该计算机程序被中央处理单元(cpu)601执行时,执行本技术的电子设备中限定的上述功能。
84.需要说明的是,本技术所示的计算机可读介质可以是计算机可读信号介质或者计算机可读存储介质或者是上述两者的任意组合。计算机可读存储介质例如可以是——但不限于——电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的电子设备、系统或器件,或者任意以上的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子可以包括但不限于:具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机访问存储器(ram)、只读存储器(rom)、可擦式可编程只读存储器(eprom或闪存)、光纤、便携式紧凑磁盘只读存储器(cd-rom)、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。在本技术中,计算机可读存储介质可以是任何包含或存储程序的有形介质,该程序可以被指令执行电子设备、系统或者器件使用或者与其结合使用。而在本技术中,计算机可读的信号介质可以包括在基带中或者作为载波一部分传播的数据信号,其中承载了计算机可读的程序代码。这种传播的数据信号可以采用多种形式,包括但不限于电磁信号、光信号或上述的任意合适的组合。计算机可读的信号介质还可以是计算机可读存储介质以外的任何计算机可读介质,该计算机可读介质可以发送、传播或者传输用于由指令执行电子设备、系统或者器件使用或者与其结合使用的程序。计算机可读介质上包含的程序代码可以用任何适当的介质传输,包括但不限于:无线、电线、光缆、rf等等,或者上述的任意合适的组合。
85.附图中的流程图和框图,图示了按照本技术各种实施例的处理接收设备、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上,流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分,前述模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意,在有些作为替换的实现中,方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如,两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行,它们有时也可以按相反的顺序执行,这依所涉及的功能而定。也要注意的是,框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合,可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的电子设备来实现,或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
86.描述于本技术实施例中所涉及到的单元或模块可以通过软件的方式实现,也可以通过硬件的方式来实现。所描述的单元或模块也可以设置在处理器中,处理器用于执行所述程序时实现上述任意一个实施例所述的成像器件的制备方法。
87.作为另一方面,本技术还提供了一种计算机可读存储介质,该计算机可读存储介质可以是上述实施例中描述的电子设备中所包含的;也可以是单独存在,而未装配入该电子设备中的。上述计算机可读存储介质存储有一个或者多个程序,当上述前述程序被一个或者一个以上的处理器用来执行上述任意一个实施例所述的成像器件的制备方法。
88.作为另一方面,本技术还提供了一种计算机程序产品,该计算机程序产品可以是上述实施例中描述的电子设备中所包含的;也可以是单独存在,而未装配入该电子设备中
的。上述计算机程序产品存储有一个或者多个程序,当上述前述程序被一个或者一个以上的处理器用来执行上述任意一个实施例所述的成像器件的制备方法。
89.以上描述仅为本技术的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解,本技术中所涉及的公开范围,并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案,同时也应涵盖在不脱离前述公开构思的情况下,由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本技术中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

技术特征:


1.一种成像器件,其特征在于,包括:第一透明保护层;反射层,所述反射层设置在所述第一透明保护层上,所述反射层包括金属反射阵列板,所述金属反射阵列板形成多个金属网格,其中,所述金属网格的边长根据设定分辨率确定;第二透明保护层,所述第二透明保护层设置在所述反射层上。2.根据权利要求1所述的成像器件,其特征在于,所述金属反射阵列板的厚度与所述金属网格的边张之间的比值根据成像面积确定。3.根据权利要求1或2所述的成像器件,其特征在于,所述金属网格呈多行多列排布。4.根据权利要求3所述的成像器件,其特征在于,相邻两行之间的金属网格交错设置。5.根据权利要求1所述的成像器件,其特征在于,还包括:透明填充物,所述透明填充物填充在所述金属网格内。6.一种成像器件的制备方法,其特征在于,所述成像器件为根据权利要求1-5任一项所述的成像器件,所述制备方法包括:在容器底部的外表面铺设金属反射阵列板,其中,所述容器底部由第一透明保护层构成,其中,所述容器内容纳有电解液,所述电解液内包括金属阳离子;向所述金属反射阵列板通入负电压,以使所述金属阳离子沉降到所述第一透明保护层上;在所述金属反射阵列板的另一面粘贴第二透明保护层。7.一种成像器件的制备方法,其特征在于,所述成像器件为根据权利要求1-5任一项所述的成像器件,所述制备方法包括:在第一透明保护层上电镀金属种子层;对所述电镀金属种子层进行掩膜、蚀刻和图案化处理,以得到所述金属反射阵列板;将所述金属反射阵列板放置到电解液中,以使所述电解液中的金属阳离子沉积到所述金属反射阵列板上;在所述金属反射阵列板的另一面粘贴第二透明保护层。8.一种成像器件的制备方法,其特征在于,所述成像器件为根据权利要求1-5任一项所述的成像器件,所述制备方法包括:在透明介质层上涂覆光刻胶层;对光刻胶层进行图案化处理以形成多个网格;基于所述网格蚀刻所述透明介质层;在所述透明介质层的刻槽内壁电镀金属,以形成所述金属反射阵列板;在所述金属反射阵列板的一面设置第一透明保护层,在所述金属反射阵列板的另一面设置第二透明保护层。9.根据权利要求8所述的成像器件的制备方法,其特征在于,所述金属反射阵列板具有第一子金属反射阵列板和第二子金属反射阵列板,所述第一子金属反射阵列板和所述第二子金属反射阵列板贴合。10.根据权利要求8所述的成像器件的制备方法,其特征在于,所述透明介质层为硅片。

技术总结


本申请公开了一种成像器件及其制备方法。其中,成像器件,包括:第一透明保护层;反射层,所述反射层设置在所述第一透明保护层上,所述反射层包括金属反射阵列板,所述金属反射阵列板形成多个金属网格,其中,所述金属网格的边长根据设定分辨率确定;第二透明保护层,所述第二透明保护层设置在所述反射层上。本申请实施例,可以有效地提升成像器件的成像分辨率,从而提升用户观看体验。从而提升用户观看体验。从而提升用户观看体验。


技术研发人员:

杜志宏 朱昕彤 李文波 张寒冰 刘金豆

受保护的技术使用者:

京东方科技集团股份有限公司

技术研发日:

2022.09.27

技术公布日:

2022/12/19

本文发布于:2024-09-22 15:37:30,感谢您对本站的认可!

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