(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 202021449437.0
(22)申请日 2020.07.21
(73)专利权人 东莞市致辉线路板设备有限公司
地址 523000 广东省东莞市大岭山镇农场
社区工业路B区
(72)发明人 梁伟裕 覃军平 杨景章 黄婷婷
(74)专利代理机构 东莞高瑞专利代理事务所
(普通合伙) 44444
代理人 杨英华
(51)Int.Cl.
H05K 3/06(2006.01)
(54)实用新型名称
(57)摘要
本实用新型公开一种内循环二流体蚀刻系
干喷咀，密封机箱的底部设有储存药水的药水
池；药水管路设有药水泵连接药水池；高压气体
管路设有高压气泵，高压气泵的进气口位于密封
机箱内；若干喷咀并列设置位于密封机箱内，分
别连接药水管路和高压气体管路。本实用新型提
供的内循环二流体蚀刻系统，采用高压气体和药
水混合形成二流体喷出，喷出的喷雾药水颗粒
小，更加容易进入微细线路间进行交换蚀刻，而
且喷出力度大，有效提高蚀刻效率；高压气体管
路形成内循环，有效抑制雾化药水向机箱外泄
漏，减少药水的流失；而且设备结构简单，不需要
单独的药水回收系统，节省了设备的成本及使用
成本。权利要求书1页 说明书3页 附图2页CN 212851242 U 2021.03.30
C N 212851242
U
1.一种内循环二流体蚀刻系统，其特征在于，包括：
密封机箱，其底部设有储存药水的药水池；
药水管路，其设有药水泵连接所述药水池；
高压气体管路，其设有高压气泵，所述高压气泵的进气口位于所述密封机箱内；以及若干喷咀，其并列设置位于密封机箱内，分别连接所述药水管路和所述高压气体管路。
2.根据权利要求1所述的内循环二流体蚀刻系统，其特征是，所述高压气泵的进气口设有进气过滤器。
3.根据权利要求1所述的内循环二流体蚀刻系统，其特征是，所述药水泵的进液口设有过滤罩，出液口依次设有一级过滤器和二级过滤器。
4.根据权利要求1所述的内循环二流体蚀刻系统，其特征是，还包括：
喷管，其一端封闭，另一端连接所述药水管路；
导气管，其一端封闭，另一端连接所述高压气体管路；
每个所述喷咀分别连接所述喷管和所述导气管。
5.根据权利要求1至4任一所述的内循环二流体蚀刻系统，其特征是，还包括：
吸水刀，其间隔置于蚀刻工作面上方，吸干基板表面药水回收至所述药水池内。
6.根据权利要求5所述的内循环二流体蚀刻系统，其特征是，还包括：
负压系统，其设有真空发生器和负压管路，所述真空发生器连接所述负压管路，所述负压管路连接所述吸水刀。
权 利 要 求 书1/1页CN 212851242 U
一种内循环二流体蚀刻系统
技术领域
[0001]本实用新型涉及线路板加工的技术领域，具体是一种内循环二流体蚀刻系统。
背景技术
[0002]线路板加工过程中需要使用蚀刻系统，将药水喷淋到基板上，发生化学反应，线路板上非线路部分的铜层被腐蚀处理掉。现有技术中采用单一药水直接喷淋，喷出的雾粒直径大，喷出速度慢，新出的药水更新频率低，导致蚀刻效率低，线路间隙蚀刻不充分，不能应用于微细线路的蚀刻。另外现有设备还需要单独的药水回收系统，增加了设备的成本及过多的占用使用成本。
[0003]因此，需要解决上述技术问题。
发明内容
[0004]本实用新型针对以上技术问题，提供一种内循环二流体蚀刻系统，采用高压气体和药水混合形成二流体喷出，喷出的喷雾药水颗粒小，更加容易进入微细线路内进行交换蚀刻，而且喷出力度大，有效提高蚀刻效率；高压气体管路形成内循环，有效抑制雾化药水向机箱外泄漏，减少药水的流失；而且设备结构简单，不需要单独的药水回收系统，节省了设备的成本及使用成本。
[0005]为实现上述目的，本实用新型的技术方案是：
[0006]一种内循环二流体蚀刻系统，包括：
[0007]密封机箱，其底部设有储存药水的药水池；
[0008]药水管路，其设有药水泵连接所述药水池；
[0009]高压气体管路，其设有高压气泵，所述高压气泵的进气口位于所述密封机箱内；以及
[0010]若干喷咀，其并列设置位于密封机箱内，分别连接所述药水管路和所述高压气体管路。
[0011]上述内循环二流体蚀刻系统采用高压气体和药水混合形成二流体喷出，喷出的喷雾药水颗粒小，更加容易进入微细线路内进行交换蚀刻，而且喷出力度大，有效提高蚀刻效率；高压气体管路形成内循环，有效抑制雾化药水向机箱外泄漏，减少药水的流失；而且设备结构简单，不需要单独的药水回收系统，节省了设备的成本及使用成本。
[0012]进一步所述高压气泵的进气口设有进气过滤器。
[0013]进一步所述药水泵的进液口设有过滤罩，出液口依次设有一级过滤器和二级过滤器。
[0014]进一步该内循环二流体蚀刻系统还包括：
[0015]喷管，其一端封闭，另一端连接所述药水管路；
[0016]导气管，其一端封闭，另一端连接所述高压气体管路；
[0017]每个所述喷咀分别连接所述喷管和所述导气管。
[0018]上述内循环二流体蚀刻系统采用喷管和导气管安装连通若干喷咀，喷咀布置安装简便快捷。
[0019]进一步该内循环二流体蚀刻系统还包括：吸水刀，其间隔置于蚀刻工作面上方，吸干基板表面药水回收至所述药水池内。采用吸水刀吸干基板表面已发生化学反应的药水，使得后续喷出的药水重新充分附着于基板表面进行蚀刻，由此减弱水池效应，保证蚀刻更均匀。
[0020]进一步该内循环二流体蚀刻系统还包括：负压系统，其设有真空发生器和负压管路，所述真空发生器连接所述负压管路，所述负压管路连接所述吸水刀。负压系统产生负压作用于吸水刀，使得吸水刀的吸水效果更好。
[0021]本实用新型与现有技术相比具有如下技术优点：
[0022]1、该内循环二流体蚀刻系统采用高压气体和药水混合形成二流体喷出，喷出的喷雾药水颗粒小，更加容易进入微细线路内进行交换蚀刻，而且喷出力度大，有效提高蚀刻效率；
[0023]2、该内循环二流体蚀刻系统的负压系统采用真空发生器产生负压通过负压管路连接吸水刀，吸水刀间隔置于蚀刻工作面上方，负责将基板上表面已发生化学反应的药水及时吸干，后续喷咀喷出的药水重新充分附着与基板表面进行蚀刻，由此减弱水池效应，使蚀刻更均匀；
[0024]3、高压气体管路的高压气泵进气口位于喷咀所在的密封机箱内，高压气泵出气口管路连接喷咀进
气口，这样高压气体管路形成内循环，喷咀喷出的雾化药水经高压气泵循环又回到了喷咀进气口再次喷出，有效抑制雾化药水向机箱外泄漏，减少药水的流失；而且设备结构简单，不需要单独的药水回收系统，节省了设备的成本及使用成本。
附图说明
[0025]图1是本实用新型实施例的主视图；
[0026]图2是图1俯视图；
[0027]图3是图1中药水管路和高压气体管路的示意图。
具体实施方式
[0028]下面将结合附图中的实施例对本实用新型作进一步地详细说明。
[0029]如图1至3所示，本实用新型的内循环二流体蚀刻系统，包括密封机箱10、药水管路20、高压气体管路30、若干喷咀40、喷管50、导气管60、吸水刀70和负压系统80。
[0030]如图1所示，密封机箱10的底部设有储存药水的药水池11。
[0031]如图1至3所示，药水管路20包括药水泵22、过滤罩21、一级过滤器23、二级过滤器24以及相互间连接的药水管道，药水泵22连接药水池11，药水泵22的进液口设有过滤罩21，出液口依次设有一级过滤器23和二级过滤器24；药水管路20的药水输出分为上下两个分支。
[0032]如图1/3所示，高压气体管路30包括高压气泵31、进气过滤器32和连接用的气体管道，高压气泵31的进气口位于密封机箱10内，高压气泵31的进气口设有进气过滤器 32；高压气体管路30的气体输出分为上下两个分支。
[0033]如图1所示，若干喷咀40分为上下两排，分别对应基板的上下两面，每排的各喷咀 40并列设置，整体位于密封机箱10内，上下两排的喷咀40分别对应上下两个分支的药水管路20和高压气体管路30，各喷咀40分别连接对应的药水管路20和高压气体管路30。[0034]该内循环二流体蚀刻系统采用高压气体和药水混合形成二流体喷出，喷出的喷雾药水颗粒小，更加容易进入微细线路内进行交换蚀刻，而且喷出力度大，有效提高蚀刻效率；高压气体管路形成内循环，有效抑制雾化药水向机箱外泄漏，减少药水的流失；而且设备结构简单，不需要单独的药水回收系统，节省了设备的成本及使用成本。
[0035]如图1/3所示，喷管50的一端封闭，另一端连接药水管路20；导气管60的一端封闭，另一端连接高压气体管路30；每个喷咀40分别连接喷管50和导气管60，喷咀40的一端为高压气体的进气口，中间为药水的进液口，另一端为高压气体和药水混合的喷出口。内循环二流体蚀刻系统采用喷管和导气管安装连通若干喷咀，喷咀的布置安装简便快捷。
[0036]如图1所示，吸水刀70间隔置于蚀刻工作面上方，吸干基板表面药水回收至药水池 11内。采用吸水刀吸干基板表面已发生化学反应的药水，使得后续喷出的药水重新充分附着于基板表面进行蚀刻，由此减弱水池效应，保证蚀刻更均匀。
[0037]如图1/2所示，负压系统80设有真空发生器81和负压管路82，真空发生器81连接负压管路82，负压管路82连接吸水刀70。负压系统产生负压作用于吸水刀，使得吸水刀的吸水效果更好。
[0038]综上所述，本实用新型如说明书及图示内容，制成实际样品且经多次使用测试，从测试效果看，证明该实用新型能达到预期目的，实用性毋庸置疑。以上所举实施例仅用来方便说明该实用新型的内容，并非对其作形式上的限制；任何所属技术领域中具有公知常识者，在不脱离本实用新型所提技术特征及相似特征的范畴，利用该实用新型所揭示技术内容所作出局部更改或修饰的等效实施例，均属于本实用新型的保护范围。
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