一种超薄ZIF-67纳米片及其制备方法

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 114163652 A (43)申请公布日 2022.03.11

(21)申请号 CN202111511020.1

(22)申请日 2021.12.11

(71)申请人上海工程技术大学

地址 201620 上海市松江区龙腾路333号

(72)发明人芮一川金作明徐雨田石江珊王晓洁

(74)专利代理机构 31225 上海科盛知识产权代理有限公司

代理人褚明伟

(51)Int.CI

C08G83/00(20060101)

B82Y30/00(20110101)

B82Y40/00(20110101)

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种超薄ZIF-67纳米片及其制备方法

(57)摘要

本发明涉及超薄二维修饰金属有机框架材料技术领域，尤其是涉及一种超薄ZIF‑67纳米片及其制备方法。本发明采用价格较低的六水合硝酸钴或六水合氯化钴为钴源做框架结构的金属节点，以二甲基咪唑为有机配体做框架的支架，用无水乙醇和N,N‑二甲基甲酰胺为溶剂；在室温条件下反应30分钟后陈化24小时，经离心清洗干燥处理后，得到超薄ZIF‑67纳米片。本发明制备得到的ZIF‑67纳米片呈二维片层结构，其尺寸大小20‑200nm，厚度为5‑10nm。与现有技术相比，本发明具有产品反应温度低，制备工艺简便，成本低廉和可规模化合成，产品本身尺寸更小且更易控制，比表面积更大以及活性位点更多等优点。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2022-03-11	公开	发明专利申请公布
2022-03-29	实质审查的生效IPC(主分类):C08G83/00专利申请号:2021115110201申请日:20211211	实质审查的生效
2023-04-28	授权	发明专利权授予