光掩膜版及其制作方法[发明专利]

专利名称：光掩膜版及其制作方法专利类型：发明专利

发明人：陈新晋

申请号：CN201811426610.2申请日：20181127

公开号：CN111221214A

公开日：

20200602

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明提供一种光掩膜版及其制作方法，其中，所述光掩膜版至少包括：版本体，保护膜；其中，所述保护膜可拆卸安装于所述版本体上，以保护所述版本体表面。本发明的光掩膜版及其制作方法，具有以下有益效果：本发明的光掩膜版，保护膜可拆卸安装于版本体上，并且保护膜和版本体之间可根据需要设计制作多种机械连接结构，安装便捷，保护膜破损时更便于拆卸维修；相较于现有技术，不采用胶合方式，而是采用机械连接结构，因而不会出现底胶漏气的问题，也就避免了由于底胶漏气所引起的光掩膜版发雾的问题，同时在保护膜破损需要拆卸维修时，不会因移除残留底胶而造成光掩膜版和清洗机器被污染。

申请人：芯恩(青岛)集成电路有限公司

地址：266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401

国籍：CN

代理机构：上海光华专利事务所(普通合伙)

代理人：余明伟

本文发布于:2024-09-20 21:36:58，感谢您对本站的认可！

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