一种溶解吸收装置和蚀刻设备的制作方法

1.本实用新型涉及电路板制造技术领域，尤其涉及一种溶解吸收装置和蚀刻设备。

背景技术：

2.印制线路板(printed circuit board，pcb)制程的蚀刻工序中会使用大量的氧化剂，目前酸性蚀刻液再生及提铜装置利用电解产生的代替部分氧化剂的使用，但回用效率不高，一般在50％左右，有些甚至于只有20-30％，效率太低，未被回用的需要进行处理。
3.目前处理的方法是通过氯化亚铁或者液碱吸收，由于溶解吸收缸与蚀刻机的副缸相连，而副缸内同时还设有氧化剂和盐酸添加管道，因此蚀刻机副缸药水和溶解吸收缸内药水浓度会存在一定延迟，主要体现在酸度和氧化还原电位上，溶解吸收缸内氧化还原电位的降低滞后于副缸。取样盒对副缸药水进行各项参数分析，当orp(氧化还原电位)探测器检测到实际值比设定值低时，该控制器会控制氧化剂添加管道添加氧化剂，添加后的蚀刻液orp已升高，溶解吸收缸内的orp随之提前升高，无法充分吸收，导致回用率低，未回用的处理成本高。
4.因此亟需一种溶解吸收装置和蚀刻设备，以解决上述的技术问题。

技术实现要素：

5.基于以上所述，本实用新型的目的在于提供一种溶解吸收装置和蚀刻设备，能够大幅提高的回用率，降低未回用的处理成本。
6.为达上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
7.第一方面，提供一种溶解吸收装置，包括：
8.溶解吸收缸，其内设有用于进行气液混合反应的腔体，所述溶解吸收缸上设有进液端和排液端，所述进液端通过进液管与蚀刻机主缸连通，所述排液端通过排液管与所述蚀刻机主缸连通；以及
9.输液泵，设置于所述进液管，所述输液泵用于将所述蚀刻机主缸内的蚀刻液泵送至所述溶解吸收缸中。
10.作为溶解吸收装置的一个可选的技术方案，所述溶解吸收装置还包括射流器，所述射流器设于所述进液端，所述射流器上设有进液口、进气口和射出口，所述进液端与所述进液口连通，待吸收的经所述进气口通入，所述射出口经所述进液端伸入所述溶解吸收缸中。
11.作为溶解吸收装置的一个可选的技术方案，所述腔体中设有竖直设置的隔板，所述隔板将所述腔体间隔为第一腔体和第二腔体，所述第一腔体和所述第二腔体的底部相互连通，所述进液端与所述第一腔体连通，所述排液端与所述第二腔体连通。
12.作为溶解吸收装置的一个可选的技术方案，所述第一腔体和所述第二腔体还
通过内部循环系统连通，所述内部循环系统包括循环泵、循环管路和喷淋组件，所述循环管路的一端与所述第一腔体的下部连通，所述循环管路的另一端与所述喷淋组件连通，所述循环泵连接于所述循环管路，所述循环泵用于将所述第一腔体中的气液混合物泵送至所述喷淋组件，所述喷淋组件伸入所述第二腔体的上部并用于将气液混合物自上而下喷淋至所述第二腔体内。
13.作为溶解吸收装置的一个可选的技术方案，所述排液端设置为溢流口，所述溢流口设置于所述第二腔体的上部位置。
14.作为溶解吸收装置的一个可选的技术方案，所述喷淋组件包括喷淋卡板和至少两根并排水平设置的喷淋管，所述喷淋卡板固定于所述第二腔体内的上端，所述喷淋卡板上设有限位槽，所述喷淋管卡设于所述限位槽中，所述喷淋管与所述循环管路连通，所述喷淋管上设有多个喷淋口，所述喷淋口与竖直方向呈45度夹角朝下设置。
15.作为溶解吸收装置的一个可选的技术方案，所述第二腔体内设有至少两个沿竖直方向排列的喷淋孔板，所述喷淋孔板沿水平方向设置，所述喷淋孔板均设于所述喷淋管的下方，所述喷淋孔板上设有多个呈蜂窝状排布的让位孔。
16.作为溶解吸收装置的一个可选的技术方案，所述进液管和所述排液管均采用硬质聚氯乙烯管。
17.第二方面，还提供一种蚀刻设备，包括蚀刻机主缸和上述的溶解吸收装置。
18.作为蚀刻设备的一个可选的技术方案，所述蚀刻设备还包括蚀刻机副缸，所述蚀刻机副缸与所述蚀刻机主缸连通，所述蚀刻机副缸用于向所述蚀刻机主缸补充氧化剂。
19.本实用新型的有益效果为：
20.本实用新型提供的溶解吸收装置采用了溶解吸收缸与蚀刻机主缸直接连通的布局，通过输液泵将蚀刻机主缸内的蚀刻液直接泵送至溶解吸收缸中与待吸收的进行反应。由于蚀刻后的一价铜主要集中在蚀刻机主缸内，将其抽至溶解吸收缸后可以最大程度吸收，吸收后的蚀刻液氧化还原电位升高并继续回到蚀刻机主缸进行蚀刻。本实用新型提供的溶解吸收装置能够大幅提高的回用率，降低未回用的处理成本。
附图说明
21.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对本实用新型实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据本实用新型实施例的内容和这些附图获得其他的附图。
22.图1是本实用新型提供的溶解吸收装置的结构示意图；
23.图2是本实用新型提供的溶解吸收装置的内部结构示意图；
24.图3是本实用新型提供的喷淋卡板的结构示意图；
25.图4是本实用新型提供的喷淋管的结构示意图。
26.图中：
27.100、溶解吸收缸；110、溢流口；120、泄压阀；200、输液泵；300、射流器；301、进液口；302、进气口；303、射出口；10、进液管；20、排液管；1、隔板；2、第一腔体；3、第二腔体；4、
喷淋组件；41、喷淋卡板；411、限位槽；42、喷淋管；421、喷淋口；5、喷淋孔板。
具体实施方式
28.为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施例的技术方案作进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
29.本实施例提供一种蚀刻设备，用于蚀刻印制线路板上的多余覆铜，蚀刻设备包括刻机主缸和溶解吸收装置，溶解吸收装置用于吸收和溶解，如图1-图4所示，溶解吸收装置包括溶解吸收缸100和输液泵200，溶解吸收缸100内设有用于进行气液混合反应的腔体，溶解吸收缸100上设有进液端和排液端，进液端通过进液管10与蚀刻机主缸连通，排液端通过排液管20 与蚀刻机主缸连通；输液泵200设置于进液管10，输液泵200用于将蚀刻机主缸内的蚀刻液泵送至溶解吸收缸100中。
30.具体而言，本实施例提供的溶解吸收装置采用了溶解吸收缸100与蚀刻机主缸直接连通的布局，通过输液泵200将蚀刻机主缸内的蚀刻液直接泵送至溶解吸收缸100中与待吸收的进行反应。由于蚀刻后的一价铜主要集中在蚀刻机主缸内，将其抽至溶解吸收缸100后可以最大程度吸收，吸收后的蚀刻液氧化还原电位升高并继续回到蚀刻机主缸进行蚀刻。本实施例提供的溶解吸收装置能够大幅提高的回用率，降低未回用的处理成本。
31.可选的，溶解吸收装置还包括射流器300，射流器300设于进液端，射流器300上设有进液口301、进气口302和射出口303，进液端与进液口301连通，进气口302与进气管路连通，待吸收的经进气口302通入，射出口303 经进液端伸入溶解吸收缸100中。具体地，输液泵200将蚀刻液从进液口301 泵送至射流器300内，此时在进气口302处形成负压，吸入进气管路中的，与蚀刻液在射流器300中充分混合后，从射出口303进入溶解吸收缸100 的腔体内，从而提高的吸收效率。
32.可选的，腔体中设有竖直设置的隔板1，隔板1将腔体间隔为第一腔体2和第二腔体3，第一腔体2和第二腔体3的底部相互连通，进液端与第一腔体2连通，排液端与第二腔体3连通，气液混合物在依次流经第一腔体2和第二腔体3 后，从排液端流出。
33.进一步的，第一腔体2和第二腔体3还通过内部循环系统连通，内部循环系统包括循环泵(图中未示出)、循环管路(图中未示出)和喷淋组件4，循环管路的一端与第一腔体2的下部连通，循环管路的另一端与喷淋组件4连通，循环泵连接于循环管路，循环泵用于将第一腔体2中的气液混合物泵送至喷淋组件4，喷淋组件4伸入第二腔体3的上部并用于将气液混合物自上而下喷淋至第二腔体3内。
34.具体地，如图3和图4所示，喷淋组件4包括喷淋卡板41和至少两根并排水平设置的喷淋管42，喷淋卡板41固定于第二腔体3内的上端，喷淋卡板41 上设有限位槽411，喷淋管42卡设于限位槽411中，喷淋管42与循环管路连通，喷淋管42上设有多个喷淋口421，喷淋口421与竖直方向呈45度夹角朝下设置。在本实施例中，喷淋管42并排设置有两根。
35.第二腔体3内设有至少两个沿竖直方向排列的喷淋孔板5，喷淋孔板5沿水平方向
设置，喷淋孔板5均设于喷淋管42的下方，喷淋孔板5上设有多个呈蜂窝状排布的让位孔，喷淋出的气液混合物可通过让位孔流至下方，喷淋孔板5 能够减缓蚀刻液从第二腔体3上方流向下方的速度，增加气液反应的时间，有利于进一步提高蚀刻液中的溶解程度。
36.可选的，排液端设置为溢流口110，溢流口110设置于第二腔体3的上部位置。第二腔体3中蚀刻液的液位在高于溢流口110的最低点后，即从溢流口110 流出并回流至蚀刻机主缸中
37.优选的，第二腔体3上形成有泄压口，泄压口上安装有泄压阀120，由于腔体中进行的是气液混合反应，因此会产生一定的气体压力，安装泄压阀120能有效防止腔体内气压过大，保证生产安全；泄压口同时还可以用作连接化气塔用，用于停机时的余氯处理。
38.可选的，进液管10和排液管20均采用硬质聚氯乙烯管。
39.优选的，蚀刻设备还包括蚀刻机副缸，蚀刻机副缸与蚀刻机主缸连通，蚀刻机副缸中设有氧化剂和酸度添加系统，蚀刻机副缸作为一个辅助添加装置，用于在orp低于预设值时向蚀刻机主缸补充氧化剂，以保证蚀刻机内蚀刻液的 orp在要求范围内。
40.注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。

技术特征：

1.一种溶解吸收装置，其特征在于，包括：溶解吸收缸(100)，其内设有用于进行气液混合反应的腔体，所述溶解吸收缸(100)上设有进液端和排液端，所述进液端通过进液管(10)与蚀刻机主缸连通，所述排液端通过排液管(20)与所述蚀刻机主缸连通；以及输液泵(200)，设置于所述进液管(10)，所述输液泵(200)用于将所述蚀刻机主缸内的蚀刻液泵送至所述溶解吸收缸(100)中。2.根据权利要求1所述的溶解吸收装置，其特征在于，所述溶解吸收装置还包括射流器(300)，所述射流器(300)设于所述进液端，所述射流器(300)上设有进液口(301)、进气口(302)和射出口(303)，所述进液端与所述进液口(301)连通，待吸收的经所述进气口(302)通入，所述射出口(303)经所述进液端伸入所述溶解吸收缸(100)中。3.根据权利要求2所述的溶解吸收装置，其特征在于，所述腔体中设有竖直设置的隔板(1)，所述隔板(1)将所述腔体间隔为第一腔体(2)和第二腔体(3)，所述第一腔体(2)和所述第二腔体(3)的底部相互连通，所述进液端与所述第一腔体(2)连通，所述排液端与所述第二腔体(3)连通。4.根据权利要求3所述的溶解吸收装置，其特征在于，所述第一腔体(2)和所述第二腔体(3)还通过内部循环系统连通，所述内部循环系统包括循环泵、循环管路和喷淋组件(4)，所述循环管路的一端与所述第一腔体(2)的下部连通，所述循环管路的另一端与所述喷淋组件(4)连通，所述循环泵连接于所述循环管路，所述循环泵用于将所述第一腔体(2)中的气液混合物泵送至所述喷淋组件(4)，所述喷淋组件(4)伸入所述第二腔体(3)的上部并用于将气液混合物自上而下喷淋至所述第二腔体(3)内。5.根据权利要求4所述的溶解吸收装置，其特征在于，所述排液端设置为溢流口(110)，所述溢流口(110)设置于所述第二腔体(3)的上部位置。6.根据权利要求4所述的溶解吸收装置，其特征在于，所述喷淋组件(4)包括喷淋卡板(41)和至少两根并排水平设置的喷淋管(42)，所述喷淋卡板(41)固定于所述第二腔体(3)内的上端，所述喷淋卡板(41)上设有限位槽(411)，所述喷淋管(42)卡设于所述限位槽(411)中，所述喷淋管(42)与所述循环管路连通，所述喷淋管(42)上设有多个喷淋口(421)，所述喷淋口(421)与竖直方向呈45度夹角朝下设置。7.根据权利要求6所述的溶解吸收装置，其特征在于，所述第二腔体(3)内设有至少两个沿竖直方向排列的喷淋孔板(5)，所述喷淋孔板(5)沿水平方向设置，所述喷淋孔板(5)均设于所述喷淋管(42)的下方，所述喷淋孔板(5)上设有多个呈蜂窝状排布的让位孔。8.根据权利要求1所述的溶解吸收装置，其特征在于，所述进液管(10)和所述排液管(20)均采用硬质聚氯乙烯管。9.一种蚀刻设备，其特征在于，包括蚀刻机主缸和如权利要求1-8任一项所述的溶解吸收装置。10.根据权利要求9所述的蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻设备还包括蚀刻机副缸，所述蚀刻机副缸与所述蚀刻机主缸连通，所述蚀刻机副缸用于向所述蚀刻机主缸补充氧化剂。

技术总结

本实用新型涉及电路板制造技术领域，公开一种溶解吸收装置和蚀刻设备，溶解吸收装置包括：溶解吸收缸，其内设有用于进行气液混合反应的腔体，所述溶解吸收缸上设有进液端和排液端，所述进液端通过进液管与蚀刻机主缸连通，所述排液端通过排液管与所述蚀刻机主缸连通；以及输液泵，设置于所述进液管，所述输液泵用于将所述蚀刻机主缸内的蚀刻液泵送至所述溶解吸收缸中。本实用新型提供的溶解吸收装置能够大幅提高的回用率，降低未回用的处理成本。用的处理成本。用的处理成本。