光刻胶参数及光刻工艺

光刻胶参数及光刻工艺
1、正性光刻胶RZJ-304
●规格
RZJ-304:25mpa·s,50mpa·s(粘稠度),配用显影液:RZX-3038
●匀胶曲线
注:粉为50cp,蓝为25cp
●推荐工艺条件
①涂布:23℃,旋转涂布,膜厚1.0~3.5μm
②前烘:热板100℃×90sec
③曝光:50~75mj/cm2(计算方法:取能量60mj/cm2取光强400×102um/cm2,则60/40=1.5s)
④显影:23℃,RZX-3038,1min,喷淋或浸渍
清洗:去离子水30sec
⑤后烘:热板120℃×120sec
●规格
S1813,配用显影液为ZX-238
●匀胶曲线
●推荐工艺条件1(以具体工艺为参考)
①涂布:23℃,旋转涂布,膜厚1.23um(1.1~1.9μm)
②前烘:热板115℃×60sec
③曝光:150mj/cm2
④显影:21℃,ZX-238,65sec,喷淋或浸渍
⑤清洗:去离子水30sec
⑥后烘:热板125℃×120sec
●规格
AZ-5214,配用显影液AZ-300
●匀胶表格(单位:微米)
●推荐工艺条件1(以具体工艺为参考)
①涂布:23℃,旋转涂布,膜厚1.47um(1.14~1.98μm)
②前烘:热板100℃×90sec
③曝光:240mj/cm2
④后烘:115℃×120sec
⑤泛曝光:>200mj/cm2
⑥显影:21℃,AZ-300,60sec,喷淋或浸渍
⑦清洗:去离子水30sec
⑧坚膜:热板120℃×180sec
注意:
紧急救护措施(对于光刻胶)
①吸入:转移至空气新鲜处,必要时进行人工呼吸或就医。
②皮肤接触:肥皂水清洗后自来水清洗。
③眼睛接触:流动清水清洗15分钟以上,必要时就医。

本文发布于:2024-09-20 13:23:05,感谢您对本站的认可!

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