电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置的制作方法

1.本发明涉及电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置。

背景技术：

2.在日本特开平5-19507号公报中公开了一种电子照相感光体，其是在导电性支撑体上至少具有由电荷产生层和电荷传输层构成的层积型感光层的电子照相感光体，其特征在于，电荷产生层中包含：由在分子中具有2个以上羧基的多元酸化合物构成的吸湿剂。

技术实现要素：

3.关于在导电性基体上依序设有电荷产生层和电荷传输层的电子照相感光体，例如，在导电性基体上形成电荷产生层后，将包含溶剂的电荷传输层形成用涂布液涂布在电荷产生层上并使其干燥，由此形成电荷传输层。于是，在电荷产生层含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物的情况下，若将电荷传输层形成用涂布液涂布在电荷产生层上，则可能由于电荷传输层形成用涂布液中的溶剂作用而使电荷产生层中的乙烯基系共聚物的一部分溶解。
4.并且，在将电荷传输层形成用涂布液涂布在电荷产生层上的工序中，通常使用浸渍涂布法。在浸渍涂布法中，将在外周面形成有电荷产生层的导电性基体以导电性基体的轴向一端朝向下方的状态浸渍在电荷传输层形成用涂布液中，将其拉起。由此，电荷传输层形成用涂布液附着在电荷产生层上。
5.因此，在导电性基体的轴向上的下方侧端部与上方侧端部，电荷传输层形成用涂布液附着于电荷产生层上的时间不同。由此，在电子照相感光体的轴向的一端和另一端产生电学特性差异，特别是，电学特性中的感光度会产生差异，由此可能使该差异以图像浓度差的形式表现出。
6.本发明的目的在于提供一种电子照相感光体，与电荷产生层含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物且乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元以及来自马来酸的结构单元的情况、具有氯的结构单元相对于全部结构单元的比例小于80质量％的情况、上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元相对于全部结构单元的比例小于0.5质量％的情况、或者乙烯基系共聚物在四氢呋喃100质量份中的溶解度大于10质量份的情况相比，本发明的电子照相感光体可抑制电子照相感光体轴向上的图像浓度差。
7.根据本发明的第1方案，提供一种电子照相感光体，其具有：导电性基体；电荷产生层，其设于上述导电性基体上，含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物，上述乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元和具有芳香族多元羧酸结构的结构单元，上述具有氯的结构单元相对于全部结构单元的比例为80质量％以上，上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元相对于全部结构单元的比例为0.5质量％以上；以及电荷传输层，其设于上述电荷产生层上，含有电荷传输材料和粘结性树脂。
8.根据本发明的第2方案，相对于构成上述乙烯基系共聚物的全部结构单元，上述具
有氯的结构单元的比例为88质量％以下。
9.根据本发明的第3方案，相对于构成上述乙烯基系共聚物的全部结构单元，上述具有氯的结构单元的比例为80质量％以上87质量％以下。
10.根据本发明的第4方案，提供一种电子照相感光体，其具有：导电性基体；电荷产生层，其设于上述导电性基体上，含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物，上述乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元和具有芳香族多元羧酸结构的结构单元，上述乙烯基系共聚物在30℃的四氢呋喃100质量份中的溶解度为10质量份以下；以及电荷传输层，其设于上述电荷产生层上，含有电荷传输材料和粘结性树脂。
11.根据本发明的第5方案，设上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元相对于构成上述乙烯基系共聚物的全部结构单元的比例为a质量％、设上述电荷产生材料相对于上述乙烯基系共聚物的含量为c质量％时，a/c的值为3.00
×
10-3
以上1.40
×
10-2
以下。
12.根据本发明的第6方案，上述具有氯的结构单元由下述通式(1)所表示，上述具有酰氧基的结构单元由下述通式(2)所表示。
[0013][0014]
[上述通式(1)中，r
11
～r
13
各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，上述通式(2)中，r
21
～r
23
各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，r
24
表示碳原子数1～5的烷基。]
[0015]
根据本发明的第7方案，上述通式(1)中的r
11
～r
13
均为氢原子，上述通式(2)中的r
21
～r
23
均为氢原子，r
24
为甲基。
[0016]
根据本发明的第8方案，上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元为具有邻苯二甲酸结构的结构单元。
[0017]
根据本发明的第9方案，提供一种在图像形成装置中装卸的处理盒，其具备上述电子照相感光体。
[0018]
根据本发明的第10方案，提供一种图像形成装置，其具备：上述电子照相感光体；充电机构，对上述电子照相感光体表面进行充电；静电潜像形成机构，在经充电的上述电子照相感光体表面形成静电潜像；显影机构，利用包含调剂的显影剂将形成在上述电子照相感光体表面的静电潜像显影，形成调剂图像；以及转印机构，将上述调剂图像转印至记录介质表面。
[0019]
发明的效果
[0020]
根据上述第1方案，提供一种电子照相感光体，与电荷产生层含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物且乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元以及来自马来酸的结构单元的情况、具有氯的结构单元相对于全部结构单元的比例小于80质量％的情况、或者上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元相对于全部结构单元的比例小于
0.5质量％的情况相比，该方案的电子照相感光体可抑制电子照相感光体轴向上的图像浓度差。
[0021]
根据上述第2方案，与具有氯的结构单元的比例大于88质量％的情况相比，可提供感光度高的电子照相感光体。
[0022]
根据上述第3方案，与具有氯的结构单元的比例小于80质量％或大于87质量％的情况相比，可提供兼顾电子照相感光体轴向上的图像浓度差的抑制和高感光度的电子照相感光体。
[0023]
根据上述第4方案，与电荷产生层含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物、乙烯基系共聚物在四氢呋喃100质量份中的溶解度大于10质量份的情况相比，可提供电子照相感光体轴向上的图像浓度差受到抑制的电子照相感光体。
[0024]
根据上述第5方案，与a/c的值小于3.00
×
10-3
的情况相比，可提供电子照相感光体轴向上的图像浓度差受到抑制的电子照相感光体。
[0025]
根据上述第6、7或8的方案，与乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元以及来自马来酸的结构单元的情况相比，可提供电子照相感光体轴向上的图像浓度差受到抑制的电子照相感光体。
[0026]
根据上述第9或10的方案，可提供具备电子照相感光体的处理盒或图像形成装置，与乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元以及来自马来酸的结构单元的情况相比，该方案的处理盒或图像形成装置所具备的电子照相感光体中，电子照相感光体轴向上的图像浓度差受到抑制。
附图说明
[0027]
图1为示出本实施方式的电子照相感光体的层结构的一例的示意性局部断面图。
[0028]
图2为示出本实施方式的图像形成装置的一例的示意性构成图。
[0029]
图3为示出本实施方式的图像形成装置的另一例的示意性构成图。
具体实施方式
[0030]
下面对作为本发明的一例的实施方式进行说明。这些说明和实施例用于例示出实施方式，并不限制发明的范围。
[0031]
本说明书中阶段性地记载的数值范围中，以一个数值范围记载的上限值或下限值可以被替换成所记载的其他阶段的数值范围的上限值或下限值。另外，本说明书中记载的数值范围中，该数值范围的上限值或下限值可被替换成实施例中示出的值。
[0032]
各成分可以包含两种以上相应的物质。
[0033]
在提及组合物中的各成分的量的情况下，在组合物中与各成分相应的物质存在两种以上的情况下，只要不特别声明，是指组合物中所存在的该两种以上的物质的总量。
[0034]
[电子照相感光体]
[0035]
(第一实施方式)
[0036]
第一实施方式的电子照相感光体(下文中也称为“感光体”)具有：导电性基体；设于导电性基体上的含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物的电荷产生层；以及设于电荷产生层上的含有电荷传输材料和粘结性树脂的电荷传输层。
[0037]
并且，乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元(下文中也称为“含氯成分”)、具有酰氧基的结构单元(下文中也称为“酰氧基成分”)以及具有芳香族多元羧酸结构的结构单元(下文中也称为“芳香族多元羧酸成分”)。并且，乙烯基系共聚物中，含氯成分相对于全部结构单元的比例为80质量％以上，芳香族多元羧酸成分相对于全部结构单元的比例为0.5质量％以上。
[0038]
此处，“含氯成分(即具有氯的结构单元)”是具有氯原子且不具有酰氧基和2个以上羧基的结构单元，也可以具有其他取代基(例如烷基等)。另外，“酰氧基成分(即具有酰氧基的结构单元)”为具有酰氧基而不具有2个以上羧基的结构单元即可，也可以具有其他取代基(例如烷基等)。另外，“芳香族多元羧酸成分(即具有芳香族多元羧酸结构的结构单元)”为具有芳香族多元羧酸结构的结构单元即可，也可以具有羧基以外的取代基(例如烷基等)。
[0039]
通过使第一实施方式的感光体为上述构成，可抑制感光体的轴向上的图像浓度差。其理由据推测如下。
[0040]
如上所述，在设于导电性基体的电荷产生层上形成电荷传输层的情况下，通常通过浸渍涂布法将电荷传输层形成用涂布液涂布在电荷产生层上并使其干燥，由此形成电荷传输层。此时，电荷产生层中包含的乙烯基系共聚物的一部分可能会因电荷传输层形成用涂布液中的溶剂而溶解。在浸渍涂布法中，在导电性基体的轴向上的下方侧端部与上方侧端部，电荷传输层形成用涂布液在电荷产生层上附着的时间不同。因此，在感光体的轴向的一端与另一端的感光度可能产生差异，该感光度之差会表现为图像浓度差。
[0041]
与之相对，第一实施方式中，乙烯基系共聚物中的含氯成分相对于全部结构单元的比例为80质量％以上，芳香族多元羧酸成分相对于全部结构单元的比例为0.5质量％以上。据知，通过使含氯成分的比例为80质量％以上且使芳香族多元羧酸成分的比例为0.5质量％以上，乙烯基系共聚物不容易溶解在电荷传输层形成用涂布液中的溶剂中。
[0042]
具体地说，通过使乙烯基系共聚物包含芳香族多元羧酸成分，与包含来自马来酸等脂肪族多元羧酸的结构单元来代替来自芳香族多元羧酸成分的结构单元的情况相比，乙烯基系共聚物的化合物稳定性高，乙烯基系共聚物不容易溶解在溶剂中。另外据知，与芳香族多元羧酸成分的比例小于0.5质量％的情况相比，通过使乙烯基系共聚物包含0.5质量％以上的芳香族多元羧酸成分，乙烯基系共聚物也同样不容易溶解在溶剂中。此外，可以认为，通过使乙烯基系共聚物包含80质量％以上的含氯成分，与该含氯成分小于80质量％的情况相比，乙烯基系共聚物的硬度增高，不容易溶解在溶剂中。
[0043]
并且可推测，通过使乙烯基系共聚物不容易溶解在溶剂中，在浸渍涂布法中，在导电性基体的轴向上的下方侧端部与上方侧端部，即使电荷传输层形成用涂布液附着在电荷产生层上的时间不同，也不容易产生感光度之差，可抑制由此引起的感光体的轴向上的图像浓度差。
[0044]
根据以上理由可推测，第一实施方式的感光体中，感光体的轴向上的图像浓度差受到抑制。
[0045]
需要说明的是，通过使电荷产生层的粘结性树脂容易溶解在溶剂中，还可能容易得到感光度高的感光体。具体地说，通过使电荷产生层中的粘结性树脂容易被电荷传输层形成用涂布液中的溶剂溶解，在电荷产生层与电荷传输层的界面处容易存在电荷产生材
料。并且，在电荷产生层与电荷传输层的界面处存在的电荷产生材料越多，感光体的感光度越容易增高。
[0046]
与之相对，第一实施方式中，即使乙烯基系共聚物不容易溶解在溶剂中，也可得到高感光度。其理由尚不确定，据推测如下。具体地说，首先，可以认为，乙烯基系共聚物中包含的酰氧基成分可提高电荷产生材料在乙烯基系共聚物中的分散性。此外，第一实施方式中，据知通过将酰氧基成分与芳香族多元羧酸成分组合使用，可进一步提高电荷产生材料在乙烯基系共聚物中的分散性。并且可推测，通过提高电荷产生材料在乙烯基系共聚物中的分散性，即使乙烯基系共聚物不容易溶解在溶剂中，电荷产生材料也会分散在与电荷传输层的界面附近，由此可得到更高的感光度。即，第一实施方式的感光体可得到高感光度，并且可抑制感光体的轴向上的图像浓度差。
[0047]
(第二实施方式)
[0048]
第二实施方式的感光体具有：导电性基体；设于导电性基体上的含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物的电荷产生层；以及设于电荷产生层上的含有电荷传输材料和粘结性树脂的电荷传输层。
[0049]
并且，乙烯基系共聚物包含含氯成分、酰氧基成分以及芳香族多元羧酸成分，上述乙烯基系共聚物在30℃的四氢呋喃100质量份中的溶解度(下文中也称为“thf溶解度”)为10质量份以下。
[0050]
通过使第二实施方式的感光体为上述构成，可抑制电子照相感光体轴向上的图像浓度差。其理由据推测如下。
[0051]
如上所述，在设于导电性基体的电荷产生层上形成电荷传输层的情况下，通常通过浸渍涂布法将电荷传输层形成用涂布液涂布在电荷产生层上并使其干燥，由此形成电荷传输层。此时，电荷产生层中包含的乙烯基系共聚物的一部分可能会被电荷传输层形成用涂布液中的溶剂溶解。在浸渍涂布法中，在导电性基体的轴向上的下方侧端部与上方侧端部，电荷传输层形成用涂布液在电荷产生层上附着的时间不同。因此，在电子照相感光体的轴向的一端与另一端的感光度可能产生差异，该感光度之差有时表现为图像浓度差。
[0052]
与之相对，第二实施方式中，乙烯基系共聚物包含芳香族多元羧酸成分，并且thf溶解度为10质量份以下。因此可以认为，乙烯基系共聚物不容易溶解在溶剂中。
[0053]
并且可推测，通过使乙烯基系共聚物不容易溶解在溶剂中，在浸渍涂布法中，在导电性基体的轴向上的下方侧端部与上方侧端部，即使电荷传输层形成用涂布液附着在电荷产生层上的时间不同，也不容易产生感光度之差，可抑制由感光度之差引起的电子照相感光体轴向上的图像浓度差。
[0054]
根据以上理由可推测，第二实施方式的感光体中，电子照相感光体轴向上的图像浓度差受到抑制。
[0055]
并且，第二实施方式中，即使乙烯基系共聚物不容易溶解在溶剂中，也可得到高感光度。具体地说，据知乙烯基系共聚物中包含的酰氧基成分可提高电荷产生材料在乙烯基系共聚物中的分散性，通过将酰氧基成分与芳香族多元羧酸成分组合使用，可进一步提高电荷产生材料在乙烯基系共聚物中的分散性。并且可推测，通过提高电荷产生材料在乙烯基系共聚物中的分散性，即使乙烯基系共聚物不容易溶解在溶剂中，电荷产生材料也会分散在与电荷传输层的界面附近，由此可得到高感光度。即，第二实施方式的感光体可得到高
感光度，并且可抑制感光体的轴向上的图像浓度差。
[0056]
下面对既符合第一实施方式的感光体又符合第二实施方式的感光体的感光体称为“本实施方式的感光体”进行说明。但是，本发明的感光体的一例为符合第一实施方式的感光体和第二实施方式的感光体中的至少一者的感光体即可。
[0057]
下面参照附图对本实施方式的电子照相感光体进行说明。
[0058]
图1是示出本实施方式的电子照相感光体7a的层结构的一例的示意性局部断面图。图1所示的电子照相感光体7a具有在导电性基体4上依序层积底涂层1、电荷产生层2和电荷传输层3而成的结构。并且，电荷产生层2和电荷传输层3构成感光层5。
[0059]
需要说明的是，底涂层1是根据需要设置的层。即，电子照相感光体7a可以在导电性基体4上直接(即不藉由底涂层1)设置电荷产生层2。
[0060]
另外，电子照相感光体7a也可以根据需要设置其他层。作为其他层，例如可以举出在电荷传输层3上进一步设置的保护层等。
[0061]
下面对本实施方式的电子照相感光体的各层进行详细说明。需要说明的是，将符号省略来进行说明。
[0062]
(导电性基体)
[0063]
作为导电性基体，例如可以举出包含金属(铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等)或合金(不锈钢等)的金属板、金属筒以及金属带等。另外，作为导电性基体，例如还可以举出涂布、蒸镀或层压有导电性化合物(例如导电性聚合物、氧化铟等)、金属(例如铝、钯、金等)或合金的纸、树脂膜、带等。此处的“导电性”是指体积电阻率小于10
13
ωcm。
[0064]
在电子照相感光体被用于激光打印机的情况下，出于抑制在照射激光时产生的干涉条纹的目的，导电性基体表面优选被粗面化至中心线平均粗糙度ra为0.04μm以上0.5μm以下。需要说明的是，在将非干涉光用于光源的情况下，不特别必须进行防止干涉条纹的粗面化，但由于该粗面化可抑制因导电性基体表面的凹凸所致的缺陷的发生，因此适合于更长寿命化。
[0065]
作为粗面化的方法，例如可以举出通过将研磨剂悬浮在水中并吹送至支撑体而进行的湿式珩磨；将导电性基体压接至旋转的磨石，连续地进行磨削加工的无心磨削；阳极氧化处理等。
[0066]
作为粗面化的方法，还可以举出下述方法：不将导电性基体表面进行粗面化，而将导电性或半导电性粉体分散在树脂中，在导电性基体表面上形成层，利用分散在该层中的颗粒进行粗面化。
[0067]
利用阳极氧化的粗面化处理中，将金属制(例如铝制)的导电性基体作为阳极，在电解质溶液中进行阳极氧化，由此在导电性基体表面形成氧化膜。作为电解质溶液，例如可以举出硫酸溶液、草酸溶液等。但是，通过阳极氧化形成的多孔质阳极氧化膜在该状态下具有化学活性，容易被污染，因环境所致的电阻变动也大。因此，对于多孔质阳极氧化膜，优选进行封孔处理，该封孔处理中，在加压水蒸气或沸腾水中(也可以加入镍等金属盐)，利用因水合反应所致的体积膨胀，封闭氧化膜微细孔，由此变成更稳定的水合氧化物。
[0068]
阳极氧化膜的膜厚例如优选为0.3μm以上15μm以下。通过使该膜厚处于上述范围内，具有可发挥出针对注入的阻隔性的倾向，并且具有可抑制因反复使用所致的残余电位上升的倾向。
[0069]
可以对导电性基体实施基于酸性处理液的处理或勃姆石处理。
[0070]
基于酸性处理液的处理例如可如下实施。首先制备包含磷酸、铬酸和的酸性处理液。关于酸性处理液中的磷酸、铬酸和的混合比例，例如磷酸为10质量％以上11质量％以下的范围、铬酸为3质量％以上5质量％以下的范围、为0.5质量％以上2质量％以下的范围，这些酸整体的浓度可以为13.5质量％以上18质量％以下的范围。处理温度例如优选为42℃以上48℃以下。覆膜的膜厚优选为0.3μm以上15μm以下。
[0071]
关于勃姆石处理，例如在90℃以上100℃以下的纯水中浸渍5分钟至60分钟或者与90℃以上120℃以下的加热水蒸气接触5分钟至60分钟来进行。覆膜的膜厚优选为0.1μm以上5μm以下。可以将覆膜进一步使用己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐等覆膜溶解性低的电解质溶液，进行阳极氧化处理。
[0072]
(底涂层)
[0073]
底涂层例如是包含无机颗粒和粘结性树脂的层。
[0074]
作为无机颗粒，例如可以举出粉体电阻(体积电阻率)为102ωcm以上10
11
ωcm以下的无机颗粒。
[0075]
这些中，作为具有上述电阻值的无机颗粒，例如可以为氧化锡颗粒、氧化钛颗粒、氧化锌颗粒、氧化锆颗粒等金属氧化物颗粒，特别优选氧化锌颗粒。
[0076]
无机颗粒基于bet法的比表面积例如可以为10m2/g以上。
[0077]
无机颗粒的体积平均粒径例如可以为50nm以上2000nm以下(优选60nm以上1000nm以下)。
[0078]
无机颗粒的含量例如相对于粘结性树脂优选为10质量％以上80质量％以下、更优选为40质量％以上80质量％以下。
[0079]
无机颗粒可以实施表面处理。无机颗粒中，也可以将2种以上的表面处理不同的无机颗粒或者粒径不同的无机颗粒混合使用。
[0080]
作为表面处理剂，例如可以举出硅烷偶联剂、钛酸酯系偶联剂、铝系偶联剂、表面活性剂等。特别是优选硅烷偶联剂，更优选具有氨基的硅烷偶联剂。
[0081]
作为具有氨基的硅烷偶联剂，例如可以举出3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷等，但并不限于这些。
[0082]
硅烷偶联剂也可以将2种以上混合使用。例如，也可以将具有氨基的硅烷偶联剂与其他硅烷偶联剂合用。作为该其他硅烷偶联剂，例如可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等，但并不限于这些。
[0083]
基于表面处理剂的表面处理方法只要为公知的方法，即可为任何方法，可以为干式法或湿式法中的任一者。
[0084]
表面处理剂的处理量例如相对于无机颗粒优选为0.5质量％以上10质量％以下。
[0085]
此处，从提高电学特性的长期稳定性、载流子阻挡性的方面出发，底涂层可以含有
无机颗粒以及电子接受性化合物(受体化合物)。
[0086]
作为电子接受性化合物，例如可以举出氯醌、溴苯胺等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2,4,7-三硝基芴酮、2,4,5,7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物；2-(4-联苯)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-萘基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-二乙基氨基苯基)-1,3,4噁二唑等噁二唑系化合物；氧杂蒽酮系化合物；噻吩化合物；3,3’,5,5
’‑
四叔丁基联苯醌等联苯醌化合物；等电子传输性物质等。
[0087]
特别是作为电子接受性化合物，优选具有蒽醌结构的化合物。作为具有蒽醌结构的化合物，例如优选为羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物、氨基羟基蒽醌化合物等，具体地说，例如优选蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚、红紫素等。
[0088]
电子接受性化合物可以与无机颗粒一起分散包含在底涂层中，也可以以附着于无机颗粒表面的状态包含在底涂层中。
[0089]
作为使电子接受性化合物附着于无机颗粒表面的方法，例如可以举出干式法或湿式法。
[0090]
干式法例如为下述方法：一边利用大剪切力混合器等对无机颗粒进行搅拌，一边直接滴加电子接受性化合物或者滴加溶解于有机溶剂中的电子接受性化合物，与干燥空气或氮气一起进行喷雾，使电子接受性化合物附着于无机颗粒表面。在进行电子接受性化合物的滴加或喷雾时，可以在溶剂沸点以下的温度进行。在进行电子接受性化合物的滴加或喷雾后，可以在100℃以上进行焙烧。关于焙烧，只要为可得到电子照相特性的温度、时间，就没有特别限制。
[0091]
湿式法例如为下述方法：通过搅拌、超声波、砂磨机、超微磨碎机、球磨机等将无机颗粒分散在溶剂中并且添加电子接受性化合物，在搅拌或分散后，除去溶剂，将电子接受性化合物附着于无机颗粒表面。溶剂除去方法中，例如通过过滤或蒸馏进行蒸馏除去。在溶剂除去后可以进一步在100℃以上进行焙烧。关于焙烧，只要为可得到电子照相特性的温度、时间，就没有特别限定。湿式法中，可以在添加电子接受性化合物之前除去无机颗粒所含有的水分，作为其示例，可以举出在溶剂中一边搅拌加热一边除去的方法、与溶剂共沸来除去的方法。
[0092]
需要说明的是，电子接受性化合物的附着可以在对无机颗粒实施基于表面处理剂的表面处理之前或之后进行，也可以同时进行电子接受性化合物的附着和基于表面处理剂的表面处理。
[0093]
电子接受性化合物的含量例如相对于无机颗粒可以为0.01质量％以上20质量％以下，优选为0.01质量％以上10质量％以下。
[0094]
作为底涂层中使用的粘结性树脂，例如可以举出乙缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅改性醇酸树脂、脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等公知的高分子化合物；锆螯合化合物；钛螯合化合物；铝螯合化合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；硅烷偶联剂等公知的材料。
[0095]
作为底涂层中使用的粘结性树脂，例如还可以举出具有电荷传输性基团的电荷传
输性树脂、导电性树脂(例如聚苯胺等)等。
[0096]
这些之中，作为底涂层中使用的粘结性树脂，适合为不溶于上层的涂布溶剂的树脂，特别适合为脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等热固化性树脂；通过选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚乙烯醇树脂和聚乙烯醇缩醛树脂组成的组中的至少一种树脂与固化剂的反应而得到的树脂。
[0097]
将这些粘结性树脂2种以上组合使用的情况下，其混合比例根据需要进行设定。
[0098]
在底涂层中，为了提高电学特性、提高环境稳定性、提高画质，可以包含各种添加剂。
[0099]
作为添加剂，可以举出多环缩合系、偶氮系等的电子传输性颜料、锆螯合化合物、钛螯合化合物、铝螯合化合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等公知材料。硅烷偶联剂如上所述被用于无机颗粒的表面处理，但也可以作为添加剂进一步添加在底涂层中。
[0100]
关于作为添加剂的硅烷偶联剂，例如可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等。
[0101]
作为锆螯合化合物，例如可以举出丁醇锆、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮丁醇锆、乙酰乙酸乙酯丁醇锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸酯丁醇锆、硬脂酸酯丁醇锆、异硬脂酸酯丁醇锆等。
[0102]
作为钛螯合化合物，例如可以举出钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚物、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮化钛、聚乙酰丙酮化钛、辛二醇酸钛(titanium octylene glycollate)、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸乙酯钛、三乙醇胺合钛、多羟基硬脂酸钛等。
[0103]
作为铝螯合化合物，例如可以举出异丙酸铝、二异丙酸
·
单丁氧基铝、丁酸铝、二异丙酸二乙基乙酰乙酸铝、三(乙基乙酰乙酸)铝等。
[0104]
这些添加剂可以单独使用，或者也可以以2种以上的化合物的混合物或缩聚物的形式使用。
[0105]
底涂层的维氏硬度可以为35以上。
[0106]
关于底涂层的表面粗糙度(十点平均粗糙度)，为了抑制莫尔图像，可以由所使用的曝光用激光波长λ的1/(4n)(n为上层的折射率)调整至1/2。
[0107]
为了调整表面粗糙度，可以在底涂层中添加树脂颗粒等。作为树脂颗粒，可以举出有机硅树脂颗粒、交联型聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒等。另外，为了调整表面粗糙度，可以对底涂层的表面进行研磨。作为研磨方法，可以举出抛光研磨、喷砂处理、湿式珩磨、磨削处理等。
[0108]
底涂层的形成没有特别限制，也可利用公知的形成方法，例如可形成将上述成分
[0140]
特定共聚物是包含含氯成分、酰氧基成分以及芳香族多元羧酸成分的乙烯基系共聚物。
[0141]
需要说明的是，第一实施方式中，特定共聚物中的含氯成分相对于全部结构单元的比例为80质量％以上，芳香族多元羧酸成分相对于全部结构单元的比例为0.5质量％以上。
[0142]
需要说明的是，各结构单元相对于全部结构单元的比例通过利用nmr(核磁共振)对特定共聚物进行分析而求出。
[0143]
特定共聚物至少包含含氯成分、酰氧基成分以及芳香族多元羧酸成分，也可以包含其他结构单元(例如来自二醇的结构单元等)。其中，其他结构单元的比例相对于全部结构单元优选为5摩尔％以下、更优选为3摩尔％以下、进一步优选为1摩尔％以下，特别优选不包含其他结构单元。即，特定共聚物特别优选为由含氯成分、酰氧基成分以及芳香族多元羧酸成分形成的共聚物。
[0144]
‑‑
含氯成分
‑‑
[0145]
如上所述，含氯成分为具有氯原子并且不具有酰氧基和2个以上羧基的结构单元。
[0146]
特定共聚物中，含氯成分可以仅包含1种，也可以包含2种以上。
[0147]
作为含氯成分所具有的氯原子数，例如可以举出1～5，优选1～3、更优选1以上2以下、进一步优选1。另外，含氯成分中，优选氯原子与直链直接键合。
[0148]
作为含氯成分可以具有的其他取代基，例如可以举出烷基、烷氧基、氯以外的卤原子等。
[0149]
含氯成分优选为来自氯乙烯或氯乙烯衍生物的结构单元。
[0150]
另外，含氯成分优选为下述通式(1)所表示的结构单元。
[0151][0152]
通式(1)中，r
11
～r
13
各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基。
[0153]
通式(1)中的r
11
～r
13
各自独立地优选为氢原子或碳原子数1～5的烷基，更优选为氢原子或甲基，进一步优选为氢原子。
[0154]
通式(1)中的r
11
～r
13
可以相互不同，也可以为相同的基团。
[0155]
含氯成分中，优选由通式(1)所表示且通式(1)中的r
11
～r
13
均为氢原子的结构单元。
[0156]
‑‑
酰氧基成分
‑‑
[0157]
如上所述，酰氧基成分为具有酰氧基的结构单元。
[0158]
特定共聚物中，酰氧基成分可以仅包含1种，也可以包含2种以上。
[0159]
作为酰氧基成分所具有的酰氧基数，例如可以举出1以上2以下，更优选为1个。另外，酰氧基成分中，优选酰氧基与直链直接键合。
[0160]
作为酰氧基成分可以具有的其他取代基，例如可以举出烷基、烷氧基、卤原子等。
[0161]
酰氧基成分优选为来自乙酸乙烯酯或乙酸乙烯酯衍生物的结构单元。
[0162]
另外，酰氧基成分优选为下述通式(2)所表示的结构单元。
[0163][0164]
通式(2)中，r
21
～r
23
各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，r
24
表示碳原子数1～5的烷基。
[0165]
通式(2)中的r
21
～r
23
各自独立地优选为氢原子或碳原子数1～5的烷基，更优选为氢原子或甲基，进一步优选为氢原子。
[0166]
通式(2)中的r
21
～r
23
可以相互不同，也可以为相同的基团。其中优选通式(2)中的r
21
～r
23
均为氢原子。
[0167]
通式(2)中的r
24
优选碳原子数1～5的烷基、更优选甲基或乙基、进一步优选甲基。
[0168]
酰氧基成分中，优选由通式(2)所表示并且通式(2)中的r
21
～r
23
均为氢原子且通式(2)中的r
24
为甲基的结构单元。
[0169]
‑‑
芳香族多元羧酸成分
‑‑
[0170]
如上所述，芳香族多元羧酸成分为具有芳香族多元羧酸结构的结构单元。
[0171]
特定共聚物中，芳香族多元羧酸成分可以仅包含1种，也可以包含2种以上。
[0172]
作为芳香族多元羧酸成分所具有的芳香环，例如可以举出苯环、萘环等，这些之中，优选苯环。上述芳香环可以与特定共聚物的主链直接键合，也可以藉由亚烷基等连接基团进行键合，优选直接键合。
[0173]
作为芳香族多元羧酸成分所具有的羧基数，例如可以举出2以上4以下，优选2以上3以下、更优选为2。另外，芳香族多元羧酸成分中，2个以上羧基可以与芳香环直接键合，也可以藉由亚烷基等连接基团进行键合。芳香族多元羧酸成分中，优选2个以上羧基全部与芳香环直接键合。
[0174]
作为芳香族多元羧酸成分可以具有的其他取代基，例如可以举出烷基、烷氧基、卤原子等。
[0175]
作为芳香族多元羧酸成分所具有的芳香族多元羧酸结构，例如可以举出邻苯二甲酸结构、间苯二甲酸结构、对苯二甲酸结构、萘二甲酸结构，这些之中，优选邻苯二甲酸结构，更优选不具有其他取代基的邻苯二甲酸结构。
[0176]
芳香族多元羧酸成分中，优选芳香族多元羧酸结构与特定共聚物的主链直接键合，更优选邻苯二甲酸结构与特定共聚物的主链直接键合。
[0177]
芳香族多元羧酸成分优选为来自邻苯二甲酸、乙烯基邻苯二甲酸或者它们的衍生物的结构单元。
[0178]
芳香族多元羧酸成分例如可以如下式(3-1)所表示的结构单元所示为位于特定共聚物的主链末端的结构单元，例如也可以如下式(3-2)所表示的结构单元所示为位于末端
以外的结构单元。芳香族多元羧酸成分优选为位于特定共聚物的主链末端的结构单元。
[0179][0180]
‑‑
各成分的组合
‑‑
[0181]
特定共聚物优选为包含通式(1)所表示的结构单元作为含氯成分并且包含通式(2)所表示的结构单元作为酰氧基成分的共聚物，更优选为包含通式(1)所表示的结构单元、通式(2)所表示的结构单元、以及具有邻苯二甲酸结构的结构单元的共聚物。
[0182]
另外，特定共聚物进一步优选为如下共聚物：作为含氯成分包含由通式(1)所表示且通式(1)中的r
11
～r
13
均为氢原子的结构单元、作为酰氧基成分包含由通式(2)所表示且通式(2)中的r
21
～r
23
均为氢原子、通式(2)中的r
24
为甲基的结构单元的共聚物；特别优选为如下共聚物：包含由通式(1)所表示且通式(1)中的r
11
～r
13
均为氢原子的结构单元、由通式(2)所表示且通式(2)中的r
21
～r
23
均为氢原子、通式(2)中的r
24
为甲基的结构单元以及不具有其他取代基的具有邻苯二甲酸结构的结构单元的共聚物。
[0183]
‑‑
各成分的比例
‑‑
[0184]
关于含氯成分的比例，从抑制感光体轴向的图像浓度差的方面出发，相对于特定共聚物的全部构成成分优选为80质量％以上、更优选为82质量％以上、进一步优选为85质量％以上。
[0185]
另外，关于含氯成分的比例，从得到高感光度的方面出发，相对于特定共聚物的全部构成成分优选为88质量％以下、更优选为87质量％以下、进一步优选为86质量％以下。
[0186]
若含氯成分的比例为87质量％以下，则与含氯成分的比例过高的情况相比，乙烯基系共聚物的硬度不容易变得过高，不容易产生因硬度过高所引起的电荷产生材料的分散性降低。另外，若含氯成分的比例为87质量％以下，则与含氯成分的比例过高的情况相比，酰氧基成分的比例相对增高，容易得到电荷产生材料的分散性。其结果推测，在与电荷传输层的界面附近容易存在电荷产生材料，可得到高感光度。
[0187]
从兼顾感光体轴向的图像浓度差的抑制和高感光度的方面出发，含氯成分的比例优选为80质量％以上88质量％以下、更优选为82质量％以上87质量％以下、进一步优选为85质量％以上86质量％以下。
[0188]
关于芳香族多元羧酸成分的比例，从抑制感光体轴向的图像浓度差的方面出发，相对于特定共聚物的全部构成成分优选为0.5质量％以上、更优选为0.8质量％以上。
[0189]
另外，关于芳香族多元羧酸成分的比例，从得到高感光度的方面出发，相对于特定共聚物的全部构成成分优选为2.5质量％以下、更优选为1.5质量％以下。
[0190]
芳香族多元羧酸成分的比例为2.0质量％以下时，与芳香族多元羧酸成分的比例过高的情况相比，酰氧基成分的比例相对增高，容易得到电荷产生材料的分散性。其结果推测，在与电荷传输层的界面附近容易存在电荷产生材料，可得到高感光度。
[0191]
从兼顾感光体轴向的图像浓度差的抑制和高感光度的方面出发，芳香族多元羧酸成分的比例优选为0.5质量％以上2.0质量％以下。
[0192]
从抑制感光体轴向的图像浓度差的方面出发，设芳香族多元羧酸成分相对于特定共聚物的全部构成成分的比例为a质量％、设电荷产生材料相对于特定共聚物的含量为c质量％时，a/c的值优选为3.00
×
10-3
以上、更优选为5.00
×
10-3
以上。
[0193]
另外，从得到高感光度的方面出发，a/c的值优选为1.40
×
10-2
以下、更优选为1.00
×
10-2
以下。
[0194]
从兼顾感光体轴向的图像浓度差的抑制和高感光度的方面出发，a/c的值优选为3.00
×
10-3
以上1.40
×
10-2
以下、更优选为5.00
×
10-3
以上1.00
×
10-2
以下。
[0195]
上述重均分子量是通过凝胶渗透谱(gpc)测定的值。在利用gpc的分子量测定中，作为测定装置使用东曹株式会社制gpc
·
hlc-8120gpc，使用东曹株式会社制柱
·
tskgel superhm-m(15cm)，利用thf溶剂进行测定。使用由单分散聚苯乙烯标准试样制作的分子量校正曲线，根据该测定结果计算出重均分子量和数均分子量。
[0196]
从抑制感光体轴向的图像浓度差的方面出发，特定共聚物在30℃的四氢呋喃100质量份中的溶解度(下文中也称为“thf溶解度”)优选为10质量份以下、更优选为8质量份以下、进一步优选为7.5质量份以下。
[0197]
将测定对象的聚合物加入到30℃的四氢呋喃中，静置5分钟后，测定残留的聚合物的质量，由此求出上述thf溶解度。
[0198]
特定共聚物的制造方法没有特别限定，例如可以举出使对应于各结构单元的单体通过悬浮聚合法等进行聚合的方法。
[0199]-其他添加剂-[0200]
电荷产生层中还可以包含其他公知的添加剂。
[0201]-电荷产生层的形成-[0202]
电荷产生层的形成没有特别限制，可利用公知的形成方法，例如可形成将上述成分加入到溶剂中而成的电荷产生层形成用涂布液的涂膜，将该涂膜干燥，根据需要进行加热，由此进行电荷产生层的形成。
[0203]
作为用于制备电荷产生层形成用涂布液的溶剂，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂可以单独使用1种、或将2种以上混合使用。
[0204]
作为使颗粒(例如电荷产生材料)分散在电荷产生层形成用涂布液中的方法，例如利用球磨机、振动球磨机、超微磨碎机、砂磨机、卧式砂磨机等介质分散机；搅拌、超声波分散机、辊碾机、高压均质机等无介质分散机。作为高压均质机，例如可以举出：在高压状态下使分散液进行液-液碰撞或液-壁碰撞来进行分散的碰撞方式；在高压状态下在微细流路中贯穿来进行分散的贯穿方式等。
[0205]
需要说明的是，在该分散时，使电荷产生层形成用涂布液中的电荷产生材料的平均粒径为0.5μm以下、优选为0.3μm以下、进一步优选为0.15μm以下是有效的。
[0206]
作为将电荷产生层形成用涂布液涂布至底涂层上(或中间层上)的方法，例如可以举出刮板涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、微珠涂布法、气刀涂布法、幕式涂布
法等通常的方法。
[0207]
电荷产生层的膜厚例如被设定在优选为0.05μm以上5.0μm以下、更优选为0.1μm以上2.0μm以下、进一步优选为0.1μm以上1.0μm以下、特别优选为0.1μm以上0.5μm以下的范围内。
[0208]
(电荷传输层)
[0209]
电荷传输层为包含电荷传输材料和粘结性树脂的层。电荷传输层也可以为包含高分子电荷传输材料的层。
[0210]
作为电荷传输材料，可以举出对苯醌、氯醌、溴醌、蒽醌等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2,4,7-三硝基芴酮等芴酮化合物；氧杂蒽酮系化合物；二苯甲酮系化合物；氰基乙烯基系化合物；乙烯系化合物等电子传输性化合物。作为电荷传输材料，还可以举出三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、芳基烷烃系化合物、芳基取代乙烯系化合物、均二苯代乙烯系化合物、蒽系化合物、腙系化合物等空穴传输性化合物。这些电荷传输材料可以单独使用1种、或以2种以上使用的，但并不限于这些。
[0211]
作为电荷传输材料，从电荷迁移率的方面出发，优选为下述通式(a-1)所表示的三芳基胺系电荷传输材料(下文中也称为“三芳基胺系电荷传输材料(a-1)”)、作为三芳基胺系电荷传输材料的一例的下述通式(ct1)所表示的电荷传输材料(下文中也称为“丁二烯系电荷传输材料(ct1))、以及下述通式(ct2)所表示的电荷传输材料(下文中也称为“联苯胺系电荷传输材料(ct2)”)。
[0212]
另外，作为电荷传输材料，还可以将丁二烯系电荷传输材料(ct1)与联苯胺系电荷传输材料(ct2)合用。
[0213]
对三芳基胺系电荷传输材料(a-1)进行说明。
[0214]
三芳基胺系电荷传输材料(a-1)为下述通式(a-1)所表示的电荷传输材料。
[0215][0216]
通式(a-1)中，ar
t1
、ar
t2
以及ar
t3
各自独立地表示取代或无取代的芳基、-c6h
4-c(r
t4
)＝c(r
t5
)(r
t6
)或者-c6h
4-ch＝ch-ch＝c(r
t7
)(r
t8
)。r
t4
、r
t5
、r
t6
、r
t7
和r
t8
各自独立地表示氢原子、取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。
[0217]
作为上述各基团的取代基，可以举出卤原子、碳原子数1～5的烷基、碳原子数1～5的烷氧基。另外，作为上述各基团的取代基，还可以举出被碳原子数1～3的烷基取代的取代氨基。
[0218]
对丁二烯系电荷传输材料(ct1)进行说明。
[0219]
丁二烯系电荷传输材料(ct1)为下述通式(ct1)所表示的电荷传输材料。
[0220][0221]
通式(ct1)中，r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
各自独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数1以上20以下的烷基、碳原子数1以上20以下的烷氧基或碳原子数6以上30以下的芳基，相邻的2个取代基可以相互键合而形成烃环结构。
[0222]
n和m各自独立地表示0、1或2。
[0223]
通式(ct1)中，作为r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
所表示的卤原子，可以举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。这些之中，作为卤原子，优选氟原子、氯原子，更优选氯原子。
[0224]
通式(ct1)中，作为r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
所表示的烷基，可以举出碳原子数1以上20以下(优选1～6、更优选1～4)的直链状或支链状的烷基。
[0225]
作为直链状的烷基，具体地说，可以举出甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、正二十烷基等。
[0226]
作为支链状的烷基，具体地说，可以举出异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基、异庚基、仲庚基、叔庚基、异辛基、仲辛基、叔辛基、异壬基、仲壬基、叔壬基、异癸基、仲癸基、叔癸基、异十一烷基、仲十一烷基、叔十一烷基、新十一烷基、异十二烷基、仲十二烷基、叔十二烷基、新十二烷基、异十三烷基、仲十三烷基、叔十三烷基、新十三烷基、异十四烷基、仲十四烷基、叔十四烷基、新十四烷基、1-异丁基-4-乙基辛基、异十五烷基、仲十五烷基、叔十五烷基、新十五烷基、异十六烷基、仲十六烷基、叔十六烷基、新十六烷基、1-甲基十五烷基、异十七烷基、仲十七烷基、叔十七烷基、新十七烷基、异十八烷基、仲十八烷基、叔十八烷基、新十八烷基、异十九烷基、仲十九烷基、叔十九烷基、新十九烷基、1-甲基辛基、异二十烷基、仲二十烷基、叔二十烷基、新二十烷基等。
[0227]
这些之中，作为烷基，优选甲基、乙基、异丙基等低级烷基。
[0228]
通式(ct1)中，作为r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
所表示的烷氧基，可以举出碳原子数1以上20以下(优选1～6、更优选1～4)的直链状或支链状的烷氧基。
[0229]
作为直链状的烷氧基，具体地说，可以举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基、正十一烷基氧基、正十二烷基氧基、正十三烷基氧基、正十四烷基氧基、正十五烷基氧基、正十六烷基氧基、正十七烷基氧基、正十八烷基氧基、正十九烷基氧基、正二十烷基氧基等。
[0230]
作为支链状的烷氧基，具体地说，可以举出异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基、异庚氧基、仲庚氧基、叔庚氧基、异辛氧基、仲辛氧基、叔辛氧基、异壬氧基、仲壬氧基、叔壬氧基、异癸氧基、仲癸氧基、叔癸氧基、异十一烷基氧基、仲十一烷基氧基、叔十一烷基氧基、新十一烷基氧基、异十
二烷基氧基、仲十二烷基氧基、叔十二烷基氧基、新十二烷基氧基、异十三烷基氧基、仲十三烷基氧基、叔十三烷基氧基、新十三烷基氧基、异十四烷基氧基、仲十四烷基氧基、叔十四烷基氧基、新十四烷基氧基、1-异丁基-4-乙基辛氧基、异十五烷基氧基、仲十五烷基氧基、叔十五烷基氧基、新十五烷基氧基、异十六烷基氧基、仲十六烷基氧基、叔十六烷基氧基、新十六烷基氧基、1-甲基十五烷基氧基、异十七烷基氧基、仲十七烷基氧基、叔十七烷基氧基、新十七烷基氧基、异十八烷基氧基、仲十八烷基氧基、叔十八烷基氧基、新十八烷基氧基、异十九烷基氧基、仲十九烷基氧基、叔十九烷基氧基、新十九烷基氧基、1-甲基辛氧基、异二十烷基氧基、仲二十烷基氧基、叔二十烷基氧基、新二十烷基氧基等。
[0231]
这些之中，作为烷氧基，优选甲氧基。
[0232]
通式(ct1)中，作为r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
所表示的芳基，可以举出碳原子数6以上30以下(优选6以上20以下、更优选为6以上16以下)的芳基。
[0233]
作为芳基，具体地说，可以举出苯基、萘基、菲基、联苯基等。
[0234]
这些之中，作为芳基，优选苯基、萘基。
[0235]
需要说明的是，通式(ct1)中，r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
所表示的上述各取代基也包含进一步具有取代基的基团。作为该取代基，可以举出上述例示的原子和基团(例如卤原子、烷基、烷氧基、芳基等)。
[0236]
通式(ct1)中，作为r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
的相邻的两个取代基相互(例如r
c11
和r
c12
相互、r
c13
和r
c14
相互、r
c15
和r
c16
相互)连结而成的烃环结构中的将该取代基相互连结的基团，可以举出单键、2,2
’‑
亚甲基、2,2
’‑
亚乙基、2,2
’‑
1,2-亚乙烯基等，这些之中，优选单键、2,2
’‑
亚甲基。
[0237]
此处，作为烃环结构，具体地说，例如可以举出环烷烃结构、环烯烃结构、环烷烃多烯结构等。
[0238]
通式(ct1)中，n和m优选为1。
[0239]
通式(ct1)中，从形成电荷传输能力高的感光层(电荷传输层)的方面出发，优选r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
表示氢原子、碳原子数1以上20以下的烷基、或者碳原子数1以上20以下的烷氧基，m和n表示1或2，更优选r
c11
、r
c12
、r
c13
、r
c14
、r
c15
和r
c16
表示氢原子，m和n表示1。
[0240]
即，丁二烯系电荷传输材料(ct1)更优选为下述结构式(ct1a)所表示的电荷传输材料(例示化合物(ct1-3))。
[0241][0242]
以下示出丁二烯系电荷传输材料(ct1)的具体例，但并不限定于此。
[0243][0244]
需要说明的是，上述例示化合物中的缩写表示下述含义。另外，取代基前所带有的编号表示在苯环上的取代位置。
[0245]
·
ch3：甲基
[0246]
·
och3：甲氧基
[0247]
丁二烯系电荷传输材料(ct1)可以单独使用一种，也可以合用两种以上。
[0248]
对联苯胺系电荷传输材料(ct2)进行说明。
[0249]
联苯胺系电荷传输材料(ct2)为下述通式(ct2)所表示的电荷传输材料。
[0250][0251]
通式(ct2)中，r
c21
、r
c22
和r
c23
各自独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基、或者碳原子数6以上10以下的芳基。
[0252]
通式(ct2)中，作为r
c21
、r
c22
和r
c23
所表示的卤原子，可以举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。这些之中，作为卤原子，优选氟原子、氯原子，更优选氯原子。
[0253]
通式(ct2)中，作为r
c21
、r
c22
和r
c23
所表示的烷基，可以举出碳原子数1～10(优选1～6、更优选1～4)的直链状或支链状的烷基。
[0254]
作为直链状的烷基，具体地说，可以举出甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基等。
[0255]
作为支链状的烷基，具体地说，可以举出异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基、异庚基、仲庚基、叔庚基、异辛基、仲辛基、叔辛基、异壬基、仲壬基、叔壬基、异癸基、仲癸基、叔癸基等。
[0256]
这些之中，作为烷基，优选甲基、乙基、异丙基等低级烷基。
[0257]
通式(ct2)中，作为r
c21
、r
c22
和r
c23
所表示的烷氧基，可以举出碳原子数1～10(优选1～6、更优选1～4)的直链状或支链状的烷氧基。
[0258]
作为直链状的烷氧基，具体地说，可以举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基等。
[0259]
作为支链状的烷氧基，具体地说，可以举出异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基、异庚氧基、仲庚氧基、叔庚氧基、异辛氧基、仲辛氧基、叔辛氧基、异壬氧基、仲壬氧基、叔壬氧基、异癸氧基、仲癸氧基、叔癸氧基等。
[0260]
这些之中，作为烷氧基，优选甲氧基。
[0261]
通式(ct2)中，作为r
c21
、r
c22
和r
c23
所表示的芳基，可以举出碳原子数6以上10以下(优选6以上9以下、更优选6以上8以下)的芳基。
[0262]
作为芳基，具体地说，可以举出苯基、萘基等。
[0263]
这些之中，作为芳基，优选苯基。
[0264]
需要说明的是，通式(ct2)中，r
c21
、r
c22
和r
c23
所表示的上述各取代基也包含进一步具有取代基的基团。作为该取代基，可以举出上述例示的原子和基团(例如卤原子、烷基、烷氧基、芳基等)。
[0265]
通式(ct2)中，从形成电荷传输能力高的感光层(电荷传输层)的方面出发，优选r
c21
、r
c22
和r
c23
各自独立地表示氢原子或碳原子数1～10的烷基，更优选r
c21
和r
c23
表示氢原子、r
c22
表示碳原子数1～10的烷基(特别是甲基)。
[0266]
具体地说，联苯胺系电荷传输材料(ct2)特别优选为下述结构式(ct2a)所表示的电荷传输材料(例示化合物(ct2-2))。
[0267][0268]
以下示出联苯胺系电荷传输材料(ct2)的具体例，但并不限定于此。
[0269]
[0270]
需要说明的是，上述例示化合物中的缩写表示下述含义。另外，取代基前所带有的编号表示在苯环上的取代位置。
[0271]
·
ch3：甲基
[0272]
·
c2h5：乙基
[0273]
·
och3：甲氧基
[0274]
·
oc2h5：乙氧基
[0275]
联苯胺系电荷传输材料(ct2)可以单独使用一种，也可以合用两种以上。
[0276]
作为高分子电荷传输材料，使用聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等具有电荷传输性的公知材料。尤其是特别优选日本特开平8-176293号公报、日本特开平8-208820号公报等中所公开的聚酯系高分子电荷传输材。需要说明的是，高分子电荷传输材料可以单独使用，也可以与粘结性树脂合用。
[0277]
电荷传输层中使用的粘结性树脂可以举出聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、有机硅树脂、有机硅改性醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯改性醇酸树脂、聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等。这些之中，作为粘结性树脂，适合为聚碳酸酯树脂或聚芳酯树脂。这些粘结性树脂可单独使用一种或者以两种以上使用。
[0278]
需要说明的是，电荷传输材料与粘结性树脂的混配比以质量比计优选为10:1至1:5。
[0279]
电荷传输层还可以包含其他公知的添加剂。
[0280]
电荷传输层的形成没有特别限制，利用公知的形成方法，例如可形成将上述成分加入到溶剂中而成的电荷传输层形成用涂布液的涂膜，将该涂膜干燥，根据需要进行加热，由此进行电荷传输层的形成。
[0281]
作为用于制备电荷传输层形成用涂布液的溶剂，可以举出苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香族烃类；丙酮、2-丁酮等酮类；二氯甲烷、氯仿、氯乙烯等卤化脂肪族烃类；四氢呋喃、乙醚等环状或直链状的醚类等通常的有机溶剂。这些溶剂可单独使用或将2种以上混合使用。
[0282]
作为将电荷传输层形成用涂布液涂布在电荷产生层上时的涂布方法，可以举出刮板涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、微珠涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常的方法。
[0283]
电荷传输层的膜厚例如被设定在优选为5μm以上50μm以下、更优选为10μm以上45μm以下、进一步优选为20μm以上42μm以下的范围内。
[0284]
(保护层)
[0285]
保护层根据需要设置在感光层上。保护层例如是出于防止充电时的感光层的化学变化或进一步改善感光层的机械强度的目的而设置的。
[0286]
因此，保护层可以应用由固化膜(交联膜)构成的层。作为这些层，例如可以举出下述1)或2)所示的层。
[0287]
1)由包含在同一分子内具有反应性基团和电荷传输性骨架的含反应性基团电荷传输材料的组合物的固化膜所构成的层(即，包含该含反应性基团电荷传输材料的聚合物
或交联体的层)
[0288]
2)由包含非反应性电荷传输材料和不具有电荷传输性骨架但具有反应性基团的含反应性基团非电荷传输材料的组合物的固化膜所构成的层(即，包含该含反应性基团非电荷传输材料的聚合物或交联体和非反应性电荷传输材料的层)
[0289]
作为含反应性基团电荷传输材料的反应性基团，可以举出链聚合性基团、环氧基、-oh、-or[其中，r表示烷基]、-nh2、-sh、-cooh、-sir
q13-qn
(or
q2
)
qn
[其中，r
q1
表示氢原子、烷基或者取代或无取代的芳基，r
q2
表示氢原子、烷基、三烷基甲硅烷基。qn表示1～3的整数]等公知的反应性基团。
[0290]
作为链聚合性基团，只要是可进行自由基聚合的官能团就没有特别限定，例如为具有至少含有碳双键的基团的官能团。具体地说，可以举出含有选自乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基硫醚基、乙烯基苯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基以及它们的衍生物中的至少一者的基团等。其中，作为链聚合性基团，出于其反应性优异的原因，优选为含有选自乙烯基、乙烯基苯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基以及它们的衍生物中的至少一者的基团。
[0291]
作为含反应性基团电荷传输材料的电荷传输性骨架，只要为电子照相感光体中的公知结构就没有特别限定，例如可以举出如下结构：骨架为来自三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、腙系化合物等含氮空穴传输性化合物的骨架，并且具有与氮原子共轭的结构。这些之中，优选三芳基胺骨架。
[0292]
这些具有反应性基团和电荷传输性骨架的含反应性基团电荷传输材料、非反应性电荷传输材料、含反应性基团非电荷传输材料从公知的材料中选择即可。
[0293]
保护层中可以包含其他公知的添加剂。
[0294]
保护层的形成没有特别限制，可利用公知的形成方法，例如可形成将上述成分加入到溶剂中而成的保护层形成用涂布液的涂膜，将该涂膜干燥，根据需要进行加热等固化处理，由此来进行保护层的形成。
[0295]
作为用于制备保护层形成用涂布液的溶剂，可以举出甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂；、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；四氢呋喃、二氧六环等醚系溶剂；乙二醇单甲醚等溶纤剂系溶剂；异丙醇、丁醇等醇系溶剂等。这些溶剂单独使用或将2种以上混合使用。
[0296]
需要说明的是，保护层形成用涂布液也可以为无溶剂的涂布液。
[0297]
作为将保护层形成用涂布液涂布在感光层(例如电荷传输层)上的方法，可以举出浸渍涂布法、挤出涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法、幕式涂布法等通常的方法。
[0298]
保护层的膜厚例如被设定在优选为1μm以上20μm以下、更优选为2μm以上10μm以下的范围内。
[0299]
[图像形成装置(和处理盒)]
[0300]
本实施方式的图像形成装置具备：电子照相感光体；对电子照相感光体表面进行充电的充电机构；在经充电的电子照相感光体表面形成静电潜像的静电潜像形成机构；利用包含调剂的显影剂对形成在电子照相感光体表面的静电潜像进行显影而形成调剂图像的显影机构；以及将调剂图像转印至记录介质表面的转印机构。并且，作为电子照相感光体，适用上述本实施方式的电子照相感光体。
[0301]
本实施方式的图像形成装置适用下述公知的图像形成装置：具备对转印至记录介质表面的调剂图像进行定影的定影机构的装置；将形成在电子照相感光体表面的调剂图像直接转印至记录介质上的直接转印方式的装置；将形成在电子照相感光体表面的调剂图像一次转印至中间转印体表面、再将转印至中间转印体表面的调剂图像二次转印至记录介质表面的中间转印方式的装置；具备在调剂图像的转印后对充电前的电子照相感光体表面进行清洁的清洁机构的装置；具备在调剂图像的转印后在充电前对电子照相感光体表面照射除电光来进行除电的除电机构的装置；具备用于提高电子照相感光体的温度、降低相对温度的电子照相感光体加热部件的装置；等等。
[0302]
在中间转印方式的装置的情况下，转印机构例如可应用如下构成：具有在表面转印调剂图像的中间转印体、将形成在电子照相感光体表面的调剂图像一次转印至中间转印体表面的一次转印机构、以及将转印至中间转印体表面的调剂图像二次转印至记录介质表面的二次转印机构的构成。
[0303]
本实施方式的图像形成装置可以为干式显影方式的图像形成装置、湿式显影方式(利用液体显影剂的显影方式)的图像形成装置中的任一者。
[0304]
需要说明的是，在本实施方式的图像形成装置中，例如具备电子照相感光体的部分可以为相对于图像形成装置可进行装卸的盒结构(处理盒)。作为处理盒，例如可适合地使用具备本实施方式的电子照相感光体的处理盒。需要说明的是，在处理盒中，除了电子照相感光体以外，还可以具备例如选自由充电机构、静电潜像形成机构、显影机构、转印机构组成的组中的至少一者。
[0305]
以下示出本实施方式的图像形成装置的一例，但并不限定于此。需要说明的是，对图中示出的主要部分进行说明，对于其他部分，省略其说明。
[0306]
图2为示出本实施方式的图像形成装置的一例的示意性构成图。
[0307]
如图2所示，本实施方式的图像形成装置100具备：具备电子照相感光体7的处理盒300；曝光装置9(静电潜像形成机构的一例)；转印装置40(—次转印装置)；以及中间转印体50。需要说明的是，在图像形成装置100中，曝光装置9配置在可由处理盒300的开口部对电子照相感光体7进行曝光的位置，转印装置40配置在隔着中间转印体50与电子照相感光体7对置的位置，中间转印体50按照其一部分与电子照相感光体7接触的方式配置。尽管未图示，但还具有将转印至中间转印体50的调剂图像转印至记录介质(例如纸张)的二次转印装置。需要说明的是，中间转印体50、转印装置40(—次转印装置)和二次转印装置(未图示)相当于转印机构的一例。
[0308]
图2中的处理盒300在外壳内一体地承载有电子照相感光体7、充电装置8(充电机构的一例)、显影装置11(显影机构的一例)和清洁装置13(清洁机构的一例)。清洁装置13具有清洁刮板(清洁部件的一例)131，清洁刮板131按照与电子照相感光体7表面接触的方式配置。需要说明的是，清洁部件也可以不是清洁刮板131的方式而是导电性或绝缘性的纤维状部件，其也可以单独使用或与清洁刮板131合用。
[0309]
需要说明的是，在图2中，作为图像形成装置，示出了具备将润滑材料14供给至电子照相感光体7表面的纤维状部件132(滚筒状)和辅助清洁的纤维状部件133(平刷状)的示例，但这些部件是根据需要进行配置的。
[0310]
以下对本实施方式的图像形成装置的各构成进行说明。
[0311]-充电装置-[0312]
作为充电装置8，例如使用接触型充电器，该接触型充电器利用了导电性或半导电性的充电辊、充电刷、充电膜、充电橡胶刮板、充电管等。另外，还可使用非接触方式的辊充电器、利用了电晕放电的电晕丝(scorotron)充电器或电晕管(corotron)充电器等本身公知的充电器等。
[0313]-曝光装置-[0314]
作为曝光装置9，例如可以举出利用半导体激光、led光、液晶光闸光等光按照给定图像对电子照相感光体7表面进行曝光的光学系设备等。光源的波长设定为电子照相感光体的分光感光度区域内。作为半导体激光的波长，在780nm附近具有振荡波长的近红外为主流。但是，并不限于该波长，也可以利用600nm左右的振荡波长激光或者作为蓝激光的在400nm以上且450nm以下具有振荡波长的激光。另外，为了进行彩图像形成，可输出多光束的类型的面发光型激光源也是有效的。
[0315]-显影装置-[0316]
作为显影装置11，例如可以举出接触或非接触显影剂来进行显影的常见显影装置。作为显影装置11，只要具有上述功能就没有特别限制，根据目的进行选择。例如可以举出：具有使用刷、辊等使单组分系显影剂或双组分系显影剂附着于电子照相感光体7的功能的公知显影器等。其中优选使用在表面保持有显影剂的显影辊。
[0317]
显影装置11中使用的显影剂可以是只有调剂的单组分系显影剂，也可以是包含调剂和载体的双组分系显影剂。另外，显影剂可以为磁性，也可以为非磁性。这些显影剂可应用公知显影剂。
[0318]-清洁装置-[0319]
清洁装置13使用具备清洁刮板131的清洁刮板方式的装置。
[0320]
需要说明的是，除了清洁刮板方式以外，还可以采用毛刷清洁方式、显影同时清洁的方式。
[0321]-转印装置-[0322]
作为转印装置40，例如可以举出使用带、辊、膜、橡胶刮板等的接触型转印充电器、利用电晕放电的电晕丝转印充电器或电晕管转印充电器等本身公知转印充电器。
[0323]-中间转印体-[0324]
作为中间转印体50，使用：赋予了半导电性的包含聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等的带状转印体(中间转印带)。另外，作为中间转印体的形态，除了带状以外，还可以使用鼓状转印体。
[0325]
图3为示出本实施方式的图像形成装置的另一例的示意性构成图。
[0326]
图3所示的图像形成装置120为搭载有4个处理盒300的串联方式的多图像形成装置。在图像形成装置120中，4个处理盒300各自并列地配置在中间转印体50上，形成每1使用1个电子照相感光体的构成。需要说明的是，图像形成装置120除了为串联方式以外，具有与图像形成装置100同样的构成。
[0327]
[实施例]
[0328]
以下通过实施例对本实施方式进行详细说明，但本实施方式并不受这些实施例的任何限定。需要说明的是，以下的说明中，只要不特别声明，“份”和“％”全部为质量基准。
[0329]
＜实施例1＞
[0330]
将氧化锌(商品名：mz 300、tayca株式会社制造)100质量份、作为硅烷偶联剂的n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷的10质量％甲苯溶液10质量份以及甲苯200质量份混合并进行搅拌，进行2小时回流。之后在10mmhg下减压蒸馏除去甲苯，在135℃进行2小时焙烧表面处理。
[0331]
将表面处理后的氧化锌33质量份、封端异氰酸酯(商品名：sumidur 3175、sumitomo-bayer urethane co.,ltd.制)6质量份、作为电子接受性化合物的下述结构式(ak-1)所表示的化合物1质量份以及25质量份混合30分钟，其后添加丁缩醛树脂(商品名：s-lecbm-1、积水化学工业公司制造)5质量份、有机硅微球(商品名：tospearl 120、momentive performance materials公司制造)3质量份以及作为流平剂的硅油(商品名：sh29pa、dow corning公司制造)0.01质量份，利用砂磨机进行3小时的分散，得到底涂层形成用涂布液。
[0332][0333]
进一步，将底涂层形成用涂布液利用浸渍涂布法涂布在直径30mm、长度365mm、厚度1mm的铝基材上，在180℃进行30分钟的干燥固化，得到厚度25μm的底涂层。
[0334]
接着，将由作为电荷产生材料的羟基镓酞菁颜料(hogapc)、作为粘结性树脂的下述特定共聚物(1)以及丙酮构成的混合物与玻璃珠(填充率50％)同时装入到容量100ml玻璃瓶中，使用涂料摇摆器进行2.5小时分散处理，得到电荷产生层形成用涂布液。
[0335]
特定共聚物(1)：由下述结构单元构成且各构成成分的比例为表1所示的值的乙烯基系共聚物：作为含氯成分的由上述通式(1)所表示且r
11
～r
13
均为氢原子的结构单元；作为酰氧基成分的由上述通式(2)所表示且r
21
～r
23
均为氢原子、r
24
为甲基的结构单元；以及作为芳香族多元羧酸成分的不具有其他取代基的邻苯二甲酸结构的苯环与主链直接键合的结构单元
[0336]
需要说明的是，将特定共聚物(1)的重均分子量和thf溶解度一并示于表1。
[0337]
此处，相对于电荷产生层形成用涂布液中包含的羟基镓酞菁颜料与特定共聚物(1)的合计，羟基镓酞菁颜料的含量为60质量％、电荷产生层形成用涂布液的固体成分浓度为6.0质量％。
[0338]
需要说明的是，上述羟基镓酞菁颜料为v型羟基镓酞菁颜料(在600nm以上900nm以下的波长区域的分光吸收光谱中的最大峰值波长＝820nm、平均粒径＝0.12μm、最大粒径＝0.2μm、比表面积值＝60m2/g)，该v型羟基镓酞菁颜料在使用cukα特征x射线的x射线衍射光谱中至少在布拉格角度(2θ
±
0.2
°
)为7.3
°
、16.0
°
、24.9
°
、28.0
°
的位置具有衍射峰。
[0339]
将所得到的电荷产生层形成用涂布液浸渍涂布在底涂层上，在150℃干燥5分钟，形成膜厚0.14μm的电荷产生层。
[0340]
接着，将下述结构式(ct1a)所表示的电荷传输材料12质量份、下述结构式(ct2a)所表示的电荷传输材料28质量份以及双酚z型聚碳酸酯树脂(分子量4万)60质量份加入到四氢呋喃340重量份中进行溶解，得到电荷传输层形成用涂布液。
[0341]
将所得到的电荷传输层形成用涂布液浸渍涂布在电荷产生层上，在150℃进行40分钟的干燥，由此形成膜厚40μm的电荷传输层。
[0342][0343]
经过以上步骤，得到实施例1的电子照相感光体。
[0344]
＜实施例2～7＞
[0345]
作为电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的粘结性树脂，如表1所示变更特定共聚物(1)中的各结构单元的比例，使用所得到的特定共聚物(2)～(7)，除此以外，与实施例1同样地得到电子照相感光体。
[0346]
需要说明的是，将特定共聚物(2)～(7)的重均分子量和thf溶解度一并示于表1。
[0347]
＜实施例8～14＞
[0348]
除了将电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的电荷产生材料的种类变更为氯代镓酞菁颜料(clgapc)以外，与实施例1～7同样地得到各电子照相感光体。
[0349]
＜实施例15～21＞
[0350]
除了将电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的电荷产生材料的种类变更为氧钛酞菁颜料(tiopc)以外，与实施例1～7同样地得到各电子照相感光体。
[0351]
＜比较例1＞
[0352]
作为电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的粘结性树脂使用下述乙烯基系共聚物(c1)，除此以外与实施例1同样地得到电子照相感光体。
[0353]
乙烯基系共聚物(c1)：由下述成分构成且各构成成分的比例为表1所示的值的乙烯基系共聚物：作为含氯成分的由上述通式(1)所表示且r
11
～r
13
均为氢原子的结构单元；作为酰氧基成分的由上述通式(2)所表示且r
21
～r
23
均为氢原子、r
24
为甲基的结构单元；以及作为其他多元羧酸成分的来自马来酸的成分
[0354]
需要说明的是，将乙烯基系共聚物(c1)的重均分子量和thf溶解度一并示于表1。
[0355]
＜比较例2～7＞
[0356]
作为电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的粘结性树脂，如表1所示变更乙烯基系共聚物(c1)中的各结构单元的比例，使用所得到的乙烯基系共聚物(c2)～(c7)，除此以外与比较例1同样地得到电子照相感光体。
[0357]
需要说明的是，将乙烯基系共聚物(c2)～(c7)的重均分子量和thf溶解度一并示于表1。
[0358]
＜比较例8～9＞
[0359]
作为电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的粘结性树脂，如表1所示变更特定共聚物(1)中的各结构单元的比例，使用所得到的特定共聚物(8)～(9)，除此以外与实施例1同样地得到电子照相感光体。
[0360]
需要说明的是，将特定共聚物(8)～(9)的重均分子量和thf溶解度一并示于表1。
[0361]
＜比较例10＞
[0362]
作为电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的粘结性树脂使用下述乙烯基系共聚物(c8)，除此以外与实施例1同样地得到电子照相感光体。
[0363]
乙烯基系共聚物(c8)：由下述成分构成且各构成成分的比例为表1所示的值的乙烯基系共聚物：作为含氯成分的由上述通式(1)所表示且r
11
～r
13
均为氢原子的结构单元；作为酰氧基成分的由上述通式(2)所表示且r
21
～r
23
均为氢原子、r
24
为甲基的结构单元；以及作为其他多元羧酸成分的来自丙烯酸羟丁酯的成分
[0364]
＜比较例11＞
[0365]
作为电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的粘结性树脂，如表1所示变更乙烯基系共聚物(c8)中的各结构单元的比例，使用所得到的乙烯基系共聚物(c9)，除此以外与比较例10同样地得到电子照相感光体。
[0366]
需要说明的是，将乙烯基系共聚物(c9)的重均分子量和thf溶解度一并示于表1。
[0367]
＜比较例12～18＞
[0368]
除了将电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的电荷产生材料的种类变更为氯代镓酞菁颜料(clgapc)以外，与比较例1～7同样地得到各电子照相感光体。
[0369]
＜比较例19～25＞
[0370]
除了将电荷产生层形成用涂布液的制备中使用的电荷产生材料的种类变更为氧钛酞菁颜料(tiopc)以外，与比较例1～7同样地得到各电子照相感光体。
[0371]
[表1]
[0372][0373]
＜评价＞
[0374]
(图像浓度差的评价)
[0375]
将各例中得到的电子照相感光体搭载于电子照相方式的图像形成装置(富士施乐公司制造：apeosport-v c7776)中，在a3尺寸的纸张上输出1000张图像浓度70％的整面半调图像(青(cyan color)的整面半调图像)。需要说明的是，图像输出全部在10℃、15％rh的环境下实施。
[0376]
对于第1000张整面半调图像，使用图像浓度计(x-rite938：x-rite公司制造)分别在对应于电子照相感光体的轴向的一端和另一端的区域的各5处测定图像浓度，进行平均，求出其图像浓度差(即，“一端的平均图像浓度”－“另一端的平均图像浓度”的绝对值)，按以下的评价基准进行判定。将结果示于表2～3。需要说明的是，截至g2为容许范围。
[0377]-评价基准-[0378]
g0：0≦图像浓度差≦0.05
[0379]
g1：0.05＜图像浓度差≦0.1
[0380]
g2：0.1＜图像浓度差≦0.2
[0381]
g3：0.2＜图像浓度差≦0.25
[0382]
g4：0.25＜图像浓度差≦0.3
[0383]
g5：0.3＜图像浓度差≦0.35
[0384]
g6：0.35＜图像浓度差
[0385]
(感光度的评价)
[0386]
关于各例的电子照相感光体中的感光度的评价，以将电子照相感光体充电至+800v时的半衰减曝光量的形式进行评价。
[0387]
具体地说，首先，使用静电复印纸试验装置(静电分析仪epa-8100、川口电气公司制造)，在温度20℃/相对湿度40％的环境下，将各例的电子照相感光体充电至+800v。其后，使用单仪将钨灯光转化成800nm的单光，按照在电子照相感光体表面上为1μw/cm2的方式调整光量进行照射。并且测定刚充电后的电子照相感光体表面电位vo(v)通过光照射变成二分之一的半衰减曝光量(μj/cm2)。将所得到的半衰减曝光量的值按下述基准分级。将结果示于表2～3。
[0388]
g1：半衰减曝光量为0.10μj/cm2以下。
[0389]
g2：半衰减曝光量大于0.10μj/cm2且为0.13μj/cm2以下。
[0390]
g3：半衰减曝光量大于0.13μj/cm2且为0.15μj/cm2以下。
[0391]
g4：半衰减曝光量大于0.15μj/cm2且为0.18μj/cm2以下。
[0392]
g5：半衰减曝光量大于0.18μj/cm2。
[0393]
在各例中，将设多元羧酸成分相对于特定共聚物或乙烯基系共聚物的全部构成成分的比例为a质量％、设电荷产生材料相对于特定共聚物或乙烯基系共聚物的含量为c质量％时的a/c的值一并示于表2～3。
[0394]
[表2]
[0395][0396]
[表3]
[0397][0398]
由上述结果可知，与比较例的电子照相感光体相比，本实施例的电子照相感光体中，电子照相感光体轴向上的图像浓度差受到了抑制。

技术特征：

1.一种电子照相感光体，其具有导电性基体、电荷产生层和电荷传输层，该电荷产生层设于上述导电性基体上，含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物，上述乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元和具有芳香族多元羧酸结构的结构单元，上述具有氯的结构单元相对于全部结构单元的比例为80质量％以上，上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元相对于全部结构单元的比例为0.5质量％以上；该电荷传输层设于上述电荷产生层上，含有电荷传输材料和粘结性树脂。2.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中，相对于构成上述乙烯基系共聚物的全部结构单元，上述具有氯的结构单元的比例为88质量％以下。3.如权利要求2所述的电子照相感光体，其中，相对于构成上述乙烯基系共聚物的全部结构单元，上述具有氯的结构单元的比例为80质量％以上87质量％以下。4.一种电子照相感光体，其具有导电性基体、电荷产生层和电荷传输层，该电荷产生层设于上述导电性基体上，含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物，上述乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元和具有芳香族多元羧酸结构的结构单元，上述乙烯基系共聚物在30℃的四氢呋喃100质量份中的溶解度为10质量份以下；该电荷传输层设于上述电荷产生层上，含有电荷传输材料和粘结性树脂。5.如权利要求1～4中任一项所述的电子照相感光体，其中，设上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元相对于构成上述乙烯基系共聚物的全部结构单元的比例为a质量％、设上述电荷产生材料相对于上述乙烯基系共聚物的含量为c质量％时，a/c的值为3.00
×
10-3
以上1.40
×
10-2
以下。6.如权利要求1～5中任一项所述的电子照相感光体，其中，上述具有氯的结构单元由下述通式(1)所表示，上述具有酰氧基的结构单元由下述通式(2)所表示，上述通式(1)中，r
11
～r
13
各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，上述通式(2)中，r
21
～r
23
各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的烷基，r
24
表示碳原子数1～5的烷基。7.如权利要求6所述的电子照相感光体，其中，上述通式(1)中的r
11
～r
13
均为氢原子，上述通式(2)中的r
21
～r
23
均为氢原子，r
24
为甲基。8.如权利要求1～7中任一项所述的电子照相感光体，其中，上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元为具有邻苯二甲酸结构的结构单元。9.一种在图像形成装置中装卸的处理盒，其具备权利要求1～8中任一项所述的电子照相感光体。10.一种图像形成装置，其具备：权利要求1～8中任一项所述的电子照相感光体；
充电机构，对上述电子照相感光体表面进行充电；静电潜像形成机构，在经充电的上述电子照相感光体表面形成静电潜像；显影机构，利用包含调剂的显影剂将形成在上述电子照相感光体表面的静电潜像显影，形成调剂图像；以及转印机构，将上述调剂图像转印至记录介质表面。

技术总结

本发明涉及电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置。电子照相感光体具有：导电性基体；电荷产生层，其设于上述导电性基体上，含有电荷产生材料和乙烯基系共聚物，上述乙烯基系共聚物包含具有氯的结构单元、具有酰氧基的结构单元和具有芳香族多元羧酸结构的结构单元，上述具有氯的结构单元相对于全部结构单元的比例为80质量％以上，上述具有芳香族多元羧酸结构的结构单元相对于全部结构单元的比例为0.5质量％以上；以及电荷传输层，其设于上述电荷产生层上，含有电荷传输材料和粘结性树脂。含有电荷传输材料和粘结性树脂。含有电荷传输材料和粘结性树脂。