MOS做电源开关的电路,NMOS、PMOS高侧低侧驱动大全解,电容浮栅自举电路...

MOS做电源开关的电路,NMOS、PMOS⾼侧低侧驱动⼤全解,电容浮栅⾃举
电路,泄放电阻的。。。
  随着对器件的控制需求提升,越来越多的电源开关电路出现在设计中。这些设计的⽬的各有不同:有的需要快速开通与关断,有的需要低导通电阻+⼤电流,有的需要闲时0功耗。虽然应⽤场合不同,但做开关可是MOS的强项。下⾯来介绍⼏种产品设计中常⽤的MOS做电源开关的电路。
1、NMOS低侧电源开关
【低侧驱动,最简单最实⽤,但不⼀定适⽤所有的电路,会对部分电路的⼯作有影响】
  由于NMOS和PMOS在原理和⽣产⼯艺上存在差异,导致同价格的NMOS在开通速度、额定电流、导通内阻这些参数上均优于PMOS,所以设计中尽量优先选择NMOS。
  下图为使⽤NMOS,最简单的开关电路。(低侧驱动)
CONTROL为控制信号,电平⼀般为3~12V。负载⼀端接电源正极,另⼀端接NMOS的D(漏极)。
CONTROL电平为⾼时,Vgs>NMOS的Vgs导通阀值,MOS导通,负载⼯作。
CONTROL电平为低时,Vgs=0,MOS关断,负载停机。
1.1、设计时注意事项
1.1.1、泄放电阻 R1
  上⾯这个电路中,通常都会在NMOS的G极、S极间,并联⼀个10K左右的电阻。这个电阻通常被叫做泄放电阻,⽤来泄放GS极间的电荷。加它的原因是因为MOS的GS极间的阻值⾮常⾼,通常为M欧以上,并且GS间还有结电容,这就导致GS⼀旦充电,就很难释放掉。如果没有这个泄放电阻,在G极通⼊⾼电平,负载会⼯作,⽽将G极上的控制信号拿开,由于结电容的存在,GS间的电压会维持在导通阀值以上很长⼀段时间,负载仍会继续⼯作。⽽加了泄放电阻,会加快泄放速度,使电路功能更加合理易⽤。
1.1.2、Vgs电压范围对导通速度、导通内阻的影响
  通常来讲,TO-220、TO-251AA、SOP-8、SO-8(DFN3x3 5x5)、TO-252、TO-263 这些封装较⼤的器件,其额定耐压、额定电流都⽐较⼤,Vgs的最⼤允许范围⼀般为± 20V。
  因Vgs的驱动电压越⾼,MOS的导通电阻就越⼩,导通速度也越快,所以像电机控制⼀般多使⽤12V作为驱动电压。(见下图⼿
册,Vgs=4.5V 和 10V 时,MOS导通内阻的对⽐)
  SOT-23封装的MOS,其Vgs最⼤范围⼀般为± 12V。
  切莫使Vgs超出⼿册规定的范围,会使MOS损坏。
  下图为 IRLR7843 - NMOS 数据⼿册的部分内容。
1.1.3、寄⽣结电容 | 驱动电流 | 栅极驱动器
1.1.3.1、寄⽣结电容对开断速率的影响
  MOS的GS极间的寄⽣结电容⼤⼩,影响了开断速度。越⼩开断越快,响应越迅速。选型时,应尽量选择⼩的,可以有更快的开断速度,以降低开关损耗。
1.1.3.2、寄⽣结电容和驱动频率对驱动电流的需求
  MOS的GS极内阻⾮常⼤,对外主要体现为容性,低频时对电流的需求不明显,⽽随着频率升⾼,电
容充放电频率的加快,电容的容抗与频率成反⽐,容抗变⼩。
  这时在输⼊信号的频率相对较⾼的条件下,驱动MOS就需要⽐以前⼤得多的驱动电流。⼤到⼀定程度,MCU端⼝能提供的⼏mA电流就显然不够⽤了,继续使⽤MCU端⼝直驱,⼀⽅⾯会使MCU过载,另⼀⽅⾯会对输出信号的波形造成衰减,严重时会影响NMOS的正常开通。
  这种情况,常见于电机控制或者电源转换。控制信号通常为⼏⼗KHz~⼏M的PWM波形。需要使⽤专⽤的MOS栅极驱动IC。NMOS的低侧驱动IC很简单,内部⼤多为⼀个半桥。市⾯上使⽤更多的驱动IC为⾼侧+低侧栅极驱动IC,即为NMOS半桥栅极驱动,⽽单单低侧的栅极驱动由于较为简单,搞个NP对管就能实现相近的效果,即使芯⽚有很多选择,也并不常⽤。
2、NMOS⾼侧电源开关(⾼侧驱动,稳定、性能好)
【也叫⾼端驱动、⾼边驱动,因⾼端中⽂容易混淆,所以⼀般书⾯形式叫⾼边、⾼侧的会多⼀些】
  NMOS做低侧开关,是⽤NMOS将元件的GND浮空,并通过开通GND开开关电路负载。
  ⼀般的电路这样⽤可能没什么问题,但有的则不⾏,例如需要低侧电流采样的电机驱动电路,可能导致⼯作异常。或者有电源完全断开的需求,NMOS低侧开关显然不适合。
  NMOS的⾼侧栅极驱动,⼀般需要搭配额外的栅极驱动芯⽚,这类芯⽚⼤体有两种:
1、集成电荷泵的NMOS⾼侧驱动:⼀种是内部集成电荷泵的。可允许⾼侧NMOS的持续开通,即允许100%占空⽐输⼊。性能稳定,
但栅极驱动器芯⽚的成本略⾼。
2、电容浮栅⾃举:另⼀种是通过电容浮栅⾃举。需要输⼊信号为PWM,通常只允许99%占空⽐输⼊,以在空闲时间给⾃举电容充电。
这种应⽤需要限制PWM信号的占空⽐,不能100%占空⽐输⼊,不能⾼侧持续导通。
电容浮栅⾃举电路原理
  电机控制和功率变换应⽤中,较多使⽤的是电容浮栅⾃举,其内部电路形式⼤多为 ⾼侧+低侧栅极驱动IC,或者叫NMOS半桥栅极驱动IC。其内部集成死区控制器,以防⽌半桥上下管同时开通,造成短路MOS过流损坏,俗称炸管。常⽤型号如 IR2101、IR2104、
高压mos管IR2110、IR2130,市⾯上的⼤多数栅极驱动IC多以这⼏款IC为仿照蓝本。
  下⾯简述下电容⾃举电路的原理,其是如何实现⾼压隔离和 电容⾃举充放电的。个⼈理解可能有偏颇,还望指正。这⾥以 IR2101 的⼿册为例。
  请留意第⼆张的右上⾓:
0、图1右侧的TO与LOAD是直接连接的,且 HIN、LIN 的信号近似为差分(⼀般会额外插⼊些死区),所以右侧半桥输出的电平,可
以近似的看为 0 ~ 600V 的数字信号,输出不是600V就是0V。这是⼤前提,这⾥先不考虑外部负载对上升、下降沿过程的影响,近似看做纯数字电路来⽅便理解。
1、当输⼊信号 HIN 为0时,图2右上⾓的 ⾼侧MOS关断,低侧MOS导通。外部⾼侧NMOS的GS通过内部的低侧MOS来迅速放电,
使外部⾼侧MOS关断。于此同时,外部低侧MOS导通,半桥输出电平为0V,可近似看作⾃举电容的低边直接接到了GND上,构成了⾃举电容的充电回路。这时⾃举电容会在⼆极管的辅助下,择机充电。
2、当输⼊信号 HIN 为1时,图2右上⾓的 ⾼侧MOS导通,低侧MOS关断。⾃举电容通过 Vb -> HO 路径向 外部的⾼侧NMOS放
电,于是外部的⾼侧NMOS导通,⾃举电容逐渐放电电压缓慢变低。因MOS的GS极间内阻⾮常⼤,外部的⾼侧NMOS可以保持导通很长时间。【这步相当于将冲好电的⾃举电容,突然架空GND,再瞬间转移到到 Vs 和 HO 上,使外部NMOS的GS间电位与⾃举电容保持⼀致。整个过程与电荷泵倍压的原理⼏乎是⼀样的,只不过这⾥的充放电频率与HIN、LIN的频率保持⼀致,⽽电荷泵倍压⼀般使⽤内置震荡源】
因 HIN、LIN 输⼊信号为PWM,且限制最⼤占空⽐为99%,上⾯过程随PWM周期重复。
NMOS电荷泵⾼侧驱动IC的⼀些型号
  在IC⼚商官⽹的产品选型页,不是很容易直接搜到 MOS⾼侧驱动。⼀般被叫做 热插拔控制器,额外集成了⾼边差分放⼤器,对浪涌电流进⾏保护。
  TI的 ⾼侧开关产品列表,其MOS都是内部集成的,不能外接NMOS。好不容易能在 电⼦保险丝和热插拔控制器 中到个 LM5060。单纯的NMOS⾼侧驱动型号很少,⼤多都是集成电流保护的 热插拔控制器。
  ADI 有专门的 热插拔控制器 和 ⾼侧栅极驱动器 分类,能外接NMOS的型号还是⾮常多的。如LTC4380、ADM4210、LTC4440、LTC7000。

本文发布于:2024-09-23 14:36:06,感谢您对本站的认可!

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