硅片碱液清洗机技术方案

硅片碱液清洗设备技术方案书
呼和浩特市欧通能源科技有限公司
组合式桥架目录
一、系统要求: (3)
二、清洗原理 (3)
三、设备构造组成 (3)
四、流程总述 (4)
五、清洗工艺流程 (5)
六、设备主要技术参数 (5)
发光二极管封装1、热水压力喷淋清洗工位 (5)
2、碱液刷洗工位 (6)
闪蒸塔
3、压力喷淋漂洗工位 (6)
4、吸水辊吸水工位 (7)
5、风刀切液工位 (7)
七、系统描述 (7)
1、上、下料装置 (8)
2、热水压力喷淋清洗工位、压力喷淋漂洗工位 (8)
3、碱液刷洗工位 (8)
4、吸水辊吸水工位 (8)
5、风刀切液工位 (8)
八、平安防护 (8)
九、清洁要求 (9)
十、整机参数: (9)
十一、设备配送技术资料: (9)
十二、售后效劳: (9)
一、系统要求:
篮球打气筒
a)清洗对象:硅片;
b)线速度:0-4米/分;
c)清洗介质:自来水、碱性硅片清洗剂;
d)产量:2吨/8小时
二、清洗原理
接受托辊双动力输送,上压辊利用机械高速辊刷法加碱性清洗剂将硅片上下外表的油墨及杂质去除,然后利用高压水喷洗硅片外表,将硅片外表残留的杂质及碱性清洗剂冲洗干净。
三、设备构造组成
该设备至少由上料工位、热水压力喷淋清洗工位、碱液刷洗工位、压力喷淋漂洗工位、吸水辊吸水工位、风刀切液工位、下料工位、加热温控系统、托辊输送系统、压辊定位系统、储液槽、无纺布过滤系统、机体框架及电气限制系统等组成。示意图如下:
四、流程总述
首先人工将硅片摆在上料工位,由托辊输送系统将硅片输送至设备内部,在托辊和定位辊的输送下依次进入热水压力喷淋清洗工位、碱液刷洗工位、压力喷淋漂洗工位,硅片漂洗完成后通过吸水辊工位将硅片外表大局部的水分吸走,然后由托辊输入风刀切液工位,风刀切液工位将硅片外表残留的水气吹干,最终由托辊输送至下料工
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位的滑板上,硅片自动掉入下一工序的上料位。至此完成一个完整的清洗烘干流程。
五、清洗工艺流程
552h
上料工位→热水压力喷淋清洗工位→碱液刷洗工位→压力喷淋漂洗工位→吸水辊吸水工位→风刀切液工位→下料工位
六、设备主要技术参数
1、热水压力喷淋清洗工位

本文发布于:2024-09-21 18:50:12,感谢您对本站的认可!

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