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高 新 技 术
１ 平行光曝光机的工作原理１．１ 平行光曝光机的优势特点 从精密线路的制作方面来看，平行光具备的优势十分明显，其在干膜抗蚀剂成像中的应用能够有效改善图像呈像后侧蚀控制的散光方式，从而保证线路制作中的线宽和线距更符合相关技术的规范标准，在此基础上，还能利用高强度、高功率的光源进一步缩短曝光的时间，提升生产效率。而基于此的平行光曝光机能够通过反光膜镀膜技术和点光源的结合使用，改变宽光波长，剔除多余可见光，使其反射在蜂镜上，打散之后就形成了平行光。其能够在控制软件的帮助下，实现图像的数控转换自动对位，不但节省了大量的劳动力，还有效提高了产品的生产效率和质量。 １．２ 平行光曝光机光源的工作原理
在印刷电路的制造过程中，使用的光源一般是紫外光源，其波长范围为300 nm~400 nm，主要的应用方式为水银弧光灯。水银弧光灯的基本原理是当电流通过一个布满金属蒸气和惰性气体的玻璃密封管时，会引起弧光的出现。这主要是因为玻璃封管内的游离电子受电流的影响，提升了自身能量和速度，并通
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过与封管内惰性气体的碰撞发生相应的反应。导致正电荷的氖离子向电子负极运动，再次与电子碰撞之后，形成激发态的氖离子，并将自身的激发能转移至封管内存有的金属蒸气中，使金属蒸气也被激发，从而利用光能将激发能散出，产生弧光。 １．３ 平行光曝光机光路的工作原理
平行光曝光机光路的工作原理为水银弧光灯发出的部分光源，通过聚光器和介质性的镜面反射，将光源中的红外光透出，而其中具有的能量则被散热座散出。光源中剩存的冷光则以90°的角度透过光线整合器，此时剩余的光源基本上是纯度较高的紫外光，外观为蓝。之后再通过2个反射表面也就是平行光反射器射出，此时光源就成功变成了平行光，作用在工作区内。
威尔逊氏病在图形转移技术中，干膜是一种感光材料介质，主要由光敏抗蚀胶膜、聚集片基以及聚乙烯保护膜组成。其中光敏
抗蚀胶膜的主要成分是光敏性抗蚀树脂，
片基起到承载光敏抗蚀胶膜的作用，能够保证其尺寸的稳定性，不被磨损。聚乙烯保护膜覆盖在光敏抗蚀胶膜的另一面，同样起到保护作用。而底片在图形转移中主要起到转移媒介的作用。
２．２ 图形转移技术
图形转移技术的主要原理为光路中的紫外光在透过干
膜和底片时发生相应的化学反应，从而改变了高分子内部或高分子间的化学结构，引起感光性高分子物质的变化，降低其化学活性。而没有接受紫外光照射的部分则不发生化学反应，其活性保持不变。基于此，再利用溶解或者剥离的方式进行处理，最终形成导电图形。静压测试
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２．３ 干膜图形转移流程
干膜图形的转移流程如图1所示。
图1干膜图形的转移流程
３ 高精密度平行光曝光机图形转移技术的要点分析３．１ ＰＣＢ板面粗糙度控制分析
PCB 板面的粗糙度主要为增加PCB 覆铜箔与干膜表面结合力。其Rz 值要大于等于1.5 μm ，小于2.5 μm 。PCB 板面在磨板之前，板面的粗糙度并不均匀且不符合相应的技术指标要求。而PCB 板面经过磨板之后，其粗糙度均匀程度较高且符合技术指标要求。因此，在平行光曝光机图形转移技术的研发过程中，必须要对PCB 板面的粗糙度进行控制，使PCB 板面粗糙度均匀，呈现沙粒化和多蜂状，尽可能满足技术粗糙度的要求。
３．２ 贴膜技术控制分析
在平行光曝光机图形转移技术中，还要注意对贴膜技术的把控。在印刷电路板干膜的贴膜过程中，必须采用由内而外的加热方式对2只压膜滚轮进行加热，并使用对应的红外测温器对其表面温度进行检测，再利用电子温度控制器对加
高精密度平行光曝光机图形转移技术
江洪全
（深圳市劲拓自动化设备股份有限公司，广东 深圳 518101）
空调线束摘 要：随着我国社会经济和科技水平的不断进步，我国电子行业的发展也越来越好，人们对电子产品高精度成像的需求越来越高，相应的对印刷电路板设计和制造方面的要求也有所提高。在此背景下，针对PCB 生产所需的曝光设备的研发力度也在不断加强，而平行光曝光设备正是制造密集线路的关键设备。因此，该文从平行光曝光机的工作原理入手，对高精密度平行光曝光机图形转移技术的要点进行分析，并提出相应的措施以实现曝光机线路向精细化方向的发展，从而在技术层面上为高精密度线路板的制造提供有力支撑。关键词：高精密度；平行光曝光机；图像转移中图分类号：TN41 文献标志码：A
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