班级：信息0503 实验日期：2007.6.7
姓名：宋江凌学号：40550070 同组人姓名：
【目的要求】：直接的接触薄膜材料，对薄膜材料有一个直观的感性认识
了解喝学会直流溅射制备金属的原理和方法
学会制备干涉法测量薄膜厚的薄膜样品的方法
【实验原理】：1.SBC-12小型直流溅射仪，它可以在较低的真空度下进行直流溅射，因此简化了真空系统，只需用机械真空泵提供1～2Pa的真空度即可，大大缩短了实验时间
2.直流溅射制备金属薄膜
溅射就是指荷能粒子轰击表面，使得固体表面原子从表面射出的现象，这些从固体表面射出的粒子大多呈原子状态，通常称为被溅射原子。溅射例子轰击靶材，从而使得表面成为被溅射原子，被溅射原子沉积到衬底上就形成了薄膜。溅射法又可分为直流溅射，磁控溅射，射频溅射和反应溅射法.
番茄加速3.制备干涉方法测量金属薄膜厚度的样品，干涉法测量薄膜厚度的原理和实验装置参考7.3，在干涉法测量薄膜膜厚的样品构成的空气劈尖，当台阶的高度为待测膜厚d。为了观察到清晰的干涉条纹，表面应该具有很好的反光性
【实验仪器】：SBC-12小型直流溅射仪，机械泵，超声波清洗器，氩气，玻璃衬底等
【实验内容】：1.直流溅射制备金属薄膜
（1）把金靶到工作台的距离调整到40～45mm。
（2）用超声波清洗器先后在丙酮，无水乙醇中清洗玻璃衬底，把玻璃衬底烘干后放在镀膜室的工作台上；盖上镀膜室的上盖。 tt42
（3）打开“总电源开关”，机械泵开始对镀膜室抽真空，观测镀膜室的真空度，小于2Pa时打开氩气控制阀门的针阀，像镀膜室充入氩气。
（4）设定好“定时器”的时间，为防止过热，单次连续溅射的时间不要超过60s，制备较厚的薄膜时采取多次溅射法
（5）按下“试验”按钮，检查“溅射直流表”中显示的电流是否在7～10mA 之间，立即松开“试验”按钮；然后，按下启动按钮，金靶被加上1000V
双桨叶干燥机
的溅射电压，金薄膜沉积开始。这是可以看见镀膜室发出紫的等离
子辉光放电现象，“溅射电流表”中显示的电流稳定在5～8mA之间。
随时通过对氩气控制阀“针阀”的自习调节，控制氩气的流量使镀膜
室的真空度稳定
（6）当“定时器”所设定的沉积时间达到之后，溅射电压变为0，溅射自动停止溅射电流表显示电流为零完成了薄膜制备过程中的一次溅
射沉积。需要多次溅射沉积则重复以上步骤。
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（7）关闭氩气控制阀“针阀”，关上总电源开关，拉起“镀膜室上盖”上的“放气阀”，给镀膜室充入空气。回到大气压后，打开镀膜室上盖，取压铸机料筒的设计
出薄膜样品。
金薄膜制备条件
通过以上操作，分别制出沉积时间为4min，6min，10min，15min，20min的金薄膜样品。
2.干涉法测量薄膜样品的制备导热油配方
通过上述操作在玻璃衬底上制备金薄膜，沉积时间选为4min。其次把上述沉积有金薄膜的玻璃衬底的一半用玻璃片覆盖，另一半裸露着；用胶带把覆盖玻璃片固定在工作台，最后再次沉积金薄膜，沉积时间为15min。沉积完成后去掉玻璃片就获得了待测薄膜厚的金薄膜样品。
【数据和数据处理】：
【分析讨论】：
【结论】：
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