一种半导体硅片清洗中的废酸处理装置[发明专利]

专利名称:一种半导体硅片清洗中的废酸处理装置专利类型:发明专利
发明人:吴棋钢,安旭辉,姚伟,张平,袁圣雨
申请号:CN202111507768.4
申请日:20211210
公开号:CN114199045A
公开日:
20220318
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了一种半导体硅片清洗中的废酸处理装置,包括预降温装置、虹吸管和排酸槽;排酸槽通过虹吸管与装有废酸液的石英缸,虹吸管上设置有预降温装置,虹吸管贯穿预降温装置的降温箱体;喷洒件的U型板通过齿轮传动方式与第一冷凝管连接,第一冷凝管的底部连接有喷洒架;预降温装置的喷淋管的两端通过连接轴转动安装在降温箱盖的内壁上,连接轴通过齿轮传动方式与横杆连接,喷淋管的顶部设置有第二冷凝管;U型板与横杆通过斜杆进行连接,本发明具有结构简单,制造成本低的优点,可以将170℃的硫酸直接排放,不会破坏到厂务管道,和加快酸槽使用效率;以及在排酸槽上前置有预降温装置,可以对170℃的硫酸进行降温预处理工作。
申请人:富芯微电子有限公司
地址:230000 安徽省合肥市高新区香蒲路503号
国籍:CN
代理机构:北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人:胡阔雷

本文发布于:2024-09-20 10:48:45,感谢您对本站的认可!

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