一种半导体新材料制备用抛光台

本发明涉及半导体新材料领域，尤其涉及一种半导体新材料制备用抛光台。

半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的，大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联。半导体晶片是半导体新型材料之一，晶片需要进行抛光才能得到光亮如境的表面，抛光台可为其进行抛光。普通的抛光台在对晶片进行抛光时，由于抛光过程中需要加入抛光液和抛光粉，因此抛光台旋转过程中，抛光液会受到离心力的作用向四周喷洒，且抛光到一定条件下，经常会遇到抛光不全面，导致晶片抛光面有磨损，为了避免这种情况，因此亟需研发一种能够避免抛光液在抛光过程中飞溅，同时可检查晶片抛光完整性减少残次品的半导体新材料制备用抛光台。

本发明为了克服普通的抛光台在对晶片进行抛光时，由于抛光过程中需要加入抛光液和抛光粉，因此抛光台旋转过程中，抛光液会受到离心力的作用向四周喷洒，且抛光到一定条件下，经常会遇到抛光不全面，导致晶片抛光面有磨损的缺点，本发明要解决的技术问题是提供一种能够避免抛光液在抛光过程中飞溅，同时可检查晶片抛光完整性减少残次品的半导体新材料制备用抛光台。

本发明由以下具体技术手段所达成：

一种半导体新材料制备用抛光台，包括有支撑脚、集水筒、控制台、调节滑轨、承重电动推杆、防溅组件、观察组件、载盘、承重架、起铰接架、抬起杆、连接杆、压杆、调节螺栓、锁紧螺栓、固定架、抛光转台、螺纹孔、卡槽和插孔；集水筒固接于支撑脚顶部；控制台固接于集水筒一外侧壁；抛光转台固接于集水筒内底面；调节滑轨固接于集水筒另一外侧壁，且调节滑轨底面均匀开设有螺纹孔；承重电动推杆与调节滑轨滑动连接，且承重电动推杆底部开设有卡槽；调节螺栓与螺纹孔螺接，且贯穿螺纹孔与卡槽卡接；承重架与承重电动推杆输出端传动连接；抬起杆通过抬起铰接架与承重架铰接，且抬起杆上开设有插孔；固定架固接于承重架，且固定架上开设有与螺纹孔；锁紧螺栓贯穿插孔，与固定架上的螺纹孔螺接；观察组件固接于抬起杆底部；连接杆固接于抬起杆；压杆固接于连接杆底部；载盘固接于压杆底部；

防溅组件包括有承重筒、调节电动推杆、固定块和透明筒；承重筒固接于集水筒外壁；调节电动推杆固接于承重筒内底面；固定块与调节电动推杆输出端传动连接；透明筒固接于固定块，且位于集水筒内；

观察组件包括有收回电动推杆、调节铰接架、倾斜杆、摄像头和蓄电池；收回电动推杆嵌于抛光转台侧壁；蓄电池固接于收回电动推杆；倾斜杆通过铰接架与收回电动推杆输出端铰接；摄像头固接于倾斜杆。

进一步的，该半导体新材料制备用抛光台还包括有防水壳；防水壳包裹住收回电动推杆、蓄电池及摄像头。

进一步的，该半导体新材料制备用抛光台还包括有LED灯；LED灯固接于摄像头底部，且照射方向与摄像头一致。

进一步的，所述集水筒内设置有输送抛光液的外接管，抛光转台上铺设有抛光垫。

进一步的，所述摄像头内设置有无线发射器。

进一步的，所述载盘底面设置有粘贴晶片用的石蜡载片。

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：

本发明达到了避免抛光液在抛光过程中飞溅，同时可检查晶片抛光完整性减少残次品的效果，随着抛光转台、抛光垫的高速旋转配合抛光液、抛光粉的辅助作用，对晶片进行抛光，但由于抛光转台高速旋转，抛光液会受到离心力的作用向四处无规则飞溅，通过控制台控制开启防溅组件，防溅组件会从集水筒内伸出，并遮挡抛光液飞溅途径，从而避免抛光液四溅，抛光液溅到防溅组件后，会滴落至集水筒内以便于收集，当抛光完毕后，为了避免晶片抛光不完全的现象，因此承重电动推杆输出端伸长，从而抬起载盘及晶片，由控制台控制，抛光转台缓慢旋转，启动观察组件，观察组件伸出摄像设备，摄像设备随着抛光转台缓慢旋转而对着载盘下方的晶片拍摄，并将拍摄数据传输至控制台上的显示屏，让使用者通过观察控制台上的摄像内容了解到晶片是否抛光完全，若未抛光完全则可收回观察组件再进行一次细致抛光，以达到充分完全抛光的效果，避免出现次品。

图1为本发明的第一种立体结构示意图。

图2为本发明防溅组件的主视结构示意图。

图3为本发明观察组件的第一种主视结构示意图。

图4为本发明调节滑轨的主视结构示意图。

图5为本发明调节滑轨的仰视结构示意图。

图6为本发明抬起杆的主视结构示意图。

图7为本发明观察组件的第一种主视结构示意图。

图8为本发明的第二种立体结构示意图。

附图中的标记为：1-支撑脚，2-集水筒，3-控制台，4-调节滑轨，5-承重电动推杆，6-防溅组件，61-承重筒，62-调节电动推杆，63-固定块，64-透明筒，7-观察组件，71-收回电动推杆，72-调节铰接架，73-倾斜杆，74-摄像头，75-蓄电池，8-载盘，9-承重架，10-抬起铰接架，11-抬起杆，12-连接杆，13-压杆，14-调节螺栓，15-锁紧螺栓，16-固定架，17-抛光转台，18-螺纹孔，19-卡槽，20-插孔，21-防水壳，22-LED灯。

以下结合附图对本发明做进一步描述：

实施例

一种半导体新材料制备用抛光台，如图1-8所示，包括有支撑脚1、集水筒2、控制台3、调节滑轨4、承重电动推杆5、防溅组件6、观察组件7、载盘8、承重架9、起铰接架、抬起杆11、连接杆12、压杆13、调节螺栓14、锁紧螺栓15、固定架16、抛光转台17、螺纹孔18、卡槽19和插孔20；集水筒2固接于支撑脚1顶部；控制台3固接于集水筒2一外侧壁；抛光转台17固接于集水筒2内底面；调节滑轨4固接于集水筒2另一外侧壁，且调节滑轨4底面均匀开设有螺纹孔18；承重电动推杆5与调节滑轨4滑动连接，且承重电动推杆5底部开设有卡槽19；调节螺栓14与螺纹孔18螺接，且贯穿螺纹孔18与卡槽19卡接；承重架9与承重电动推杆5输出端传动连接；抬起杆11通过抬起铰接架10与承重架9铰接，且抬起杆11上开设有插孔20；固定架16固接于承重架9，且固定架16上开设有与螺纹孔18；锁紧螺栓15贯穿插孔20，与固定架16上的螺纹孔18螺接；观察组件7固接于抬起杆11底部；连接杆12固接于抬起杆11；压杆13固接于连接杆12底部；载盘8固接于压杆13底部。

防溅组件6包括有承重筒61、调节电动推杆62、固定块63和透明筒64；承重筒61固接于集水筒2外壁；调节电动推杆62固接于承重筒61内底面；固定块63与调节电动推杆62输出端传动连接；透明筒64固接于固定块63，且位于集水筒2内。

观察组件7包括有收回电动推杆71、调节铰接架72、倾斜杆73、摄像头74和蓄电池75；收回电动推杆71嵌于抛光转台17侧壁；蓄电池75固接于收回电动推杆71；倾斜杆73通过铰接架与收回电动推杆71输出端铰接；摄像头74固接于倾斜杆73。

该半导体新材料制备用抛光台还包括有防水壳21；防水壳21包裹住收回电动推杆71、蓄电池75及摄像头74。

该半导体新材料制备用抛光台还包括有LED灯22；LED灯22固接于摄像头74底部，且照射方向与摄像头74一致。

所述集水筒2内设置有输送抛光液的外接管，抛光转台17上铺设有抛光垫。

所述摄像头74内设置有无线发射器。

所述载盘8底面设置有粘贴晶片用的石蜡载片。

当需要使用本抛光台时，将晶片通过石蜡粘贴于载盘8底部，在抛光转台17上铺设抛光垫后，通过调节滑轨4调节承重电动推杆5的位置，调节至合适位置后，将调节螺栓14旋入合适的螺纹孔18，使调节螺栓14插入承重电动推杆5底部的卡槽19内，以固定住承重电动推杆5，随后将抬起杆11通过抬起铰接架10转动至水平，并由锁紧螺栓15插入插孔20内，贯穿插孔20后旋入螺纹孔18中，以固定抬起杆11，此时载盘8位于抛光转台17上方，此时使用者通过控制台3启动抛光转台17，并打开外接管输送抛光液，承重电动推杆5输出端收缩，带动承重架9及与承重架9连接的抬起杆11、载盘8下降至抛光转台17，使载盘8上的晶片与抛光转台17上的抛光垫接触，随着抛光转台17、抛光垫的高速旋转配合抛光液、抛光粉的辅助作用，以将晶片进行抛光，但由于抛光转台17高速旋转，抛光液会受到离心力的作用向四处无规则飞溅，因此设置了防溅组件6，通过控制台3控制开启防溅组件6，防溅组件6会从集水筒2内伸出，并遮挡抛光液飞溅途径，从而避免抛光液四溅，抛光液溅到防溅组件6后，会滴落至集水筒2内以便于收集，当抛光完毕后，为了避免晶片抛光不完全的现象，因此承重电动推杆5输出端伸长，从而抬起载盘8及晶片，此时通过控制台3控制，抛光转台17缓慢旋转，并启动观察组件7，观察组件7伸出摄像设备，摄像设备随着抛光转台17缓慢旋转而对着载盘8下方的晶片拍摄，并将拍摄数据传输至控制台3上的显示屏，让使用者通过观察控制台3上的摄像内容了解到晶片是否抛光完全，若未抛光完全则可收回观察组件7再进行一次细致抛光，以达到充分完全抛光的效果，避免出现次品。

其中，防溅组件6包括有承重筒61、调节电动推杆62、固定块63和透明筒64；承重筒61固接于集水筒2外壁；调节电动推杆62固接于承重筒61内底面；固定块63与调节电动推杆62输出端传动连接；透明筒64固接于固定块63，且位于集水筒2内；当需要避免防止抛光液受离心力影响随处飞溅时，启动调节电动推杆62，调节电动推杆62带动固定块63及透明筒64上升，从而遮挡住抛光液的飞溅途径，使抛光液溅到透明筒64上，并沿透明筒64滴落至集水筒2内，且使用者可透过透明筒64观察到晶片的抛光情况，当需要取出晶片时，调节电动推杆62带动透明筒64下降，从而遮挡使透明筒64下降至集水筒2内，使用者即可取出载盘8上的晶片。

其中，观察组件7包括有收回电动推杆71、调节铰接架72、倾斜杆73、摄像头74和蓄电池75；收回电动推杆71嵌于抛光转台17侧壁；蓄电池75固接于收回电动推杆71；倾斜杆73通过铰接架与收回电动推杆71输出端铰接；摄像头74固接于倾斜杆73；当需要观察晶片是否抛光完全时，通过控制台3启动收回电动推杆71，收回电动推杆71输出端推动倾斜杆73及摄像头74至抛光转台17外，并且事先未抛光前使用者通过铰接架将倾斜杆73转动倾斜，使摄像头74对准晶片，随后控制台3使抛光转台17缓慢旋转，从而让摄像头74沿晶片旋转，并将拍摄内容通过无线发射器传输到控制台3上的显示屏内，让使用者可以清楚的观察到晶片的抛光情况，若未抛光完全，则收回摄像头74，再重新抛光一次，保证晶片的抛光质量。

其中，该半导体新材料制备用抛光台还包括有防水壳21；防水壳21包裹住收回电动推杆71、蓄电池75及摄像头74；设置防水壳21能够避免抛光液侵蚀收回电动推杆71、蓄电池75及摄像头74，达到保护设备的目的。

其中，该半导体新材料制备用抛光台还包括有LED灯22；LED灯22固接于摄像头74底部，且照射方向与摄像头74一致；设置LED灯22能增加光亮，避免摄像头74由于光线不足无法清晰拍摄晶片的抛光情况。

本发明的控制方式是通过控制器来自动控制，控制器的控制电路通过本领域的技术人员简单编程即可实现，电源的提供也属于本领域的公知常识，并且本发明主要用来保护机械装置，所以本发明不再详细解释控制方式和电路连接。

虽然已经参照示例性实施方式详细描述了本公开，但是本公开不限于此，并且对于本领域技术人员显而易见的是，可在不脱离本公开的范围的情况下对其进行各种修改和改变。