一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备与流程

1.本发明涉及计算光刻技术领域，其特别涉及一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备。

背景技术：

2.目前传统的光学掩模修正模型无法预测亚分辨率辅助图形（sub-resolution assistant feature，sraf）是否印出，不便于后续对亚分辨率辅助图形进行调整。

技术实现要素：

3.为了解决传统光学掩模修正（opc）模型未考虑亚分辨率辅助图形是否印出技术的问题，本发明提供一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备。
4.本发明为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种光学掩模修正模型的优化构建方法，所述方法包括以下步骤：s0：获取掩模版图的多个特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并对所述特征数据进行预处理，得到拟合数据；s1：根据所述特征尺寸进行opc建模，得到初始opc模型；s2：根据所述拟合数据对所述初始opc模型进行优化，得到优化opc模型。
5.优选地，所述初始opc模型包含初始计量平面，步骤s2中以所述初始计量平面为基础，对所述opc模型进行优化。
6.优选地，所述特征数据包括含有少量亚分辨率辅助图形印出的测试图形数据和用于普通opc建模的数据中挑选一些带有亚分辨率辅助图形但未印出的数据。
7.优选地，步骤s2包括主优化回合和子优化回合，所述主优化回合包含以下步骤： s21：以所述初始计量平面为基础，设置多个仿真计量平面；s22：基于所述初始计量平面得到主评价函数，以及根据所述拟合数据得出所述多个仿真计量平面对应的额外评价函数；s23：根据所述主评价函数以及所述额外评价函数得出当前主回合的总评价函数。
8.优选地，所述仿真计量平面包含对应的阈值，所述子优化回合包含以下步骤：s220：选择某一个所述仿真计量平面；s221：根据当前所述仿真计量平面的所述阈值计算出在所述仿真计量平面的当前所述阈值下的亚分辨率辅助图形的印出概率；s222：根据所述印出概率，计算出在所述仿真计量平面的当前所述阈值下的子评价函数；s223：根据所述拟合数据对所述阈值进行优化，得到在当前所述仿真计量平面下的优化子评价函数；s224：算出其他所述仿真计量平面的优化子评价函数，并选取最小的优化子评价函数作为额外评价函数。
9.优选地，步骤s2还包括以下步骤：当还未完成预设的主优化回合的次数和/或对主评价函数的优化满足预设标准时，进行下一主优化回合。
10.优选地，步骤s223包含以下步骤：s2230：根据所述拟合数据对所述阈值进行优化，并得到初始中间子评价函数；将所述初始中间子评价函数输入预设的优化器中对应调整所述阈值的大小进行
迭代优化，得到更小的中间子评价函数；当经过预设的迭代优化次数或者对调整所述阈值的大小不能对所述子评价函数进行满足预设标准的优化时，得到当前所述中间子评价函数为所述优化子评价函数。
11.优选地，步骤s24包括以下步骤：当还未完成预设的主优化回合的次数和/或对主评价函数的优化满足预设标准时，进行下一主优化回合。
12.优选地，步骤s23中，计算总评价函数时，引入平衡系数γ，用于权衡opc 模型针对关键尺寸预测和亚分辨率辅助图形印出预测的关系。
13.本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种用于实现上述方法的装置，所述装置包括：获取模块：用于获取掩模版图的特征尺寸以及亚分辨率辅助图形的特征数据；预处理模块：用于对所述亚分辨率辅助图形的特征数据进行预处理；建模模块：用于的根据特征尺寸进行opc建模；优化模块：用于对所述初始opc模型进行优化。
14.本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机设备，所述计算机设备包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序以实现上述方法。
15.与现有技术相比，本发明所提供的一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备，具有如下的有益效果：1.本发明第一实施例提供一种光学掩模修正模型优化构建方法，方法包括以下步骤：s0：获取掩模版图的多个特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并对特征数据进行预处理，得到拟合数据；s1：根据特征尺寸进行opc建模，得到初始opc模型；s2：根据拟合数据对初始opc模型进行优化，得到优化opc模型。可见，相对于传统opc模型，将亚分辨率辅助图形的特征数据引入opc模型的建模过程，可使得优化opc模型具有判断亚分辨率辅助图形是否印出的功能，且不需要对大量的数据进行计算，过程简单，实用性更强。
16.2.本发明第一实施例提供的方法中，初始opc模型包含初始计量平面，步骤s2中以初始计量平面为基础，对opc模型进行优化。以初始计量平面为基础对opc模型进行优化，使得模型在优化的过程中会更加接近真实的情况，可靠性更高。
17.3.本发明第一实施例提供的方法中，步骤s2包括主优化回合和子优化回合，主优化回合包含以下步骤： s21：以初始计量平面为基础，设置多个仿真计量平面；s22：基于初始计量平面得到主评价函数，以及根据拟合数据得出多个仿真计量平面对应的额外评价函数；s23：根据主评价函数以及额外评价函数得出当前主回合的总评价函数。通过主优化回合的迭代优化，可根据总评价函数的变化来判断对opc模型的优化程度，在反复迭代优化的过程中，opc模型可更加接近于真实的情况。
18.4.本发明第一实施例提供的方法中，仿真计量平面包含对应的阈值，子优化回合包含以下步骤：s220：选择某一个仿真计量平面；s221：根据当前仿真计量平面的阈值计算出在仿真计量平面的当前阈值下的亚分辨率辅助图形的印出概率；s222：根据印出概率，计算出在仿真计量平面的当前阈值下的子评价函数；s223：根据拟合数据对阈值进行优化，得到在当前仿真计量平面下的优化子评价函数；s224：算出其他仿真计量平面的优化子评价函数，并选取最小的优化子评价函数作为额外评价函数。在每个子优化的回合中，根据子评价函数的变化来对模型的阈值进行调整，从而不断地对模型进行优化，提高了opc的可靠
性。
19.5.本发明第一实施例提供的方法中，步骤s2还包括以下步骤：当还未完成预设的主优化回合的次数和/或对主评价函数的优化满足预设标准时，进行下一主优化回合。当主优化回合对模型的优化收益较小时，可结束优化回合，节省计算资源。
20.6.本发明第一实施例提供的方法中，步骤s223包含以下步骤：s2230：根据拟合数据对阈值进行优化，得到初始中间子评价函数；将初始中间子评价函数输入预设的优化器中对应调整阈值的大小进行迭代优化，得到更小的中间子评价函数；当经过预设的迭代优化次数或者对调整阈值的大小不能对子评价函数进行满足预设标准的优化时，得到当前中间子评价函数为优化子评价函数。通过反复对阈值进行迭代优化调整，使其更接近真实情况，在进行完预设的迭代回合或者通过调整阈值来取得优化效果收益不明显时，及时跳出迭代循环，在保证了优化效果的基础上，节省了计算资源。
21.7.本发明第一实施例提供的方法中，步骤s23中，计算总评价函数时，引入平衡系数γ，用于权衡opc 模型针对关键尺寸预测和亚分辨率辅助图形印出预测的关系。系数由用户在调整优化前设定，用来权衡opc 模型针对关键尺寸预测和亚分辨率辅助图形印出预测的关系。opc 主模型的任务是预测关键尺寸，从而驱动具体的掩模优化，在将亚分辨率辅助图形是否印出额外纳入考虑后，本质上模型更全面的贴近了真实物理世界，当引入了其他维度的评价函数，针对关键尺寸拟合的数值指标上会有所牺牲，因此需要用系数来做一定的平衡，从而使模型在稍许牺牲关键尺寸拟合数值指标的基础上获得对亚分辨率辅助图形印出预测的能力。
22.8.本发明第二实施例还提供一种装置，具有与上述一种光学掩模修正模型的优化构建方法相同的有益效果，在此不做赘述。
23.9.本发明第三实施例还提供一种计算机设备，具有与上述一种光学掩模修正模型的优化构建方法相同的有益效果，在此不做赘述。
附图说明
24.图1是本发明第一实施例提供的方法的流程示意图。
25.图2是本发明第一实施例提供的方法的步骤s2的流程示意图。
26.图3是本发明第一实施例提供的方法的步骤s22流程示意图。
27.图4是本发明第一实施例提供的方法的opc优化模型的预测结果示意图。
28.图5是本发明第二实施例提供的装置的结构示意图。
29.图6是本发明第三实施例提供的计算机设备的结构示意图。
30.附图标识说明：1、光学掩模修正模型优化构建方法；2、装置；3、计算机设备。
具体实施方式
31.为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
32.请参阅图１，本发明第一实施例提供一种光学掩模修正模型优化构建方法，方法包
括以下步骤：s0：获取掩模版图的多个特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并对特征数据进行预处理，得到拟合数据；s1：根据特征尺寸进行opc建模，得到初始opc模型；s2：根据拟合数据对初始opc模型进行优化，得到优化opc模型。可见，相对于传统opc模型，将亚分辨率辅助图形的特征数据引入opc模型的建模方式，可使得优化opc模型具有判断亚分辨率辅助图形是否印出的功能，且不需要对大量的数据进行计算，过程简单，实用性更强。
33.在一些实施例中，初始opc模型包含初始计量平面，步骤s2中以初始计量平面为基础，对opc模型进行优化。以初始计量平面为基础对opc模型进行优化，使得模型在优化的过程中会更加接近真实的情况，可靠性更高。
34.应理解，特征数据包括含有少量亚分辨率辅助图形印出的测试图形数据和用于普通opc建模的数据中挑选一些带有亚分辨率辅助图形但未印出的数据，在版图上标注出对应的印出位置和非印出位置，且上述的印出位置和非印出位置不重合。示例性地，在s0步骤获取掩模版图的1000个特征尺寸，在1000个特征尺寸中，选取50个带有亚分辨率辅助图形，但亚分辨率辅助图形未印出的特征尺寸，并对这50个特征尺寸所在的位置标记为非印出位置；获取50个含有少量亚分辨率辅助图形印出的测试图形数据，并将这50个测试图形标记为印出位置。对100个位置的真实数据（即亚分辨率辅助图形印出或不印出）进行预处理即得到拟合数据，通过这100个位置的拟合数据对opc模型进行优化，使优化后的opc模型在这100个位置的每个位置上对亚分辨率辅助图形是否印出的预测结果趋近于真实情况。
35.请参阅图2，在一些实施例中，步骤s2包括主优化回合和子优化回合，主优化回合包含以下步骤： s21：以初始计量平面为基础，设置多个仿真计量平面；s22：基于初始计量平面得到主评价函数，已经根据拟合数据算出多个仿真计量平面对应的额外评价函数；s23：根据主评价函数以及额外评价函数得出当前主回合的总评价函数。通过主优化回合的迭代优化，可根据总评价函数的变化来判断对opc模型的优化程度，在反复迭代优化的过程中，opc模型可更加接近于真实的情况。
36.应理解，在每个主优化回合中，拟合数据中的含有亚分辨率辅助图形非印出的位置总是从特征尺寸中获得。
37.优选地，步骤s2还包括以下步骤：判断是否进行下一主优化回合。当主优化回合对模型的优化收益较小时，可结束优化回合，节省计算资源。
38.在一些实施例中，步骤s2包括以下步骤：步骤s24：当还未完成预设的主优化回合的次数和/或对主评价函数的优化满足预设标准时，进行下一主优化回合。若判断结果为不进行下一主优化回合，则得到当前opc模型为opc优化模型。
39.请参阅图3，在一些实施例中，仿真计量平面包含对应的阈值，子优化回合包含以下步骤：s220：选择某一个仿真计量平面；s221：根据当前仿真计量平面的阈值计算出在仿真计量平面的当前阈值下的亚分辨率辅助图形的印出概率；s222：根据印出概率，计算出在仿真计量平面的当前阈值下的子评价函数；s223：根据拟合数据对阈值进行优化，得到在当前仿真计量平面下的优化子评价函数；s224：算出其他仿真计量平面的优化子评价函数，并选取最小的优化子评价函数作为额外评价函数。在每个子优化的回合中，根据子评价函数的变化来对模型的阈值进行调整，从而不断地对模型进行优化，使其更接近真实情况，提高了模型的可靠性。
40.在一些实施例中，步骤s23中，计算总评价函数时，引入平衡系数γ，用于权衡opc 模型针对关键尺寸预测和亚分辨率辅助图形印出预测的关系。示例性地，步骤s23还包括以下步骤：总评价函数=主评价函数+γ*额外评价函数，平衡系数γ在优化前预设。系数由用户在调整优化前设定，用来权衡opc 模型针对关键尺寸预测和亚分辨率辅助图形印出预测的关系。opc 主模型的任务是预测关键尺寸，从而驱动具体的掩模优化，在将亚分辨率辅助图形是否印出额外纳入考虑后，本质上模型更全面的贴近了真实物理世界，当引入了其他维度的评价函数，针对关键尺寸拟合的数值指标上会有所牺牲，因此需要用系数来做一定的平衡，从而使模型在稍许牺牲关键尺寸拟合数值指标的基础上获得对亚分辨率辅助图形印出预测的能力。
41.在一些实施例中，步骤s221包含以下步骤：p(xi)为所述印出概率；i
sraf
为亚分辨率辅助图形标记位置的光刻胶强度（在本发明实施例提供的方法中，i
sraf
为恒定值），threshold为所述阈值。
42.在一些实施例中，步骤s222包含以下步骤：printing_cost为子评价函数。
43.在一些实施例中，步骤s223包含以下步骤：s2230：根据拟合数据对阈值进行优化，得到初始中间子评价函数；将初始中间子评价函数传入预设的优化器中，优化器对应调整阈值的大小进行迭代优化，并得到更小的中间子评价函数；当经过预设的迭代优化次数或者对调整阈值的大小不能对子评价函数进行满足预设标准的优化时，得到当前中间子评价函数为优化子评价函数。通过反复对阈值进行迭代优化调整，使其更接近真实情况，在进行完预设的迭代回合或者通过调整阈值来取得优化效果收益不明显时，及时跳出迭代循环，在保证了优化效果的基础上，节省了计算资源。
44.请参阅图4，opc优化模型基于2000个关键尺寸测量数据的rms从1.53上升到1.65，对40个引出数据，38个预测准确，针对40个非印出数据，无错误预测。
45.将带有亚分辨率辅助图形的掩模图形传入opc优化模型，opc优化模型除了拥有传统opc模型的功能外，还具有预测亚分辨率辅助图形是否印出的功能，即对掩模图形上的亚分辨率辅助图形是否印出进行预测，若有印出，则对该图形进行调整。
46.请参阅图5，本本发明第二实施例还提供一种装置，装置包括：获取模块：用于获取掩模版图的特征尺寸以及亚分辨率辅助图形的特征数据；预处理模块：用于对亚分辨率辅助图形的特征数据进行预处理；建模模块：用于的根据特征尺寸进行opc建模；优化模块：用于对初始opc模型进行优化。
47.请参阅图6，本发明第三实施例还提供一种计算机设备，计算机设备包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，处理器执行计算机程序以实现上述方法。
48.在本发明所提供的实施例中，应理解，“与a对应的b”表示b与a相关联，根据a可以确定b。但还应理解，根据a确定b并不意味着仅仅根据a确定b，还可以根据a和/或其他信息确定b。
49.应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定特征、结构或特性可以以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于可选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。
50.在本发明的各种实施例中，应理解，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的必然先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本发明实施例的实施过程构成任何限定。
51.在本发明的附图中的流程图和框图，图示了按照本技术各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，该模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现方案中，方框中所标注的功能也可以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，在此基于涉及的功能而确定。需要特别注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
52.与现有技术相比，本发明所提供的一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备，具有如下的有益效果：1.本发明第一实施例提供一种光学掩模修正模型优化构建方法，方法包括以下步骤：s0：获取掩模版图的多个特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并对特征数据进行预处理，得到拟合数据；s1：根据特征尺寸进行opc建模，得到初始opc模型；s2：根据拟合数据对初始opc模型进行优化，得到优化opc模型。可见，相对于传统opc模型，将亚分辨率辅助图形的特征数据引入opc模型的建模过程，可使得优化opc模型具有判断亚分辨率辅助图形是否印出的功能，且不需要对大量的数据进行计算，过程简单，实用性更强。
53.2.本发明第一实施例提供的方法中，初始opc模型包含初始计量平面，步骤s2中以初始计量平面为基础，对opc模型进行优化。以初始计量平面为基础对opc模型进行优化，使得模型在优化的过程中会更加接近真实的情况，可靠性更高。
54.3.本发明第一实施例提供的方法中，步骤s2包括主优化回合和子优化回合，主优化回合包含以下步骤： s21：以初始计量平面为基础，设置多个仿真计量平面；s22：基于初始计量平面得到主评价函数，以及根据拟合数据得出多个仿真计量平面对应的额外评价函数；s23：根据主评价函数以及额外评价函数得出当前主回合的总评价函数。通过主优化回合的迭代优化，可根据总评价函数的变化来判断对opc模型的优化程度，在反复迭代优化的过程中，opc模型可更加接近于真实的情况。
55.4.本发明第一实施例提供的方法中，仿真计量平面包含对应的阈值，子优化回合
包含以下步骤：s220：选择某一个仿真计量平面；s221：根据当前仿真计量平面的阈值计算出在仿真计量平面的当前阈值下的亚分辨率辅助图形的印出概率；s222：根据印出概率，计算出在仿真计量平面的当前阈值下的子评价函数；s223：根据拟合数据对阈值进行优化，得到在当前仿真计量平面下的优化子评价函数；s224：算出其他仿真计量平面的优化子评价函数，并选取最小的优化子评价函数作为额外评价函数。在每个子优化的回合中，根据子评价函数的变化来对模型的阈值进行调整，从而不断地对模型进行优化，提高了opc的可靠性。
56.5.本发明第一实施例提供的方法中，步骤s2还包括以下步骤：当还未完成预设的主优化回合的次数和/或对主评价函数的优化满足预设标准时，进行下一主优化回合。当主优化回合对模型的优化收益较小时，可结束优化回合，节省计算资源。
57.6.本发明第一实施例提供的方法中，步骤s223包含以下步骤：s2230：根据拟合数据对阈值进行优化，得到初始中间子评价函数；将初始中间子评价函数输入预设的优化器中对应调整阈值的大小进行迭代优化，得到更小的中间子评价函数；当经过预设的迭代优化次数或者对调整阈值的大小不能对子评价函数进行满足预设标准的优化时，得到当前中间子评价函数为优化子评价函数。通过反复对阈值进行迭代优化调整，使其更接近真实情况，在进行完预设的迭代回合或者通过调整阈值来取得优化效果收益不明显时，及时跳出迭代循环，在保证了优化效果的基础上，节省了计算资源。
58.7.本发明第一实施例提供的方法中，步骤s23中，计算总评价函数时，引入平衡系数γ，用于权衡opc 模型针对关键尺寸预测和亚分辨率辅助图形印出预测的关系。系数由用户在调整优化前设定，用来权衡opc 模型针对关键尺寸预测和亚分辨率辅助图形印出预测的关系。opc 主模型的任务是预测关键尺寸，从而驱动具体的掩模优化，在将亚分辨率辅助图形是否印出额外纳入考虑后，本质上模型更全面的贴近了真实物理世界，当引入了其他维度的评价函数，针对关键尺寸拟合的数值指标上会有所牺牲，因此需要用系数来做一定的平衡，从而使模型在稍许牺牲关键尺寸拟合数值指标的基础上获得对亚分辨率辅助图形印出预测的能力。
59.8.本发明第二实施例还提供一种装置，具有与上述一种光学掩模修正模型的优化构建方法相同的有益效果，在此不做赘述。
60.9.本发明第三实施例还提供一种计算机设备，具有与上述一种光学掩模修正模型的优化构建方法相同的有益效果，在此不做赘述。
61.以上对本发明实施例公开的一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。

技术特征：

1.一种光学掩模修正模型的优化构建方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：s0：获取掩模版图的特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并对所述特征数据进行预处理，得到拟合数据；s1：根据所述特征尺寸进行opc建模，得到初始opc模型；s2：根据所述拟合数据对所述初始opc模型进行优化，得到优化opc模型。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述初始opc模型包含初始计量平面，步骤s2中以所述初始计量平面为基础，对所述opc模型进行优化。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述特征数据包括含有少量亚分辨率辅助图形印出的测试图形数据和用于普通opc建模的数据中挑选一些带有亚分辨率辅助图形但未印出的数据。4.如权利要求2所述的方法，其特征在于：步骤s2包括主优化回合和子优化回合，所述主优化回合包含以下步骤：s21：以所述初始计量平面为基础，设置多个仿真计量平面；s22：基于所述初始计量平面得到主评价函数，以及根据所述拟合数据得出所述多个仿真计量平面对应的额外评价函数；s23：根据所述主评价函数以及所述额外评价函数得出当前主回合的总评价函数。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于：所述仿真计量平面包含对应的阈值，所述子优化回合包含以下步骤：s220：选择某一个所述仿真计量平面；s221：根据当前所述仿真计量平面的所述阈值计算出在所述仿真计量平面的当前所述阈值下的亚分辨率辅助图形的印出概率；s222：根据所述印出概率，计算出在所述仿真计量平面的当前所述阈值下的子评价函数；s223：根据所述拟合数据对所述阈值进行优化，得到在当前所述仿真计量平面下的优化子评价函数；s224：算出其他所述仿真计量平面的优化子评价函数，并选取最小的优化子评价函数作为额外评价函数。6.如权利要求5所述的方法，其特征在于：步骤s2还包括以下步骤：当还未完成预设的主优化回合的次数和/或对主评价函数的优化满足预设标准时，进行下一主优化回合。7.如权利要求6所述的方法，其特征在于：步骤s223包含以下步骤：s2230：根据所述拟合数据对所述阈值进行优化，得到初始中间子评价函数；将所述初始中间子评价函数输入预设的优化器中对应调整所述阈值的大小进行迭代优化，并得到更小的中间子评价函数；当经过预设的迭代优化次数或者对调整所述阈值的大小不能对所述子评价函数进行满足预设标准的优化时，得到当前所述中间子评价函数为所述优化子评价函数。8.如权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤s23中，计算总评价函数时，引入平衡系数γ，用于权衡opc 模型针对关键尺寸预测和亚分辨率辅助图形印出预测的关系。9.一种用于实现如权利要求1-8任一项所述方法的装置，所述装置包括：
获取模块：用于获取掩模版图的特征尺寸以及亚分辨率辅助图形的特征数据；预处理模块：用于对所述亚分辨率辅助图形的特征数据进行预处理；建模模块：用于的根据特征尺寸进行opc建模；优化模块：用于对所述初始opc模型进行优化。10.一种计算机设备，其特征在于：所述计算机设备包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序以实现如权利要求1-8任一项所述方法。

技术总结

本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种光学掩模修正模型的优化构建方法，方法包括以下步骤：S0：获取掩模版图的多个特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并进行特征数据进行预处理，得到拟合数据；S1：根据特征尺寸进行OPC建模，得到初始OPC模型；S2：根据拟合数据对初始OPC模型进行优化，得到优化OPC模型。本发明提供的对传统OPC模型进行了优化，引入了亚分辨率辅助图形的特征数据，可以使得优化OPC模型可以更便捷、准确地判断亚分辨率辅助图形是否印出，以便于对亚分辨率辅助图形进行调整。调整。调整。