一种真空蒸镀设备的蒸镀架的制作方法

1.本实用新型涉及蒸镀技术领域，具体是一种真空蒸镀设备的蒸镀架。

背景技术：

2.真空蒸镀是指在真空条件下，待蒸镀材料受热熔融蒸发，待蒸镀材料以原子或者原子团的形式层积在薄膜上，从而制造得到产品。现有技术中的蒸镀设备主要是坩埚类，往往将坩埚放置在地方排列组合或者放置在容器中，这样的形式很占地方，大大减少了空间利用率，使得镀膜不够高效便捷。现有已授权申请号为202123024098.9的中国实用新型专利，一种空间利用率高的蒸镀架，通过在支撑柱的两侧均衡的固定连接上坩埚，并且在支撑柱垂直空间固定若干组坩埚，将其空间充分利用，以解决上述问题，但是在实际应用过程中，坩埚的分层叠放会对下方坩埚中产生的蒸气的向上流动进行阻挡，使得蒸气产生后向上流动汇聚的速度大大降低，从而会对蒸镀工作的整体工作过程产生影响，使得工作效率有所降低。

技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种真空蒸镀设备的蒸镀架，以解决上述背景技术中提出的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空蒸镀设备的蒸镀架，包括支撑柱、多个坩埚，所有所述坩埚呈上升螺旋的路径依次分布在支撑柱的外表面，所述坩埚的外表面开设有活动槽，所述活动槽的内侧面转动连接有圆盘，所述圆盘的侧面固定连接有连接杆，所述连接杆的外部固定连接有盖板，所述坩埚与盖板之间设置有连接组件，所述坩埚的内部设置有驱动元件，所述坩埚的外表面设置有圆角。
5.作为本实用新型再进一步的方案：其中，所述坩埚的数量为八个，且相邻所述坩埚之间的旋转角度为45
°
，相邻所述坩埚之间的竖直方向距离相等，使得所有坩埚可以均匀地分布在支撑柱的外部，且互相之间不会发生遮挡，从而蒸气在排出时可以直接向上汇聚，快速流动至蒸镀位置。
6.作为本实用新型再进一步的方案：其中，所述活动槽、圆盘以及连接杆的数量均为两个，且对称分布在盖板的两侧，所述驱动元件与一个圆盘传动连接，使得盖板在转动时可以保持较为平稳的状态。
7.作为本实用新型再进一步的方案：其中，所述连接组件包括插槽，所述插槽开设在坩埚的顶面，所述坩埚的内侧面插接有插接板，所述插接板的外表面开设有固定槽，所述坩埚的内侧面固定连接有电磁块，所述电磁块的外部固定连接有挤压弹簧，所述挤压弹簧的外部固定连接有固定块，使得盖板可以稳定盖合在坩埚的表面，使其内部的热量可以快速聚集升温对蒸镀材料进行融化蒸发。
8.作为本实用新型再进一步的方案：其中，所述插槽的宽度值与插接板相对应，其长度值大于插接板的长度值，使得插接板可以随着盖板的转动进入插槽的内部。
9.作为本实用新型再进一步的方案：其中，所述固定块与坩埚的内侧面滑动连接，所述固定槽的尺寸、形状均与固定块相匹配，使得固定块进入固定槽内部后，可以与其内壁保持贴合状态，可以更好地对盖板进行稳定连接。
10.作为本实用新型再进一步的方案：其中，所述连接组件的数量为四个，且呈矩形状对称分布在坩埚的外表面，使得盖板可以稳定盖合在坩埚的表面。
11.作为本实用新型再进一步的方案：其中，所述盖板的内部嵌设有气压传感器，用于对坩埚内部蒸气气压进行检测，通过真空蒸镀设备中的plc控制器，可以在气压传感器检测到坩埚内部蒸气气压到达设定值时控制驱动元件启动，从而可以将盖板打开，使得蒸镀用的蒸气可以排出进行蒸镀覆膜。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
13.1、该真空蒸镀设备的蒸镀架，通过将所有坩埚以上升的螺旋的路径依次等距分布在支撑柱的外表面，使得所有坩埚的上方均无遮挡，从而蒸镀材料蒸发后产生的蒸气可以直接向上流动汇聚，快速地流动至蒸镀腔体内部进行蒸镀材料，避免了蒸镀材料蒸气产生上流过程中被上方坩埚所遮挡导致蒸气流动速度的速度大大降低的情况发生，使得蒸气产生后可以快速流动至指定位置对工件进行蒸镀操作，使得蒸镀工作效率得以有效提高。
14.2、该真空蒸镀设备的蒸镀架，通过圆盘、连接杆、盖板、连接组件、驱动元件之间的相互配合，可以在蒸镀材料加热蒸发过程中对坩埚顶部开口进行封闭，使得坩埚内部的聚热升温速度更快，可以快速使得材料加热蒸发，从而可以有效提高蒸镀的工作效率，节约能源，避免资源的浪费。
附图说明
15.图1为本实用新型真空蒸镀设备的蒸镀架立体图；
16.图2为本实用新型真空蒸镀设备的蒸镀架俯视图；
17.图3为本实用新型坩埚立体图；
18.图4为本实用新型坩埚内部结构示图；
19.图5为本实用新型图4中a处放大结构示意图。
20.图中各附图标注与部件名称之间的对应关系如下：
21.1、支撑柱；2、坩埚；3、活动槽；4、圆盘；5、连接杆；6、盖板；7、连接组件；71、插槽；72、插接板；73、固定槽；74、电磁块；75、挤压弹簧；76、固定块；8、驱动元件；9、圆角。
具体实施方式
22.请参阅图1～5：一种真空蒸镀设备的蒸镀架，包括支撑柱1、多个坩埚2，坩埚2的数量为八个，且相邻坩埚2之间的旋转角度为45
°
，相邻坩埚2之间的竖直方向距离相等，使得所有坩埚2可以均匀地分布在支撑柱1的外部，且互相之间不会发生遮挡，从而蒸气在排出时可以直接向上汇聚，快速流动至蒸镀位置，所有坩埚2呈上升螺旋的路径依次分布在支撑柱1的外表面，坩埚2的外表面开设有活动槽3。
23.活动槽3的内侧面转动连接有圆盘4，圆盘4的侧面固定连接有连接杆5，连接杆5的外部固定连接有盖板6，坩埚2与盖板6之间设置有连接组件7，连接组件7包括插槽71，插槽71开设在坩埚2的顶面，坩埚2的内侧面插接有插接板72，插槽71的宽度值与插接板72相对
应，其长度值大于插接板72的长度值，使得插接板72可以随着盖板6的转动进入插槽71的内部，插接板72的外表面开设有固定槽73，坩埚2的内侧面固定连接有电磁块74，电磁块74的外部固定连接有挤压弹簧75，挤压弹簧75的外部固定连接有固定块76，固定块76由金属贴材料制成，使得盖板6可以稳定盖合在坩埚2的表面，使其内部的热量可以快速聚集升温对蒸镀材料进行融化蒸发，固定块76与坩埚2的内侧面滑动连接，固定槽73的尺寸、形状均与固定块76相匹配，使得固定块76进入固定槽73内部后，可以与其内壁保持贴合状态，可以更好地对盖板6进行稳定连接，连接组件7的数量为四个，且呈矩形状对称分布在坩埚2的外表面，使得盖板6可以稳定盖合在坩埚2的表面
24.坩埚2的内部设置有驱动元件8，此处的驱动元件8为电机，并且该电机的外壳与坩埚2的内壁固定连接，同时，电机的输出轴与圆盘4固定连接，使得圆盘4可以在电机输出轴的传动作用下进行转动，盖板6的内部嵌设有气压传感器，用于对坩埚2内部蒸气气压进行检测，通过真空蒸镀设备中的plc控制器，可以在气压传感器检测到坩埚2内部蒸气气压到达设定值时控制驱动元件8启动，从而可以将盖板6打开，使得蒸镀用的蒸气可以排出进行蒸镀覆膜，活动槽3、圆盘4以及连接杆5的数量均为两个，且对称分布在盖板6的两侧，驱动元件8与一个圆盘4传动连接，使得盖板6在转动时可以保持较为平稳的状态，坩埚2的外表面设置有圆角9，可以保证盖板6的正常转动不会受到阻碍。
25.工作原理：通过将所有坩埚2以上升的螺旋的路径依次等距分布在支撑柱1的外表面，使得所有坩埚2的上方均无遮挡，从而蒸镀材料蒸发后产生的蒸气可以直接向上流动汇聚，快速地流动至蒸镀腔体内部进行蒸镀材料，避免了蒸镀材料蒸气产生上流过程中被上方坩埚2所遮挡导致蒸气流动速度的速度大大降低的情况发生，使得蒸气产生后可以快速流动至指定位置对工件进行蒸镀操作，使得蒸镀工作效率得以有效提高。
26.在蒸镀材料加热时，通过盖板6对坩埚2开口处进行封闭，使得加热时，坩埚2内部的聚热升温速度更快，从而可以快速对蒸镀材料进行蒸发操作，当气压传感器检测到坩埚2内部气压达到设定值时，真空蒸镀设备中的plc控制器依次控制电磁块74通电以及控制驱动元件8启动并驱动圆盘4转动，电磁块74通电后产生磁性并与固定块76相互吸引，使得固定块76移动从固定槽73的内部退出并对挤压弹簧75进行挤压，使得插接板72的运动不再受限，从而盖板6可以进行转动；圆盘4在转动时会带动连接杆5转动，连接杆5转动带动盖板6转动，盖板6转动后会使得坩埚2的顶部开口打开，从而里面的材料蒸气直接排出向上流动，这样就可以有效提高材料蒸发的效率，节约能源，避免资源的浪费。
27.以上所述的，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种真空蒸镀设备的蒸镀架，包括支撑柱（1）、多个坩埚（2），其特征在于，所有所述坩埚（2）呈上升螺旋的路径依次分布在支撑柱（1）的外表面，所述坩埚（2）的外表面开设有活动槽（3），所述活动槽（3）的内侧面转动连接有圆盘（4），所述圆盘（4）的侧面固定连接有连接杆（5），所述连接杆（5）的外部固定连接有盖板（6），所述坩埚（2）与盖板（6）之间设置有连接组件（7），所述坩埚（2）的内部设置有驱动元件（8），所述坩埚（2）的外表面设置有圆角（9）。2.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀设备的蒸镀架，其特征在于，所述坩埚（2）的数量为八个，且相邻所述坩埚（2）之间的旋转角度为45
°
，相邻所述坩埚（2）之间的竖直方向距离相等。3.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀设备的蒸镀架，其特征在于，所述活动槽（3）、圆盘（4）以及连接杆（5）的数量均为两个，且对称分布在盖板（6）的两侧，所述驱动元件（8）与一个圆盘（4）传动连接。4.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀设备的蒸镀架，其特征在于，所述连接组件（7）包括插槽（71），所述插槽（71）开设在坩埚（2）的顶面，所述坩埚（2）的内侧面插接有插接板（72），所述插接板（72）的外表面开设有固定槽（73），所述坩埚（2）的内侧面固定连接有电磁块（74），所述电磁块（74）的外部固定连接有挤压弹簧（75），所述挤压弹簧（75）的外部固定连接有固定块（76）。5.根据权利要求4所述的一种真空蒸镀设备的蒸镀架，其特征在于，所述插槽（71）的宽度值与插接板（72）相对应，其长度值大于插接板（72）的长度值。6.根据权利要求5所述的一种真空蒸镀设备的蒸镀架，其特征在于，所述固定块（76）与坩埚（2）的内侧面滑动连接，所述固定槽（73）的尺寸、形状均与固定块（76）相匹配。7.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀设备的蒸镀架，其特征在于，所述连接组件（7）的数量为四个，且呈矩形状对称分布在坩埚（2）的外表面。8.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀设备的蒸镀架，其特征在于，所述盖板（6）的内部嵌设有用于对坩埚（2）内部蒸气气压进行检测的气压传感器。

技术总结

本实用新型公开了一种真空蒸镀设备的蒸镀架，属于蒸镀技术领域，包括支撑柱、多个坩埚，所有所述坩埚呈上升螺旋的路径依次分布在支撑柱的外表面，所述坩埚的外表面开设有活动槽，所述活动槽的内侧面转动连接有圆盘，所述圆盘的侧面固定连接有连接杆。通过将所有坩埚以上升的螺旋的路径依次等距分布在支撑柱的外表面，使得所有坩埚的上方均无遮挡，从而蒸镀材料蒸发后产生的蒸气可以直接向上流动汇聚，快速地流动至蒸镀腔体内部进行蒸镀材料，避免了蒸镀材料蒸气产生上流过程中被上方坩埚所遮挡导致蒸气流动速度的速度大大降低的情况发生，使得蒸气产生后可以快速流动至指定位置对工件进行蒸镀操作，使得蒸镀工作效率得以有效提高。以有效提高。以有效提高。