一种湿法蚀刻装置的制作方法

1.本实用新型涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种湿法蚀刻装置。

背景技术：

2.现有技术中，在液晶面板制造过程中，需要进行蚀刻来在玻璃基板上形成不同图案的膜层，特别是使用湿蚀刻，通过在蚀刻腔内对玻璃板上的某一层进行图案形成。
3.现有的湿法蚀刻方式以水平蚀刻为主，如专利号为cn210444589u的实用新型，基板通过输送带水平移动，通过上面喷洒药水实现线路蚀刻，由于上面喷洒的药水因流动性差会在线路板表面形成水池效应，导致基板过量蚀刻或蚀刻均匀性不足，产生线路短路的异常问题，因此需要一种防止药水积聚在基板的湿法蚀刻装置。

技术实现要素：

4.有鉴于此，本实用新型提出了一种防止药水积聚在基板表面的湿法蚀刻装置。
5.本实用新型的技术方案是这样实现的：本实用新型提供了一种湿法蚀刻装置，包括壳体、蚀刻部件、位移部件、基板安装架，所述位移部件和基板安装架自上而下依次安装在壳体内部，且与壳体内壁连接；所述蚀刻部件与位移部件连接，所述基板安装架安装有基板，所述基板位于蚀刻部件下方，所述蚀刻部件在位移部件的驱动下横向往复移动，并喷出蚀刻液蚀刻基板；所述基板的一端向壳体底部倾斜。
6.在以上技术方案的基础上，优选的，所述位移部件包括滑轨、滑块和驱动装置，所述滑轨的两端分别与壳体相对立的两个内侧面连接，所述滑块与滑轨滑动连接，所述蚀刻部件与滑块连接，所述驱动装置与壳体连接，且驱动装置的驱动端与滑块连接，所述驱动装置驱动滑块沿滑轨横向往复移动，从而带动蚀刻部件移动，蚀刻基板。
7.在以上技术方案的基础上，优选的，所述滑轨的一端向壳体底部倾斜，所述滑轨的倾斜角度同基板的倾斜角度。
8.在以上技术方案的基础上，优选的，所述滑轨和基板的倾斜角度为1-10
°
。
9.在以上技术方案的基础上，优选的，所述蚀刻部件包括喷头、蚀刻液盛放箱、泵体、输液管道和连接软管，所述蚀刻液盛放箱设于壳体内部，且位于基板安装架下方，所述输液管道的一端与蚀刻液盛放箱连接，另一端与壳体顶部连接，所述输液管道上设置泵体，所述连接软管的一端与输液管道靠近壳体的一端连通，另一端纵向贯穿滑块，并与喷头连接，所述泵体与连接软管连通，所述喷头朝基板方向喷射蚀刻液。
10.在以上技术方案的基础上，优选的，所述基板安装架包括两个安装杆，两个安装杆的两端分别与壳体相对立的两个内侧面连接，且两个安装杆相互平行，且均与滑轨平行，所述基板放置在两个安装杆顶面。
11.在以上技术方案的基础上，优选的，所述安装杆顶面安装有第一缓冲垫。
12.在以上技术方案的基础上，优选的，两个安装杆均安装有限制基板滑动的限位部件，所述限位部件位于基板靠近壳体底部的一端。
13.在以上技术方案的基础上，优选的，所述限位部件包括滑动件和紧固螺钉，所述安装杆贯穿所述滑动件，所述紧固螺钉穿过滑动件，并抵持安装杆，将滑动件与安装杆固定连接；所述基板靠近壳体底部的一端抵持滑动件。
14.在以上技术方案的基础上，优选的，所述滑动件靠近基板的一侧安装有第二缓冲垫。
15.本实用新型的一种湿法蚀刻装置相对于现有技术具有以下有益效果：
16.(1)本实用新型基板的一端向壳体底部倾斜，使得基板呈一定角度的倾斜，有利于多余的蚀刻液及时从基板表面流出，防止蚀刻液集聚在基板表面过量蚀刻，造成蚀刻不均匀，影响基板品质。
17.(2)本实用新型采用位移装置，蚀刻部件在基板上方往复移动，增加蚀刻均匀性。
18.(3)通过在基板安装架的安装杆上设置限位部件，避免因基板倾斜角度过大滑动到安装杆最低端，影响蚀刻。
19.(4)通过在安装杆上设置滑动件和紧固螺钉，可以适应不同尺寸的基板。
20.(5)通过在安装杆和滑动件上设置第一缓冲垫和第二缓冲垫，可以对基板进行缓冲，避免基板损坏。
附图说明
21.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
22.图1为本实用新型湿法蚀刻装置的内部结构图；
23.图2为本实用新型湿法蚀刻装置的顶视图；
24.图3为图1中a部分的放大图；
25.图4为图1中b部分的放大图；
26.图5为图1中c部分的放大图；
27.图6为图2中d部分的放大图；
28.图7为滑块的纵向剖视图；
29.图8为限位部件的纵向剖视图。
30.图中，1-壳体、2-蚀刻部件、3-位移部件、4-基板安装架、5-基板、31-滑轨、32-滑块、321-第一通孔、33-驱动装置、21-喷头、22-蚀刻液盛放箱、23-泵体、24-输液管道、25-连接软管、41-安装杆、6-第一缓冲垫、7-限位部件、71-滑动件、711-第二通孔、72-紧固螺钉、8-第二缓冲垫、11-滑槽、9-连接杆、10-拉杆、211-连通部、212-扇形部。
具体实施方式
31.下面将结合本实用新型实施方式，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。
32.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上端”、“下端”、“尾端”、“左右”、“顶部”、“底部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上
33.如图1所示，结合图2-8，本实用新型的湿法蚀刻装置，包括壳体1、蚀刻部件2、位移部件3、基板安装架4，位移部件3和基板安装架4自上而下依次安装在壳体1内部，且与壳体1内壁连接；蚀刻部件2与位移部件3连接，并在位移部件3的作用下可移动，基板安装架4安装有基板5，基板5位于蚀刻部件2下方，蚀刻部件2在位移部件3的驱动下横向往复移动，喷出蚀刻液蚀刻基板5；基板5的一端向壳体1底部倾斜。
34.壳体1用于盛放和保护蚀刻部件2、位移部件3和基板安装架4。
35.蚀刻部件2用于喷出蚀刻液，对基板5进行蚀刻。
36.位移部件3用于控制蚀刻部件2的移动位置，使得蚀刻部件2始终位于基板5的正上方，并控制蚀刻部件2横向往复移动，对基板5进行均匀的蚀刻。
37.基板5倾斜设置的目的是使蚀刻液在进行蚀刻作业后，迅速从基板表面流出，避免蚀刻液积聚，过量蚀刻。
38.具体的实施例中，如图4和6所示，位移部件3包括滑轨31、滑块32和驱动装置33，滑轨31的两端分别与壳体1相对立的两个内侧面连接，滑轨31位于基板安装架4的正上方，滑块32开设第一通孔321，滑轨31贯穿滑块32，滑块32与滑轨31滑动连接，蚀刻部件2与滑块32连接，驱动装置33与壳体1连接，且驱动装置33的驱动端与滑块32连接，驱动装置33驱动滑块32沿滑轨31横向往复移动，从而带动蚀刻部件2往复移动，均匀地蚀刻基板5。
39.具体的实施例中，驱动装置33可选电机驱动或气缸驱动，本实施例为气缸启动，驱动装置33为伸缩气缸。
40.具体的实施例中，滑轨31的一端向壳体1底部倾斜，滑轨31的倾斜角度同基板5的倾斜角度。这样设置的目的是使得蚀刻部件2在往复移动时与基板表面始终保持相同的距离，保证蚀刻的均匀性。
41.具体的实施例中，滑轨31和基板5的倾斜角度为1-10
°
，使得蚀刻液可以从基板5较低的一端流出，避免蚀刻液集聚在基板表面。
42.具体的实施例中，如图1和2所示，蚀刻部件2包括喷头21、蚀刻液盛放箱22、泵体23、输液管道24和连接软管25，蚀刻液盛放箱22用于盛放蚀刻液，设置于壳体1内部，且位于基板安装架4下方，便于基板5表面流出的蚀刻液流入；输液管道24的一端与蚀刻液盛放箱22连接并连通，另一端与壳体1内顶部连接，输液管道24上设置泵体23，连接软管25的一端与输液管道24靠近壳体1顶部的一端连通，另一端纵向贯穿滑块32，并与喷头21连接，喷头21位于滑块32下方，并朝基板5方向喷射蚀刻液。
43.具体的实施例中，由于喷头21需沿着滑轨31移动，所以连接软管25的长度要满足喷头21可以到达安装架4两端，以适应不同尺寸的基板5。
44.具体的，连接软管25和输液管道24均选用耐酸碱的管路，以免被蚀刻液腐蚀。
45.喷头21与连接软管25连接，喷头21与滑块32滑动连接，且位于滑块32靠近基板的一侧，并朝基板5方向喷射蚀刻液。
46.具体的实施例中，喷头21喷射方向与基板5所在平面垂直，保证喷施的均匀性。
47.具体的实施例中，如图7所示，喷头21包括连通部211和扇形部212，连通部211的一端与连接软管24连通，一端与扇形部212连通，且连通部211与滑块32连接，连通部211呈管状，且连通部211的长度方向与基板5所在平面垂直，扇形部212呈60
°
，可以降低基板所受的冲击力，使喷头喷雾更加均匀。
48.具体的实施例中，基板安装架4包括两个安装杆41，两个安装杆41的两端分别与壳体1相对立的两个内侧面连接，且两个安装杆41相互平行，且均与滑轨31平行，基板5放置在两个安装杆41顶面。
49.安装杆41和滑轨31平行设置，保证了喷头21沿滑轨31往复移动时，与基板5之间的距离始终一致，保证蚀刻的均匀性。
50.具体的实施例中，如图3所示，安装杆41顶面安装有第一缓冲垫6，在安装杆41与基板5的接触面设置第一缓冲垫6起到了缓冲作用，目的是保护基板，避免安装杆41损伤基板5的底部。
51.具体的实施例中，两个安装杆41均安装有限制基板5滑动的限位部件7，限位部件7位于基板5靠近壳体1底部的一端。由于安装杆41倾斜设置，所以设置了限位部件7，防止基板5滑动。
52.具体的实施例中，如图3和图8所示，限位部件7包括滑动件71和紧固螺钉72，安装杆41贯穿滑动件71，紧固螺钉72穿过滑动件71，并抵持安装杆41，将滑动件71与安装杆41固定连接；基板5靠近壳体1底部的一端抵持滑动件71。具体的，滑动件71可以沿着安装杆41滑动，通过紧固螺钉72可以调节滑动件71在安装杆41上的位置，以适应不同尺寸的基板5。
53.具体的实施例中，安装杆41横截面为矩形，滑动件71为矩形块，并开设矩形的第二通孔711，用于安装杆41穿过。
54.具体的实施例中，滑动件71靠近基板5的一侧安装有第二缓冲垫8，起到缓冲作用，目的是保护基板，避免滑动件71损伤基板5侧面。
55.具体的实施例中，限位部件7可以只设置在基板5靠近壳体1底部的一端，也可以设置在基板5沿安装杆41长度方向的两端，增加稳定性。
56.具体的实施例中，为了便于基板5的取放，基板安装架4与壳体1内壁滑动安装，具体的，如图5所示，在壳体相对立的两个内壁均设置滑槽11，两个安装杆41的两端均伸入两个滑槽11内部，并可沿滑槽11滑动，两个安装杆41之间设有连接杆9，将两个安装杆41连接起来，连接杆9有两个，分别靠近两个安装杆41的两端。
57.具体的实施例中，为了便于拉出基板安装架4，还设有拉杆10，拉杆10与其中一个安装杆41连接，拉动拉杆10，即可将基板安装架4从壳体1内部拉出，便于取放基板5。
58.本实用新型的原理是：蚀刻前，先将蚀刻液装入蚀刻液盛放箱22中，并将基板5放置于安装杆41表面，然后采用紧固螺钉72将滑动件71和安装杆41固定，并将基板5抵持滑动件71，避免基板5滑动。蚀刻时，开启驱动装置33，使喷头21沿滑轨31往复移动，进行蚀刻作业。蚀刻结束后，拉动拉杆10，将基板安装架4沿滑槽11拉出，然后取下基板5，完成蚀刻作业。
59.以上所述仅为本实用新型的较佳实施方式而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种湿法蚀刻装置，包括壳体(1)、蚀刻部件(2)、位移部件(3)、基板安装架(4)，所述位移部件(3)和基板安装架(4)自上而下依次安装在壳体(1)内部，且与壳体(1)内壁连接；所述蚀刻部件(2)与位移部件(3)连接，所述基板安装架(4)安装有基板(5)，所述基板(5)位于蚀刻部件(2)下方，所述蚀刻部件(2)在位移部件(3)的驱动下横向往复移动，并喷出蚀刻液蚀刻基板(5)；其特征在于：所述基板(5)的一端向壳体(1)底部倾斜。2.如权利要求1所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：所述位移部件(3)包括滑轨(31)、滑块(32)和驱动装置(33)，所述滑轨(31)的两端分别与壳体(1)相对立的两个内侧面连接，所述滑块(32)与滑轨(31)滑动连接，所述蚀刻部件(2)与滑块(32)连接，所述驱动装置(33)与壳体(1)连接，且驱动装置(33)的驱动端与滑块(32)连接，所述驱动装置(33)驱动滑块(32)沿滑轨(31)横向往复移动，从而带动蚀刻部件(2)移动，蚀刻基板(5)。3.如权利要求2所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：所述滑轨(31)的一端向壳体(1)底部倾斜，所述滑轨(31)的倾斜角度同基板(5)的倾斜角度。4.如权利要求3所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：所述滑轨(31)和基板(5)的倾斜角度为1-10
°
。5.如权利要求2所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：所述蚀刻部件(2)包括喷头(21)、蚀刻液盛放箱(22)、泵体(23)、输液管道(24)和连接软管(25)，所述蚀刻液盛放箱(22)设于壳体(1)内部，且位于基板安装架(4)下方，所述输液管道(24)的一端与蚀刻液盛放箱(22)连接，另一端与壳体(1)顶部连接，所述输液管道(24)上设置泵体(23)，所述连接软管(25)的一端与输液管道(24)靠近壳体(1)的一端连通，另一端纵向贯穿滑块(32)，并与喷头(21)连接，所述喷头(21)朝基板(5)方向喷射蚀刻液。6.如权利要求3所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：所述基板安装架(4)包括两个安装杆(41)，两个安装杆(41)的两端分别与壳体(1)相对立的两个内侧面连接，且两个安装杆(41)相互平行，且均与滑轨(31)平行，所述基板(5)放置在两个安装杆(41)顶面。7.如权利要求6所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：所述安装杆(41)顶面安装有第一缓冲垫(6)。8.如权利要求6所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：两个安装杆(41)均安装有限制基板(5)滑动的限位部件(7)，所述限位部件(7)位于基板(5)靠近壳体(1)底部的一端。9.如权利要求8所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：所述限位部件(7)包括滑动件(71)和紧固螺钉(72)，所述安装杆(41)贯穿所述滑动件(71)，所述紧固螺钉(72)穿过滑动件(71)，并抵持安装杆(41)，将滑动件(71)与安装杆(41)固定连接；所述基板(5)靠近壳体(1)底部的一端抵持滑动件(71)。10.如权利要求9所述的一种湿法蚀刻装置，其特征在于：所述滑动件(71)靠近基板(5)的一侧安装有第二缓冲垫(8)。

技术总结

本实用新型属于蚀刻技术领域，提出了一种湿法蚀刻装置，包括壳体、蚀刻部件、位移部件、基板安装架，所述位移部件、基板安装架自上而下依次安装在壳体内部，且与壳体内壁连接；所述蚀刻部件与位移部件连接，所述基板安装架安装有基板，所述基板位于蚀刻部件下方，所述蚀刻部件在位移部件的驱动下横向往复移动，蚀刻基板；所述基板的一端向壳体底部倾斜。本实用新型基板的一端向壳体底部倾斜，有利于多余的蚀刻液及时从基板表面流出，防止蚀刻液集聚在基板表面过量蚀刻，造成蚀刻不均匀，影响基板品质。品质。品质。