一种镀膜用防着板的制作方法

1.本实用新型属于膜制备技术领域，涉及一种镀膜用防着板。

背景技术：

2.在沉积镀膜工艺中，通常需要使用等离子体溅射等设备，例如磁控溅射机。采用磁控溅射机进行镀膜时，磁控溅射机中的溅射源在电场的作用下产生加速电子，这些加速电子与磁控溅射机真空腔中预先充入的惰性气体碰撞得到带正电的粒子，带正电的粒子受到阴极(靶材)的吸引而撞击靶材表面的原子，这些原子因受到带正电的粒子的撞击而获得动量转移，进而产生垂直靶材表面的作用力，将靶材表面的原子碰撞出去而沉积在被镀物上完成镀膜。
3.为了避免污染成膜腔室内部的除玻璃衬底之外的非镀膜区域，在设备的成膜腔室内，通常采用防止轰击出来的离子附着在非镀膜区域的防着板将腔室内部的工作区域封闭起来，这样，工艺过程中，溅射到非镀膜区域的原子就将粘附在防着板与工作区域接触的表面上，不会污染腔室的非镀膜区域。而且，防着板与所沉积薄膜颗粒之间要具有较强的粘附力，防止防着板上沉积的颗粒脱落，而飞散到工作区域和玻璃衬底上，影响所沉积薄膜的质量。一定的沉积时间后，需要将防着板拆卸下来清洁处理，并更换干净的防着板。
4203007392u提供了一种防着板，通过设置用于遮挡靶材上表面边缘的突出部，使防着板能够防止ito粉尘回落到靶材上，同时，防着板能减少靶材的非侵蚀区域，延长了防着板的更换周期，从而减少镀膜工艺中形成颗粒和缺陷，防止镀膜的良品率下降；cn111524779a提供了一种防着板装置，该防着板装置配置在离子注入机的离子源腔室内部底部，该防着板装置包括防着板本体，所述防着板本体具有朝向所述离子源腔室的顶部的开口，所述开口处设置有防扩散结构；所述防扩散结构用于使得所述离子源腔室内产生的颗粒落入所述防着板本体中，且使颗粒不易从所述防着板本体中扩散出。
5.半导体镀膜过程中，随着防着板表面附着物的增加，会导致附着物无法继续附着在防着板表面，造成剥落的风险，导致污染并使出品率下降；以上防着板附加了特殊的结构可以一定程度上防止附着物的剥落，但防着板本身的表面吸附面积狭隘，限制了空间的局限性，导致了产品利用率低；因此，开发一种具有大吸附能力和大吸附容量的防着板，使得镀膜过程更加具有保证并有效提高成膜率，对于实际生产具有十分重要的意义。

技术实现要素：

6.针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种镀膜用防着板，所述镀膜用防着板的表面覆盖有四棱台凸起形成的阵列，所述四棱台凸起的小面积底面朝外设置；所述四棱台凸起的侧面与大面积底面的夹角均为45～60
°
。本实用新型通过将防着板的表面设置为四棱台凸起阵列结构，并通过调整并限定所述四棱台凸起中的侧面与大面积底面的夹角，使得防着板在增加有效附着面积及附着容量的同时，更加容易吸附靶材原子或大尺寸的颗粒，并加强附着物的固定，大大降低附着物剥落在基片上的风险，降低防着板报
废率，同时提高设备内的清洁度，进而有效提高溅镀的成膜率。
7.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
8.本实用新型提供了一种镀膜用防着板，所述镀膜用防着板的表面覆盖有四棱台凸起形成的阵列，所述四棱台凸起的小面积底面朝外设置；所述四棱台凸起的侧面与大面积底面的夹角均为45～60
°
。
9.本实用新型通过将防着板的表面设置为四棱台凸起阵列结构，并通过调整并限定所述四棱台凸起中的侧面与大面积底面的夹角，使得防着板在增加有效附着面积及附着容量的同时，更加容易吸附靶材原子或大尺寸的颗粒，并加强附着物的固定，大大降低附着物剥落在基片上的风险，降低防着板报废率，同时提高设备内的清洁度，进而有效提高溅镀的成膜率。
10.本实用新型所述四棱台凸起中侧面与大面积底面的夹角不能过小，在小面积底面与大面积底面的尺寸一致时，夹角越小，所述四棱台凸起的高度越低，所述四棱台凸起对所述镀膜用附着板的表面积增加的程度越不明显，且容易造成附着物脱离和滑落；夹角过大时，所述四棱台的顶部过于尖锐，会对触摸、安装造成不便，且此时所述四棱台凸起的高度过高，临近的两个四棱台凸起之间的形成的凹槽过深，超过了附着物的附着深度，造成浪费提升了成本，且也会对后续清洗造成一定不良的影响，因此需要限制四棱台凸起中侧面与大面积底面的夹角在一定范围内。
11.需要说明的是，本实用新型所述四棱台凸起的侧面与所述大面积底面的夹角均为45～60
°
，例如45
°
、48
°
、51
°
、54
°
、57
°
或60
°
等，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。
12.以下作为本实用新型优选的技术方案，但是不作为本实用新型提供的技术方案的限制，通过以下技术方案，可以更好地达到和实现本实用新型的技术目的和有益效果。
13.作为本实用新型优选的技术方案，所述四棱台凸起的大面积底面中的短边的长度为2～6mm，例如2mm、2.5mm、3mm、3.5mm、4mm、4.5mm、5mm、5.5mm或6mm等，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。
14.作为本实用新型优选的技术方案，所述四棱台凸起的大面积底面中的短边与长边的长度比为1:(1～3)，例如1:1、1:1.5、1:2、1:2.5或1:3等，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。
15.作为本实用新型优选的技术方案，所述四棱台凸起的小面积底面中的短边及长边的长度分别为所述大面积底面中的短边及长边的长度的一半。
16.作为本实用新型优选的技术方案，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距为0～3mm，例如0mm、0.5mm、1mm、1.5mm、2mm、2.5mm或3mm等，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。
17.需要说明的是，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距为0mm时，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的边缘互相接触，四棱台凸起形成的阵列结构中所述四棱台凸起紧密堆积，没有缝隙；本实用新型优选两个临近的所述四棱台之间保留一定的间距，从而使形成的阵列结构的凹凸更加错落有层次，利用深浅不一的空间有利于附着物的固定。
18.作为本实用新型优选的技术方案，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距等于所述小面积底面中的短边的长度。
19.作为本实用新型优选的技术方案，所述四棱台凸起为正四棱台凸起。
20.本实用新型优选将所述四棱台凸起设置为正四棱台凸起，可以使形成的阵列结构更加匀称、协调，单位面积内个数更多，吸附效果更好。
21.作为本实用新型优选的技术方案，所述正四棱台凸起的小面积底面的边长为2mm，大面积底面的边长为4mm。
22.作为本实用新型优选的技术方案，所述镀膜用防着板中每100cm2的表面至少含有200个所述正四棱台凸起。
23.作为本实用新型优选的技术方案，所述镀膜用防着板的表面包括朝向镀膜源的主平面以及与所述主平面相连的侧面。
24.与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：
25.本实用新型通过在光滑的防着板表面设置四棱台凸起形成的阵列可以大大提升防着板防着面附着的表面积，使得防着板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的颗粒，大大降低附着物剥落在基片上风险，降低防着板报废率，从而增加了防着板的沉淀能力，提高溅射机内壁清洁度，进而提高了溅镀的成膜率，也有效延长了防着板的使用寿命。
附图说明
26.图1为本实用新型实施例1所得镀膜用防着板部分表面的俯视示意图；
27.图2为图1中沿a-a方向的剖面示意图；
28.图3为本实用新型实施例2所得镀膜用防着板拼接后的俯视示意图；
29.图4为图3中箭头所指方框部分的俯视示意图；
30.其中，1-镀膜用防着板，2-四棱台凸起，3-镀膜产品放置区域。
具体实施方式
31.为使本实用新型的技术方案、目的和优点更加清楚，下面通过具体的实施例子并结合附图对本实用新型做进一步的详细描述。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。
32.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
33.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于电和通信领域而言，可以是有线连接，也可以是无线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
34.下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
35.实施例1
36.本实施例提供了一种镀膜用防着板，其结构示意图如图1及图2所示，所述镀膜用防着板1的表面覆盖有四棱台凸起2形成的阵列，所述四棱台凸起2的小面积底面朝外设置；
37.所述四棱台凸起2为正四棱台凸起，即四棱台凸起2的大面积底面为正方形，且大面积底面的边长l1为4mm，小面积底面为正方形，且小面积底面的边长l2为2mm；沿所述镀膜用防着板1的长度方向，相邻两个所述四棱台凸起2的大面积底面的间距s1为2mm，沿所述镀膜用防着板1的宽度方向，相邻两个所述四棱台凸起2的大面积底面的间距s2为2mm；所述四棱台凸起2的四个侧面与所述大面积底面的夹角θ均为56.31
°
，所述四棱台凸起2的高度h为1.5mm。
38.实施例2
39.本实施例提供了一种镀膜用防着板，其结构示意图如图3及图4所示，所述镀膜用防着板1的表面覆盖有四棱台凸起形成的阵列，所述四棱台凸起的小面积底面朝外设置；所述表面包括朝向镀膜源的主平面以及与所述主平面相连的侧面，所述镀膜用防着板1整体为l形，取两块所述镀膜用防着板1相对拼接设置，预留出镀膜产品放置区域3；
40.所述四棱台凸起为正四棱台凸起，即四棱台凸起的大面积底面为正方形，且大面积底面的边长为2mm，小面积底面为正方形，且小面积底面的边长为1mm；沿所述镀膜用防着板1的长度方向，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距为1mm，沿所述镀膜用防着板1的宽度方向，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距为1mm；所述四棱台凸起的四个侧面与所述大面积底面的夹角均为60
°
，所述四棱台凸起的高度为0.7mm。
41.实施例3
42.本实施例提供了一种镀膜用防着板，所述镀膜用防着板的表面覆盖有四棱台凸起形成的阵列，所述四棱台凸起的小面积底面朝外设置；
43.所述四棱台凸起的大面积底面为长方形，且大面积底面的短边边长为6mm，长边边长12mm；小面积底面为长方形，且小面积底面的短边边长为4mm，长边边长为8mm；沿所述镀膜用防着板的长度方向，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距为2mm，沿所述镀膜用防着板的宽度方向，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距为3mm；所述四棱台凸起的四个侧面与所述大面积底面的夹角均为45
°
，所述四棱台凸起的高度为2mm。
44.实施例4
45.本实施例提供了一种镀膜用防着板，所述镀膜用防着板的表面覆盖有四棱台凸起形成的阵列，所述四棱台凸起的小面积底面朝外设置；
46.所述四棱台凸起为正四棱台凸起，即四棱台凸起的大面积底面为正方形，且大面积底面的边长为6mm，小面积底面为正方形，且小面积底面的边长为2mm；沿所述镀膜用防着板的长度及宽度方向，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的边缘重合，没有间距；所述四棱台凸起的四个侧面与所述大面积底面的夹角均为50
°
，所述四棱台凸起的高度为2.4mm。
47.在pvd制造过程中，于pvd设备中铺设并使用上述实施例中提供的镀膜用防着板，均能有效提升防着板的表面积，使得防着板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的颗粒，大大降低附着物剥落在基片上的风险，降低防着板报废率，同时提高设备内的清洁度，进而有效提高溅镀的成膜率。
48.本实用新型通过上述实施例来说明本实用新型的详细结构特征，但本实用新型并
不局限于上述详细结构特征，即不意味着本实用新型必须依赖上述详细结构特征才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本实用新型的任何改进，对本实用新型所选用部件的等效替换以及辅助部件的增加、具体方式的选择等，均落在本实用新型的保护范围和公开范围之内。
49.以上详细描述了本实用新型的优选实施方式，但是，本实用新型并不限于上述实施方式中的具体细节，在本实用新型的技术构思范围内，可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本实用新型的保护范围。
50.另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。
51.此外，本实用新型的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本实用新型的思想，其同样应当视为本实用新型所公开的内容。

技术特征：

1.一种镀膜用防着板，其特征在于，所述镀膜用防着板的表面覆盖有四棱台凸起形成的阵列，所述四棱台凸起的小面积底面朝外设置；所述四棱台凸起的侧面与大面积底面的夹角均为45～60
°
。2.根据权利要求1所述的镀膜用防着板，其特征在于，所述四棱台凸起的大面积底面中的短边的长度为2～6mm。3.根据权利要求1所述的镀膜用防着板，其特征在于，所述四棱台凸起的大面积底面中的短边与长边的长度比为1:(1～3)。4.根据权利要求1所述的镀膜用防着板，其特征在于，所述四棱台凸起的小面积底面中的短边及长边的长度分别为所述大面积底面中的短边及长边的长度的一半。5.根据权利要求1所述的镀膜用防着板，其特征在于，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距为0～3mm。6.根据权利要求5所述的镀膜用防着板，其特征在于，相邻两个所述四棱台凸起的大面积底面的间距等于所述小面积底面中的短边的长度。7.根据权利要求1所述的镀膜用防着板，其特征在于，所述四棱台凸起为正四棱台凸起。8.根据权利要求7所述的镀膜用防着板，其特征在于，所述正四棱台凸起的小面积底面的边长为2mm，大面积底面的边长为4mm。9.根据权利要求8所述的镀膜用防着板，其特征在于，所述镀膜用防着板中每100cm2的表面至少含有200个所述正四棱台凸起。10.根据权利要求1所述的镀膜用防着板，其特征在于，所述镀膜用防着板的表面包括朝向镀膜源的主平面以及与所述主平面相连的侧面。

技术总结

本实用新型提供了一种镀膜用防着板，所述镀膜用防着板的表面覆盖有四棱台凸起形成的阵列，所述四棱台凸起的小面积底面朝外设置；所述四棱台凸起的侧面与大面积底面的夹角均为45～60

技术研发人员：

姚力军 潘杰 王学泽 陈玉蓉 周浩

受保护的技术使用者：

宁波江丰电子材料股份有限公司

技术研发日：

2022.10.31

技术公布日：

2023/2/28