一种超大尺寸吸附平台的制作方法

1.本发明涉及一种激光直写技术领域，尤其是一种应用于激光直写设备的超大尺寸的吸附平台。

背景技术：

2.激光直写式曝光是用于在工件表面上印刷具有特征的构图，相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术，直写式曝光技术产能高，对位精度高。在半导体及pcb生产领域有着非常重要的作用。
3.随着pcb行业发展的飞速发展与5g标准的形成，对大尺寸激光直写式曝光机的需求越来越高，同时对于曝光机的精度要求也越来越高，大尺寸吸附平台存在平面度无法长期保证的问题，严重影响曝光机的精度。

技术实现要素：

4.本发明所要解决的技术问题是提供一种长久保证平面度的超大尺寸吸附平台。
5.为了解决上述问题，本发明提供一种超大尺寸吸附平台，包括吸盘主体、吸盘垫板、调节支撑机构和真空转接机构，所述吸盘主体内部为真空腔，所述真空转接机构与所述真空腔连通，所述吸盘垫板固定于所述吸盘主体下方，位于中心区域，所述调节支撑机构包括多个调节支撑件分散安装于所述吸盘主体下方。
6.进一步的，所述调节支撑件包括支撑件，安装于所述吸盘主体。
7.进一步的，所述支撑件对应设置支撑脚杯和调节件，所述支撑件一端连接于所述吸盘垫板，另一端通过调节件和支撑脚杯支撑所述吸盘主体。
8.进一步的，所述支撑件包括安装部、连接部和支撑部，所述安装部将所述支撑件固定于所述吸盘垫板，所述支撑部通过调节件和支撑脚杯支撑所述吸盘主体。
9.进一步的，所述连接部呈弯折状连接所述安装部和所述支撑部，所述连接部和所述吸盘主体之间形成凹槽。
10.进一步的，所述调节件安装于所述支撑件，能够相对支撑件移动。
11.进一步的，所述支撑脚杯抵靠吸盘主体的一面具有保护垫。
12.进一步的，所述调节支撑件分开设置于所述吸盘主体的边角和/或长边的中间位置。
13.进一步的，所述调节支撑件的数量为六个，其中四个调节支撑件两两相对布置于吸盘主体的对角线位置处，另有两个调节支撑件相对布置于所述吸盘主体的中线。
14.进一步的，所述真空转接机构包括多个真空转接盒，分开设置于所述吸盘主体的下表面。
15.与现有技术相比，所述超大尺寸吸附平台中心区域通过所述支撑垫板进行支撑，周边区域通过所述调节支撑件进行支撑，并根据需要通过调节支撑件的调节件调整吸附平台周边区域的平面度，保证吸附平台的平面度符合精度要求。
附图说明
16.图1是吸附平台立体示意图。
17.图2是吸附平台侧视示意图。
18.图3是吸附平台侧视示意图。
19.图4是调节支撑机构中单个支撑件的示意图。
具体实施方式
20.为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过附图中示出的具体实施例来描述本发明。
21.如图1-4所示的一种吸附平台，所述吸附平台包括吸盘主体111、吸盘垫板112、调节支撑机构113和真空转接机构。
22.所述吸盘主体111内部为真空腔115，所述吸盘主体111的上表面为吸附孔（未示出），与所述真空腔115连通。所述真空转接机构包括真空转接盒116和抽真空装置（未示出），所述真空转接盒116设置多个，分开设置于所述吸盘主体111的下表面117，所述真空转接盒116与所述真空腔115连通。如图3所示，所述真空转接盒的数量可以设置6个，其中四个真空转接盒位于所述吸盘主体111的四角，相距较远的两个真空转接盒之间各设置一个真空转接盒。由于吸附平台111的尺寸较大，通过多个真空转接盒116的设置，可以减少达到所需负压的时间，并且负压吸附的效果也更好。所述真空转接盒116通过气路连接至抽真空装置，所述抽真空装置可以采用鼓风机或者真空发生器。根据需要，所述真空转接盒116分别与所述抽真空装置连接，或者真空转接盒116并联的方式，减少连接至所述抽真空装置的气路，节省空间。
23.所述吸盘垫板112安装于吸盘主体111下方，较佳的，所述吸盘垫板112的中心和吸盘主体111的中心重合。
24.所述调节支撑机构113用于支撑所述吸盘主体111和所述吸盘垫板112，所述调节支撑机构113包括多个调节支撑件，所述调节支撑件分散安装于所述吸盘主体111，所述调节支撑件包括支撑件120、支撑脚杯121和调节件122，每个支撑件120对应设置支撑脚杯121和调节件122。所述支撑件120包括安装部130、支撑部131和连接部132，所述安装部130将所述支撑件固定于所述吸盘垫板112，所述支撑部131通过调节件122和支撑脚杯121支撑所述吸盘主体111，所述调节件122安装于所述支撑件120的支撑部131，将所述支撑脚杯121抵靠于所述吸盘主体111的下表面，所述连接部132呈弯折状连接所述安装部130和所述支撑部131，所述连接部131和所述吸盘主体111之间形成凹槽133，所述凹槽133方便在吸盘主体111下方布线，同时能够保持支撑件所负载的力。
25.所述调节支撑件分开设置于所述吸盘主体的底部，多点支撑所述吸盘主体，并通过调节所述调节件122的端面相对于所述支撑件120的距离，调整所述吸盘主体111的平面度；或者说通过调节所述支撑脚杯121相对于所述支撑件120的距离，多方位调整所述吸盘主体111的平面度。较佳的，多个所述调节支撑件分开设置于所述吸盘主体111的边角和/或者较长边得中间位置，中心区域通过所述支撑垫板112进行支撑，周边区域通过所述支撑脚杯进行支撑，并通过调节件112调整周边区域的平面度。较佳的，所述调节支撑件对称设置，便于调整所述吸盘主体111的平面度。如图3所示，若所述调节支撑件为六个，其中四个调节
支撑件两两相对布置于吸盘主体111的对角线位置处，另有两个调节支撑件相对布置于所述吸盘主体111的中线，支撑所述吸盘主体111和所述吸盘垫板112，并通过调节不同位置的调节件121，调整所述吸盘主体111的平面度。
26.所述调节件122可以使用调节螺栓，所述支撑脚杯121抵靠吸盘主体的一面具有保护垫，避免刮伤吸盘主体。
27.使用过程中，根据对吸附平台平面度的监测，能够及时通过调节件对吸附平台进行调整，保证吸附平台的平面度。
28.需要说明的是，实施例中当一个部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以直接在另一个部件上或者间接在该另一个部件上，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接。当一个部件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
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内”、“外”等指示的方位或位置关系的描述为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

技术特征：

1.一种超大尺寸吸附平台，包括吸盘主体，其特征在于：所述吸附平台还包括吸盘垫板、调节支撑机构和真空转接机构，所述吸盘主体内部为真空腔，所述真空转接机构与所述真空腔连通，所述吸盘垫板固定于所述吸盘主体下方，位于中心区域，所述调节支撑机构包括多个调节支撑件分散安装于所述吸盘主体下方。2.根据权利要求1所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述调节支撑件包括支撑件，安装于所述吸盘主体。3.根据权利要求2所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述支撑件对应设置支撑脚杯和调节件，所述支撑件一端连接于所述吸盘垫板，另一端通过调节件和支撑脚杯支撑所述吸盘主体。4.根据权利要求2所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述支撑件包括安装部、连接部和支撑部，所述安装部将所述支撑件固定于所述吸盘垫板，所述支撑部通过调节件和支撑脚杯支撑所述吸盘主体。5.根据权利要求4所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述连接部呈弯折状连接所述安装部和所述支撑部，所述连接部和所述吸盘主体之间形成凹槽。6.根据权利要求3或4所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述调节件安装于所述支撑件，能够相对支撑件移动。7.根据权利要求3或4所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述支撑脚杯抵靠吸盘主体的一面具有保护垫。8.根据权利要求1所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述调节支撑件分开设置于所述吸盘主体的边角和/或长边的中间位置。9.根据权利要求1所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述调节支撑件的数量为六个，其中四个调节支撑件两两相对布置于吸盘主体的对角线位置处，另有两个调节支撑件相对布置于所述吸盘主体的中线。10.根据权利要求1所述的超大尺寸吸附平台，其特征在于：所述真空转接机构包括多个真空转接盒，分开设置于所述吸盘主体的下表面。

技术总结

一种超大尺寸吸附平台，包括吸盘主体、吸盘垫板、调节支撑机构和真空转接机构，所述吸盘主体内部为真空腔，所述真空转接机构与所述真空腔连通，所述吸盘垫板固定于所述吸盘主体下方，位于中心区域，所述调节支撑机构包括多个调节支撑件分散安装于所述吸盘主体下方。所述超大尺寸吸附平台中心区域通过所述支撑垫板进行支撑，周边区域通过所述调节支撑件进行支撑，保证吸附平台的平面度符合精度要求。保证吸附平台的平面度符合精度要求。保证吸附平台的平面度符合精度要求。