一种大功率激光切割雕刻模组光路系统的制作方法



1.本实用新型涉及一种激光切割雕刻模组技术领域,具体涉及一种大功率激光切割雕刻模组光路系统。


背景技术:



2.数控激光切割是将激光作为一种加工手段对金属或非金属板材进行切割加工,可在平面板材上加工直线和任意形状的曲线,被广泛应用于电气制造、汽车、仪表开关、纺织机械、运输机械、家电制造、电梯设备制造、食品工业、装饰装潢与广告以及激光加工站等。
3.现有技术中ld二极管发出光束利用准直镜减小光束发散角,将发散的光线聚合为一条平行光束,通过45度反射镜将平行光束以45度夹角转折并使光度增大,同时以此方法在同一平面上依次排布3条或n条以上的平行光束射入下个45度反射镜,从而得到一组水平方向上的平行光束;
4.但是以上述方案在狭小空间内的一侧进行排布时,ld二极管数量受到限制,但是在狭小空间内的另一侧进行排布时,狭小空间内两侧ld二极管产生的两组平行光束无法整合,无法充分利用空间,导致在狭小空间内激光切割雕刻模组光路系统的功率较低。


技术实现要素:



5.本实用新型所要解决的技术问题是提供了一种大功率激光切割雕刻模组光路系统;解决无法在狭小空间内两侧ld二极管产生的两组平行光束无法整合,无法充分利用空间,导致在狭小空间内激光切割雕刻模组光路系统的功率较低的问题。
6.本实用新型大功率激光切割雕刻模组光路系统是通过以下技术方案来实现的:包括第一平行光束模组、第二平行光束模组、反射镜、半波镜、偏振分光镜以及聚焦镜;第一平行光束模组与第二平行光束模组之间呈对立面设置,同时通过错位交叉排布;
7.半波镜呈45
°
设置于第一平行光束模组一侧;反射镜呈90
°
设置于第二平行光束模组一侧;半波镜与偏振分光镜呈45
°
相对设置,反射镜与偏振分光镜呈180
°
相对设置;偏振分光镜与聚焦镜呈90
°
相对设置。
8.作为优选的技术方案,第一平行光束模组包括一个以上的第一ld二极管和一个以上的第一准直镜以及一个以上的第一发射镜;
9.第一ld二极管与第一准直镜平行设置;第一准直镜与第一发射镜呈45
°
相对设置;第一发射镜呈45
°
与反射镜呈90
°
相对设置。
10.作为优选的技术方案,第二平行光束模组包括一个以上的第二ld二极管和一个以上的第一准直镜以及一个以上的第二发射镜;
11.第二ld二极管与第二准直镜平行设置;第二准直镜与第二发射镜呈45
°
相对设置;第二发射镜呈90
°
与半波镜呈90
°
相对设置。
12.作为优选的技术方案,第一发射镜和第二发射镜表面设置有多层介质反射膜。
13.本实用新型的有益效果是:通过将第一平行光束模组与第二平行光束模组之间呈
对立面设置,同时通过错位交叉排布,将半波镜呈45
°
设置于第一平行光束模组一侧,反射镜呈90
°
设置于第二平行光束模组一侧,半波镜与偏振分光镜呈45
°
相对设置,反射镜与偏振分光镜呈180
°
相对设置,偏振分光镜与聚焦镜呈90
°
相对设置;使第一平行光束模组与第二平行光束模组产生的光聚集形成一条具有切割和雕刻能力的高能量光束。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
15.图1为第一平行光束模组、反射镜、偏振反光镜以及聚焦镜的光路示意图;
16.图2为第二平行光束模组、半波片、偏振反光镜以及聚焦镜的光路示意图;
17.图3为本实用新型大功率激光切割雕刻模组光路系统的示意图。
具体实施方式
18.本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。
19.如图1一图3所示,本实用新型的一种大功率激光切割雕刻模组光路系统,包括第一平行光束模组、第二平行光束模组、反射镜4、半波镜5、偏振分光镜6以及聚焦镜7;第一平行光束模组与第二平行光束模组之间呈对立面设置,同时通过错位交叉排布;半波镜5呈45
°
设置于第一平行光束模组一侧;反射镜4呈90
°
设置于第二平行光束模组一侧;半波镜5与偏振分光镜6呈45
°
相对设置,反射镜4与偏振分光镜6呈180
°
相对设置;偏振分光镜6与聚焦镜7呈90
°
相对设置。
20.本实施例中,第一平行光束模组包括一个以上的第一ld二极管1和一个以上的第一准直镜2以及一个以上的第一发射镜3;第一ld二极管1与第一准直镜2平行设置;第一准直镜2与第一发射镜3呈45
°
相对设置,从而得到由第一平行光束模组产生的第一平行光束;第一发射镜3呈45
°
与反射镜4呈90
°
相对设置。
21.本实施例中,第二平行光束模组包括一个以上的第二ld二极管9和一个以上的第一准直镜10以及一个以上的第二发射镜8;第二ld二极管9与第二准直镜10平行设置;第二准直镜10与第二发射镜8呈45
°
相对设置,从而得到由第二平行光束模组产生的第二平行光束;第二发射镜8呈90
°
与半波镜5呈90
°
相对设置。
22.本实施例中,第一发射镜3和第二发射镜8表面设置有多层介质反射膜,通过增加反射率、减小光束能量损失。
23.本实用新型的有益效果是:由于第二平行光束模组产生的第二平行光束中存在部分偏振光,偏振光通过偏振分光镜时会被反射回去,为使光能量不受损失;通过设置半波片对偏振光进行旋转使其能量全部通过偏振分光镜中与水平光束重合;汇聚为3条或n条以上的平行光束,再通过聚焦镜,把所有的光束聚集形成一条具有切割和雕刻能力的高能量光束,从而实现达到提升功率的目的。
24.以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限
于此,任何不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。


技术特征:


1.一种大功率激光切割雕刻模组光路系统,其特征在于:包括第一平行光束模组、第二平行光束模组、反射镜(4)、半波镜(5)、偏振分光镜(6)以及聚焦镜(7);第一平行光束模组与第二平行光束模组之间呈对立面设置,同时通过错位交叉排布;半波镜(5)呈45
°
设置于第一平行光束模组一侧;反射镜(4)呈90
°
设置于第二平行光束模组一侧;半波镜(5)与偏振分光镜(6)呈45
°
相对设置,反射镜(4)与偏振分光镜(6)呈180
°
相对设置;偏振分光镜(6)与聚焦镜(7)呈90
°
相对设置。2.根据权利要求1所述的大功率激光切割雕刻模组光路系统,其特征在于:第一平行光束模组包括一个以上的第一ld二极管(1)和一个以上的第一准直镜(2)以及一个以上的第一发射镜(3);第一ld二极管(1)与第一准直镜(2)平行设置;第一准直镜(2)与第一发射镜(3)呈45
°
相对设置;第一发射镜(3)呈45
°
与反射镜(4)呈90
°
相对设置。3.根据权利要求1所述的大功率激光切割雕刻模组光路系统,其特征在于:第二平行光束模组包括一个以上的第二ld二极管(9)和一个以上的第一准直镜(2)以及一个以上的第二发射镜(8);第二ld二极管(9)与第二准直镜(10)平行设置;第二准直镜(10)与第二发射镜(8)呈45
°
相对设置;第二发射镜(8)呈90
°
与半波镜(5)呈90
°
相对设置。4.根据权利要求1所述的大功率激光切割雕刻模组光路系统,其特征在于:第一发射镜(3)和第二发射镜(8)表面设置有多层介质反射膜。

技术总结


本实用新型公开了一种大功率激光切割雕刻模组光路系统,包括第一平行光束模组、第二平行光束模组、反射镜、半波镜、偏振分光镜以及聚焦镜;第一平行光束模组与第二平行光束模组之间呈对立面设置,同时通过错位交叉排布;本实用新型通过将第一平行光束模组与第二平行光束模组之间呈对立面设置,同时通过错位交叉排布,将半波镜呈45


技术研发人员:

何龙

受保护的技术使用者:

深圳市平行之光科技有限公司

技术研发日:

2022.09.23

技术公布日:

2022/12/27

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