发明人:魏立帅,曹新龙,王夏阳,霍林智,杨时峰,薛孟尧申请号:CN202011400544.9
申请日:20201203
公开号:CN112542573A
公开日:
20210323
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了一种锂电池硅基薄膜负极片及其制备方法,采用卷对卷磁控溅射技术直接制备硅基薄膜负极片,在溅射硅或氧化亚硅薄膜处于岛状成膜阶段,引入脉冲式快速光热退火,使其快速凝聚成纳米微球,进而引入类石墨碳缓冲层填补纳米球间隙并覆盖的方式,可以有效抑制纳米硅基材料的膨胀,同时增强了极片的导电性。 申请人:陕西煤业化工技术研究院有限责任公司
地址:710077 陕西省西安市高新区锦业一路2号陕西煤业化工集团公司
国籍:CN
代理机构:西安通大专利代理有限责任公司
代理人:张海平