用于制造太阳能电池的图形化掩膜方法[发明专利]

专利名称:用于制造太阳能电池图形化掩膜方法专利类型:发明专利
发明人:盛赟,袁声召,盛健,蔡文浩,王伟,张淳
申请号:CN201410785485.X
申请日:20141217
公开号:CN104505435A
公开日:
20150408
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了一种用于制造太阳能电池的图形化掩膜方法,它的步骤如下:(a)旋涂掩膜层;(b)烘干掩膜层;(c)部分去除掩膜层,形成图形化掩膜;(d)实施电池的后续制造工艺;(e)去除剩余掩膜层。本方法加工面积大、图形尺寸小、图形精度高。
申请人:常州天合光能有限公司
地址:213022 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号
国籍:CN
代理机构:常州市科谊专利代理事务所
代理人:孙彬

本文发布于:2024-09-20 20:31:46,感谢您对本站的认可!

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标签:掩膜   专利   电池   图形化
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