一种射频功率控制方法及等离子体处理装置

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 114520677 A (43)申请公布日 2022.05.20

(21)申请号 CN202011298578.1

(22)申请日 2020.11.18

(71)申请人中微半导体设备(上海)股份有限公司

地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号

(72)发明人赵馗饭塚浩倪图强

(74)专利代理机构上海元好知识产权代理有限公司

代理人张静洁;徐雯琼

(51)Int.CI

H04B7/005

H05H1/46

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种射频功率控制方法及等离子体处理装置

(57)摘要

本发明提供一种射频功率控制方法，等离子体反应装置包含若干个电感耦合线圈，射频功率源的射频功率通过匹配网络分配到电感耦合线圈的第一至第M线圈上，使得等离子体反应装置的真空反应腔内产生等离子体，所述控制方法包含：同步射频功率源的输出时钟信号；探测第i线圈的第i电流信号，转换所述第i电流信号为对应的第i脉冲直流信号；根据所述输出时钟信号对第i脉冲直流信号进行处理后计算对应的第i电流反馈值；根据所述第i电流反馈值调整分配到第i线圈上的射频功率；其中i∈[1,M]。本发明还提供一种等离子体处理装置。本发明能够精确控制施加在所有线圈的射频功率，并不受射频功率源的输出方式限制。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2022-05-20	公开	发明专利申请公布
2022-06-07	实质审查的生效IPC(主分类):H04B 7/005专利申请号:2020112985781申请日:20201118	实质审查的生效