一种终端结构、制作方法以及功率器件[发明专利]

专利名称:一种终端结构、制作方法以及功率器件专利类型:发明专利
发明人:袁俊,丁琪超
申请号:CN202210085312.1
申请日:20220125
公开号:CN114284348A
公开日:
20220405
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本申请提供了一种终端结构、制作方法以及功率器件,包括:第一外延层;位于第一外延层一侧的掩埋层;贯穿掩埋层的第一掺杂区,第一掺杂区与掩埋层的掺杂类型相反;位于掩埋层背离第一外延层一侧的第二外延层,第二外延层内具有主结扩展区以及场限环;位于第二外延层背离所述掩埋层一侧的氧化层;其中,第二外延层和第一外延层均与掩埋层的掺杂类型相反;在第一方向上,场限环位于主结扩展区与第一掺杂区之间,第一方向垂直于第一外延层指向第二外延层的方向。本发明技术方案提供的终端结构、制作方法以及功率器件,提高了终端结构的耐压能力,进一步提高功率器件的可靠性和稳定性。
申请人:湖北九峰山实验室
地址:430070 湖北省武汉市东湖高新技术开发区未来科技城B4-5楼
国籍:CN
代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司
代理人:姚璐华

本文发布于:2024-09-21 08:02:22,感谢您对本站的认可!

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标签:外延   掩埋   终端   结构   功率   器件   提供   制作方法
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