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高真空零件深孔或者狭窄区域不规则密封面的抛光方法[发明专利]

专利名称：高真空零件深孔或者狭窄区域不规则密封面的抛光方法

专利类型：发明专利

发明人：吴冰欣，安朋娜

申请号：CN202010469877.0

申请日：20200528

公开号：CN111546251A

公开日：

20200818

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明是一种高真空零件深孔或者狭窄区域不规则密封面的抛光方法，使用密封面定位工装以及顶端可以固定砂纸的长杆抛光工具；抛光过程中首先分别使用回转型或者震动型抛光工具，依次使用240#、400#、600#砂纸以及800#抛光布对零件底纹面进行处理，底纹Ra要求<16；使用密封面固定工装组成密封面顺纹抛光区域，使用长杆抛光工具，辅以600#砂纸和800#抛光布进行顺纹纹路修饰，最后达到40倍放大镜下，密封面纹路一致，且细腻无杂纹。本发明密封面区域固定工装可以随深孔以及狭窄区域内轮廓与密封面的大小形状而变化。通过调整工装的形状，形成不同状态的密封面区域，便于抛出纹路一致的密封面。

申请人：沈阳富创精密设备有限公司

地址：110000 辽宁省沈阳市东陵区飞云路18甲-1号

国籍：CN

代理机构：沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：孙奇

本文发布于:2024-09-21 15:42:43，感谢您对本站的认可！

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