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以介孔二氧化硅为模板合成高比表面积纳米铁酸镧的方法[发明专利]

专利名称：以介孔二氧化硅为模板合成高比表面积纳米铁酸镧的方法

专利类型：发明专利

发明人：井立强，苏海娇，付宏刚

申请号：CN200810064977.4

申请日：20080723

公开号：CN101318708A

公开日：

20081210

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：以介孔二氧化硅为模板合成高比表面积纳米铁酸镧的方法，它涉及一种纳米铁酸镧的合成方法。本发明解决了现有铁酸镧的比表面积低的问题。一、La(NO)·6HO和Fe(NO)·9HO加到无水乙醇得混合溶液；二、将预处理的介孔二氧化硅粉末迅速加到混合溶液中，恒温搅拌，干燥，研磨；

三、焙烧，冷却；四、将冷却后的固体加到氢氧化钠溶液中，水浴搅拌，离心分离，洗涤；五、烘干，焙烧即可。本发明合成过程工艺简单、操作方便、成本低，易于实现工业化生产。本发明合成纳米铁酸镧的比表面积在34.5307～129.672m/g。与柠檬酸络合法相比，本发明合成产品比表面积增三倍以上，同时催化和吸附等性能明显改善。

申请人：黑龙江大学

地址：150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路74号

国籍：CN

代理机构：哈尔滨市松花江专利商标事务所

代理人：韩末洙

本文发布于:2024-09-23 09:27:49，感谢您对本站的认可！

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