一种新型零级波片制备方法以及新型零级波片

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 114114514 A (43)申请公布日 2022.03.01

(21)申请号 CN202111359035.0

(22)申请日 2021.11.17

(71)申请人深圳彩翼光电科技有限公司

地址 518000 广东省深圳市南山区西丽街道中山园路1001号TCL国际E城G3栋2层201-2

(72)发明人吴杰阳黄荣湖薛哲晰

(74)专利代理机构 44217 深圳市顺天达专利商标代理有限公司

代理人邹秋菊

(51)Int.CI

G02B5/30(20060101)

G02B27/00(20060101)

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种新型零级波片制备方法以及新型零级波片

(57)摘要

本发明涉及一种新型零级波片制备方法，包括：调整晶体的切割方向与晶体光轴之间的夹角以调整非常光折射率，基于光学延迟量公式，降低非常光折射率和寻常光折射率的光折射率差值以增大零级波片的波片厚度；基于所述波片厚度制造所述零级波片。本发明还涉及采用该新型零级波片制备方法制备的新型零级波片。本发明通过调整切割石英晶体的角度，达到增加零级波片的厚度的目的，从而可以简化零级波片的制造难度。进一步的，针对一些对离散角要求严格的应用场景，可以通过设置两级波片消除离散角。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2022-03-01	公开	发明专利申请公布
2022-03-18	实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/30专利申请号:2021113590350申请日:20211117	实质审查的生效