首页 > 专利技术

激光直写用超分辨掩膜板及其制备方法[发明专利]

专利名称：激光直写用超分辨掩膜板及其制备方法专利类型：发明专利

发明人：张奎，魏劲松，魏涛，耿永友，王阳，吴谊

申请号：CN201510777099.0

申请日：20151112

公开号：CN105425536A

公开日：

20160323

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：一种激光直写用超分辨掩膜板及其制备方法，该超分辨掩膜板的结构包括作为基底的盖玻片、相变薄膜层和介电保护层。该发明的膜层结构采用磁控溅射法制备，具有膜层结构简单，制备工艺可控性好等优点。采用本发明超分辨掩膜板，在不需要复杂的光机装置及真空设备的条件下就可以获得高分辨率的微纳图形结构，且因为超分辨掩膜板中相变薄膜的非线性吸收特性具有可逆性，使得该掩膜板可以重复使用，有效节约成本。

申请人：中国科学院上海光学精密机械研究所

地址：201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱

国籍：CN

代理机构：上海新天专利代理有限公司

本文发布于:2024-09-23 02:16:39，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/3/426114.html

上一篇：一种光伏玻璃加工用砂轮及其制备方法[发明专利]

下一篇：桂花种子提取物的制备方法、桂花种子提取物及其应用[发明专利]