首页 > 专利技术

一种硅片清洗剂及其使用方法[发明专利]

专利名称：一种硅片清洗剂及其使用方法专利类型：发明专利

发明人：杨福山，叶淳超，夏恒军

申请号：CN201010214595.2

申请日：20100630

公开号：CN101880609A

公开日：

20101110

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种硅片清洗剂及其使用方法，包括氧化剂、有机碱、渗透剂和水，各组分的体积比是氧化剂∶有机碱∶渗透剂∶水＝0.02～0.1∶1～4∶0.5～1∶30～50；所述的氧化剂的标准电极电位不小于1.7V，是臭氧或双氧水；所述的有机碱选自以下组分中的一种或多种：三乙醇胺、醇钠、烃基钠、烃基锂、氨基锂及季铵碱；所述的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠。本发明使用的清洗剂操作简单，没有给硅片清洗增加繁琐步骤，成本低，无污染，不会带入污染硅片的杂质，对环境无害。

申请人：国电光伏(江苏)有限公司

地址：214213 江苏省宜兴市经济开发区凯旋路25号

国籍：CN

代理机构：南京苏高专利商标事务所(普通合伙)

代理人：柏尚春

本文发布于:2024-09-22 19:25:49，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/3/420005.html

上一篇：基于灰尘厚度检测的太阳能光伏电板自动清洁系统及方法

下一篇：一种玻璃幕墙清洁方法及仿生机器人[发明专利]