一种柔性疏水基衬底上图案化刻蚀PEDOT:PSS透明电极的紫外光刻方法

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 113054058 A (43)申请公布日 2021.06.29

(21)申请号 CN202110281429.2

(22)申请日 2021.03.16

(71)申请人哈尔滨工业大学

地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

(72)发明人田浩李帅谭鹏孟祥达

(74)专利代理机构 23213 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司

代理人侯静

(51)Int.CI

H01L31/18(20060101)

H01B13/00(20060101)

G03F7/20(20060101)

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种柔性疏水基衬底上图案化刻蚀PEDOT:PSS透明电极的紫外光刻方法

(57)摘要

一种柔性疏水基衬底上图案化刻蚀PEDOT:PSS透明电极的紫外光刻方法，本发明涉及一种柔性疏水基衬底上图案化刻蚀PEDOT:PSS透明电极的紫外光刻方法。本发明的目的是要解决现有在柔性疏水基衬底上旋涂水基溶液时，难实现良好的图案化刻蚀的问题，本发明在清洗后的基底上旋涂聚酰亚胺，固化后再旋涂光刻胶，烘干后得到光刻胶层；使用紫外光刻机曝光将光刻胶层图案化，烘干后获得带有预设图案光刻胶层的基底；在带有预设图案化光刻胶层的基底上旋涂法沉积PEDOT:PSS薄膜，浸泡在有机溶剂中，超声清洗，氮气吹干即完成。本发明应用于有机薄膜电极加工刻蚀及应用研究领域。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2021-06-29	公开	公开
2021-07-16	实质审查的生效	实质审查的生效
2023-07-25	授权	发明专利权授予