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一种等离子抛光剂及其制备方法和应用[发明专利]

专利名称：一种等离子抛光剂及其制备方法和应用专利类型：发明专利

发明人：黄楚燊

申请号：CN202011551920.4

申请日：20201224

公开号：CN112500802A

公开日：

20210316

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明涉及金属加工技术领域，本发明的等离子抛光剂组分包括：硫酸钾0.1～3％，硫酸铵0.01～1％，元明粉0.01～1％，葡萄糖0.01～1％。本发明的等离子抛光剂可制成等离子抛光粉或等离子抛光液，可以有效地去除工件在铸造或金属打印后的披锋，能去除30％，耐用性比现有配方加强30％，工件光泽度和光滑度加强20％，且PH值为7～7.5，接近中性，有利于后续所排放污水的处理，有效加强环保问题。本发明还提供了所述等离子抛光粉的制备方法和使用方法。使用本发明的抛光剂对工件进行抛光处理，可以一步到位，不需要二次加工。

申请人：黄楚燊

地址：中国香港葵涌工业街10-14号华发工业大厦23楼-B22室

国籍：CN

代理机构：北京捷诚信通专利事务所(普通合伙)

代理人：宋安东

本文发布于:2024-09-22 04:10:19，感谢您对本站的认可！

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