一种用于STI领域的化学机械抛光液及其应用[发明专利]

专利名称:一种用于STI领域的化学机械抛光液及其应用专利类型:发明专利
发明人:尹先升,贾长征,王雨春
申请号:CN201511026897.6
申请日:20151231
公开号:CN106928860A
公开日:
20170707
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了一种应用于STI的CMP抛光液,其包括纳米磨料、高分子聚合物及有机硅化学添加剂。本发明公开的抛光液可达到高的HDP oxide(高密度等离子体二氧化硅)去除速率,以及高的HDP/SiN抛光选择比,具有良好的STI抛光应用前景。
申请人:安集微电子科技(上海)有限公司
地址:201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
国籍:CN
代理机构:北京大成律师事务所
代理人:李佳铭

本文发布于:2024-09-22 07:34:26,感谢您对本站的认可!

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标签:专利   抛光液   化学   应用   金桥   抛光   科技
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