一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用与流程

1.本发明属于陶瓷技术领域，具体是一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用。

背景技术：

2.陶瓷是陶器和瓷器的总称，是以粘土为主要原料以及各种天然矿物经过粉碎混炼、成型和煅烧制得的材料以及各种制品。陶瓷除了日用陶瓷外，还有用于观赏和收藏的艺术陶瓷。艺术陶瓷也可以称之为陶瓷艺术，为陶器艺术和瓷器艺术的总称。
3.目前，在陶瓷行业中，瓷坯的造型是优质产品的基础，釉料的调配使瓷器更加的耀眼夺目，同一造型的瓷坯，往往因釉面不同，而使消费者的视觉产生不同的影响。随着社会的进步及人们审美观的变化，对于陶瓷的艺术性、观赏性的要求也越来越高，因此需要新的工艺技术来提升艺术陶瓷的品质。
4.使用现有技术制成的陶瓷釉得到的陶瓷会出现釉面不均匀和釉面出现开口气泡等问题。很容易产生空心气泡，或不起褶皱，或易脱落，或不褶皱细碎不匀。

技术实现要素：

5.本发明的目的在于提供一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用，以解决上述背景技术中提出的问题和缺陷的至少一个方面。
6.本发明第一方面提供了一种陶瓷釉，由内至外包括：内层釉和外层釉；
7.所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
8.10份第一高岭土、65份～75份氧化铝、7份～13份第二高岭土、1份～5份硅微粉和12份～17份硅酸锆。
9.作为本发明进一步的方案：所述外层釉还包括0质量份～1.5质量份的剂。
10.作为本发明进一步的方案：所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
11.10份第一高岭土、66份～72份氧化铝、8份～11份第二高岭土、2份～4份硅微粉和12份～17份硅酸锆。
12.作为本发明进一步的方案：所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
13.10份第一高岭土、70份～75份氧化铝、7份～13份第二高岭土、1份～5份硅微粉和12份～17份硅酸锆。
14.作为本发明进一步的方案：所述外层釉还包括0质量份～1.5质量份的剂。
15.作为本发明进一步的方案：所述内层釉包括以下质量份的制备原料：
16.5份～10份熔块、15份～25份钾长石、5份～10份烧锌、8份～12份界牌泥、5份～15份方解石、17份～23份煅烧滑石、4份～8份硅灰石、3份～7份碳酸钡、5份～11份煅烧锂辉石、2份～5份氧化铝、7份～11份第二高岭土、1份～5份硅微粉、7份～15份石英、12份～17份硅酸锆和0份～1份剂。第二高岭土是将第一高岭土在煅烧炉中烧结到一定的温度和时间。
17.作为本发明进一步的方案：所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
18.6份～9份熔块、17份～22份钾长石、5份～10份烧锌、8份～12份界牌泥、8份～13份方解石、17份～23份煅烧滑石、4份～8份硅灰石、3份～7份碳酸钡、5份～11份煅烧锂辉石、2份～5份氧化铝、7份～11份第二高岭土、1份～5份硅微粉、7份～12份石英、12份～17份硅酸锆和0份～1份剂。
19.作为本发明进一步的方案：所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
20.7份～10份熔块、18份～23份钾长石、5份～10份烧锌、8份～12份界牌泥、7份～14份方解石、17份～23份煅烧滑石、4份～8份硅灰石、3份～7份碳酸钡、8份～11份煅烧锂辉石、2份～5份氧化铝、7份～11份第二高岭土、1份～5份硅微粉、7份～12份石英、12份～17份硅酸锆和0份～1份剂。
21.作为本发明进一步的方案：所述第二高岭土的制备方法，由以下步骤组成：将所述第一高岭土煅烧。
22.作为本发明进一步的方案：所述第一高岭土煅烧的温度为1300℃～2000℃。
23.作为本发明进一步的方案：所述第一高岭土煅烧的时间为7h～24h。
24.作为本发明进一步的方案：所述剂为钒锆黄或锆铁红中的至少一种。
25.本发明第二方面提供了一种陶瓷，所述陶瓷的制备原料包括陶瓷坯体和所述陶瓷釉。
26.作为本发明进一步的方案：所述陶瓷坯体的质量组成成分包括：65份～70份二氧化硅，18份～22份氧化铝，0份～1份氧化铁，0份～1份二氧化钛，0份～1份氧化钙，0份～1份氧化镁，1份～2份氧化钾，1份～3份氧化钠，5份～8份i.l。
27.为了制得更效果更佳的产物，本发明第三方面公开了一种陶瓷的制备方法，包括以下步骤：
28.s1、配置内层釉浆料和外层釉浆料；
29.s2、在陶瓷坯体上施所述内层釉浆料，得到第一陶瓷釉坯；所述内层釉浆料的施釉厚度为0.10mm～0.35mm；
30.s3、在第一陶瓷釉坯表面施所述外层釉浆料，得到第二陶瓷釉坯；
31.所述外层釉浆料的施釉厚度为0.10mm～0.15mm；
32.s4、将第二陶瓷釉置于1100℃～1250℃的氧化气氛中烧成；
33.s7、将第二陶瓷釉置于1100℃～1250℃的氧化气氛中烧成。
34.作为本发明进一步的方案：在第一陶瓷釉坯表面施所述外层釉浆料之前，先在第一陶瓷釉坯底部以上3mm～10mm范围区域内刷涂阻水剂，以防止釉在高温下流动，造成粘脚(底)或突出口沿的缺陷。
35.作为本发明进一步的方案：外层釉的厚度为0.10mm～0.15mm，容易形成褶皱且不易产生局部亮光，当外层釉过厚时，则不易形成褶皱；当外层釉过薄时，则容易与内层釉融合而变为亮光或局部亮光，也不易形成褶皱。
36.作为本发明进一步的方案：所述外层釉浆料的平均粒径为40μm～60μm。
37.作为本发明进一步的方案：所述第一陶瓷釉坯的含水率在1％以下。
38.作为本发明进一步的方案：所述第二陶瓷釉坯的含水率在1％以下。
39.本发明第四方面提供了上述陶瓷釉的应用，应用在制备艺术陶瓷中，使陶瓷产品釉面堆叠(窑变)效果独特，有褶皱状凸起，像沙漠纹，也像哈密瓜纹状凸起，古朴大方，艺术
感强。釉面凹凸曲面自然，深浅交替。
40.与现有技术相比，本发明的有益效果是：
41.外层釉的制备原料中，氧化铝可以提高釉的耐温性，同时提高产品的哑光度，氧化铝过多会结板，过少会使釉面不均匀，或局部亮光；第一高岭土可以提高釉浆的悬浮性，改善釉浆的可操作性；第二高岭土可以带入部分氧化铝，其比直接加入氧化铝更温和，同时可以降低成本；硅微粉可以使第二高岭土及氧化铝熔融得更好，使高温态釉浆化学成分分布更均匀；硅酸锆可以增加高温时熔融态釉浆的粘度，同时提高其高温稳定性。
附图说明
42.为了便于本领域技术人员理解，下面结合附图对本发明作进一步的说明。
43.图1为实施例4应用得到的陶瓷外观形貌图；
44.图2为实施例5应用得到的陶瓷外观形貌图；
45.图3为实施例6应用得到的陶瓷外观形貌图；
46.图4为对比例4应用得到的陶瓷外观形貌图；
47.图5为对比例5应用得到的陶瓷外观形貌图；
48.图6为对比例6应用得到的陶瓷外观形貌图。
具体实施方式
49.下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
50.为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。实施例中所使用的试验方法如无特殊说明，均为常规方法；所使用的材料、试剂等，如无特殊说明，均可从商业途径得到的试剂和材料。
51.其中，熔块由醴陵市科鑫陶瓷原料厂生产，型号是a-1。
52.界牌泥由衡阳界牌瓷业有限责任公司生产。
53.煅烧滑石由广西上林金宁滑石粉厂生产。
54.煅烧锂辉石由江西毅信矿业有限公司生产。
55.第二高岭土由湖南衡阳界牌鑫晶陶瓷原料贸易公司生产。
56.硅微粉由佛山市三水金鹰无机材料有限公司生产。
57.锆铁红由佛山市金鹰时代陶瓷颜料有限公司生产。
58.第一高岭土由湖南衡阳界牌鑫晶陶瓷原料贸易公司生产。
59.钒锆黄为佛山市金鹰时代陶瓷颜料有限公司生产。
60.本发明实施方式中，阻水剂为醴陵市海诚化工原料经营部生产。
61.本发明实施方式中，也可使用惠州市三泰胶业有限公司生产的型号为k8-2的水性胶代替阻水剂，当施完外层釉浆料之后，可以将该水性胶以及该水性胶表面的外层釉浆料一起撕掉。
62.本发明实施方式中，内层釉和外层釉中出现的相同名称的原料，其产地和性质均
相同。
63.本发明实施方式中，第二高岭土是将第一高岭土经过1400℃煅烧15个小时，使之出现莫来石晶相，加在釉中可以提高釉的熔融温度。
64.本发明实施方式中，陶瓷坯体的质量百分数为：二氧化硅68.49％，氧化铝20.35％、氧化铁0.75％、二氧化钛0.18％、氧化钙0.32％、氧化镁0.24％、氧化钾1.2％、氧化钠2.26％、烧失量6.14％，总量为99.93％，另外0.07％为杂质。
65.本发明实施方式中，陶瓷湿坯是由陶瓷坯体的组成成分混合水制成，坯料和水的质量比为1:0.4。
66.本发明实施方式中，内层釉浆料是由内层釉的组成成分混合水制成，釉料和水的质量比为1:0.4。
67.本发明实施方式中，外层釉浆料是由外层釉的组成成分混合水制成，釉料和水的质量比为1:0.4。
68.实施例1：
69.一种陶瓷釉，由内层釉和外层釉组成；
70.本实施例中，内层釉制备原料的重量份数如下：熔块8份，钾长石20份，烧锌8份，界牌泥10份，方解石10份，煅烧滑石20份，硅灰石6份，碳酸钡5份，煅烧锂辉石8份，氧化铝3份，第二高岭土9份，硅微粉3份，石英10份，硅酸锆15份，剂钒锆黄0.8份，剂锆铁红0.2份。
71.本实施例中，外层釉制备原料的重量份数如下：氧化铝70份，第一高岭土10份，第二高岭土10份，硅微粉3份，硅酸锆15份，剂钒锆黄0.8份，剂锆铁红0.2份。
72.实施例2：
73.一种陶瓷釉，由内层釉和外层釉组成。
74.本实施例中，内层釉制备原料的重量份数如下：熔块10份，钾长石20份，烧锌8份，界牌泥10份，方解石10份，煅烧滑石20份，硅灰石6份，碳酸钡5份，煅烧锂辉石10份，氧化铝3份，第二高岭土9份，硅微粉3份，石英10份，硅酸锆15份，剂钒锆黄0.5份，剂锆铁红0.1份。
75.外层釉制备原料的重量份数如下：氧化铝75份，第一高岭土10份，第二高岭土8份，硅微粉3份，硅酸锆15份，剂钒锆黄0.2份，剂锆铁红0.5份。
76.实施例3：
77.一种陶瓷釉，由内层釉和外层釉组成。
78.本实施例中，内层釉制备原料的重量份数如下：熔块8份，钾长石20份，烧锌8份，界牌泥10份，方解石8份，煅烧滑石20份，硅灰石8份，碳酸钡8份，煅烧锂辉石8份，氧化铝4份，第二高岭土9份，硅微粉3份，石英10份，硅酸锆15份，剂钒锆黄0.2份，剂锆铁红0.2份。
79.本实施例中，外层釉制备原料的重量份数如下：氧化铝68份，高岭土10份，第二高岭土13份，硅微粉3份，硅酸锆15份，剂钒锆黄0.1份，剂锆铁红0.1份。
80.实施例4：
81.一种陶瓷的制备方法，包含以下步骤：
82.s1、制作陶瓷湿坯；
83.s2、将陶瓷湿坯置于110℃
±
10℃环境中烘干80min，得到陶瓷坯体；
84.s3、使用实施例1中的内层釉制备原料配置内层釉浆料，通过球磨、过筛后使内层
釉浆料的平均粒径为50μm
±
10μm；
85.s4、在陶瓷坯体上施所述内层釉浆料，使施内层釉之后的内层釉厚度为0.22mm
±
0.02mm，得到第一陶瓷釉坯；
86.s5、将第一陶瓷釉坯烘干或静置，使陶瓷釉坯的含水率低于1％；
87.s6、使用实施例1中的外层釉制备原料配置外层釉浆料，通过球磨、过筛后使外层釉浆料的平均粒径为50μm
±
10μm；
88.s7、在第一陶瓷釉坯底部以上7mm范围区域内刷涂阻水剂，然后在第一陶瓷釉坯表面施外层釉浆料，使施内外层釉之后的外层釉厚度为0.12mm
±
0.02mm，得到第二陶瓷釉坯；
89.s8、将第二陶瓷釉坯置于110℃
±
10℃下烘干，使第二陶瓷釉坯含水率低于1％。
90.s7、将第二陶瓷釉坯置于1200℃
±
50℃的氧化气氛中烧成，得到一种表面含陶瓷釉的陶瓷。
91.本实施例中，氧化气氛中的游离含氧量为5％
±
1％，一氧化碳含量为0。
92.本实施例中，内层釉可以采取浸釉、淋釉、荡釉等传统，外层釉主要采取喷釉工艺。
93.图1为该实施例制得的陶瓷的外观形貌图。
94.实施例5：
95.一种陶瓷的制备方法，本实施例和实施例4的区别在于，使用实施例2中的内层釉制备原料配置内层釉浆料，使用实施例2中的外层釉制备原料配置外层釉浆料，其他均和实施例4相同。
96.图2为该实施例制得的陶瓷的外观形貌图。
97.实施例6：
98.一种陶瓷的制备方法，本实施例和实施例4的区别在于，使用实施例3中的内层釉制备原料配置内层釉浆料，使用实施例3中的外层釉制备原料配置外层釉浆料，其他均和实施例4相同。
99.图3为该实施例制得的陶瓷的外观形貌图。
100.对比例1：
101.一种陶瓷釉，本对比例和实施例1相比，区别在于，b组分中的氧化铝的重量份为62份，其他的配比和厚度等均和实施例1相同。
102.对比例2：
103.一种陶瓷釉，本对比例和实施例2相比，区别在于，b组分中的氧化铝的重量份为89份，其他的配比和厚度等均和实施例2相同。
104.对比例3：
105.一种陶瓷釉，本对比例和实施例1相比，区别在于，外层釉厚度为0.07mm，其他的配比和厚度等均和实施例1以及实施例2相同。
106.对比例4：
107.一种陶瓷釉的制备方法，本对比例和实施例4相比，区别在于，使用对比例1中的内层釉制备原料配置内层釉浆料，使用对比例1中的外层釉制备原料配置外层釉浆料，其他均和实施例4相同。
108.图4为该实施例制得的陶瓷的外观形貌图。
109.对比例5：
110.一种陶瓷釉的制备方法，本对比例和实施例5相比，区别在于，使用对比例2中的内层釉制备原料配置内层釉浆料，使用对比例2中的外层釉制备原料配置外层釉浆料，其他均和实施例5相同。
111.图5为该实施例制得的陶瓷的外观形貌图。
112.对比例6：
113.一种陶瓷釉的制备方法，本对比例和实施例4相比，区别在于，使用对比例3中的内层釉制备原料配置内层釉浆料，使用对比例3中的外层釉制备原料配置外层釉浆料，其他均和实施例4相同。
114.图6为该实施例制得的陶瓷的外观形貌图。
115.实施例4～实施例6和对比例4～对比例6的差异如表1所示：
116.表1实施例4～实施例6和对比例4～对比例6的差异
[0117][0118]
表1中的吸水率测定方法使用gbt 3299-2011中的方法，抗弯强度试验方法使用gb/t 4741-1999中的方法，硬度试验方法使用gb/t16534-2009中的方法。
[0119]
表1中的硬度使用莫氏硬度。
[0120]
以上所述的具体实施例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

技术特征：

1.一种陶瓷釉，其特征在于：由内至外包括：内层釉和外层釉；所述外层釉包括以下质量份的制备原料：10份第一高岭土、65份～75份氧化铝、7份～13份第二高岭土、1份～5份硅微粉和12份～17份硅酸锆。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷釉，其特征在于，所述外层釉还包括0质量份～1.5质量份的剂。3.根据权利要求1所述的一种陶瓷釉，其特征在于，所述内层釉包括以下质量份的制备原料：5份～10份熔块、15份～25份钾长石、5份～10份烧锌、8份～12份界牌泥、5份～15份方解石、17份～23份煅烧滑石、4份～8份硅灰石、3份～7份碳酸钡、5份～11份煅烧锂辉石、2份～5份氧化铝、7份～11份第二高岭土、1份～5份硅微粉、7份～15份石英、12份～17份硅酸锆和0份～1份剂。4.一种陶瓷，其特征在于，所述陶瓷的制备原料包括陶瓷坯体和如权利要求1至3任一项所述的陶瓷釉。5.一种陶瓷，其特征在于，所述陶瓷坯体的质量百分数为：二氧化硅65％～70％，氧化铝18％～22％，氧化铁0％～1％，二氧化钛0％～1％，氧化钙0％～1％，氧化镁0％～1％，氧化钾1％～2％，氧化钠1％～3％，烧失量5％～8％。6.一种制备如权利要求4或5所述陶瓷的方法，其特征在于，包括以下步骤：s1、配置内层釉浆料和外层釉浆料；s2、在陶瓷坯体上施所述内层釉浆料，得到第一陶瓷釉坯；所述内层釉浆料的施釉厚度为0.10mm～0.35mm；s3、在第一陶瓷釉坯表面施所述外层釉浆料，得到第二陶瓷釉坯；所述外层釉浆料的施釉厚度为0.10mm～0.15mm；s4、将第二陶瓷釉置于1100℃～1250℃的氧化气氛中烧成。7.根据权利要求6所述的一种陶瓷的制备方法，其特征在于，所述外层釉浆料的平均粒径为40μm～60μm。8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一陶瓷釉坯的含水率在1％以下；所述第二陶瓷釉坯的含水率在1％以下。9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第二陶瓷釉坯需干燥，所述第二陶瓷釉坯的干燥温度为100℃～120℃。10.一种如权利要求4或5任一项所述的陶瓷在制备艺术陶瓷中的应用。

技术总结

本发明公开了一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用，涉及陶瓷技术领域，本发明的陶瓷釉由内至外为内层釉和外层釉，外层釉包括以下质量份的制备原料：10份第一高岭土、65份～75份氧化铝、7份～13份第二高岭土、1份～5份硅微粉和12份～17份硅酸锆。该陶瓷釉应用于陶瓷制备后，制得的陶瓷釉面均匀、光亮均匀、无开口气泡。外层釉的制备原料中，氧化铝的存在可以提高釉的耐温性，同时提高产品的哑光度，氧化铝过多会结板，过少会使釉面不均匀，或产生局部亮光；第一高岭土的存在可以提高釉浆的悬浮性，改善釉浆的可操作性；第二高岭土的存在可以带入部分氧化铝，其比直接加入氧化铝更温和，同时可以降低成本。同时可以降低成本。同时可以降低成本。