PVD镀膜工艺设计

PVD镀膜工艺
PVD镀膜工艺
1.装饰件材料〔底材〕
(1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。
(2)玻璃、陶瓷。
(3)塑料。abspvcpcsheet、尼龙、水晶等。
(4)柔性材料。涤纶膜、pc、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。
2.装饰膜种类
(1)金属基材装饰膜层:tinzrnticcrn*ticncrcnti02al等。
(2)玻璃、陶瓷装饰膜层:tio2cr2o3mgf2zns等。
(3)塑料基材装饰膜层:aicunisi02ti02itomgf2
(4)柔性材料装饰膜层:alltoti02zns等。
3.局部金属基材装饰膜颜
金属基材装饰膜的种类和调很多。表1为局部金属基材装饰膜的种类及颜。
1 局部金属基材装饰膜的种类及颜膜层种类
tin*
浅黄、金黄、棕黄、黑
tic
浅灰、深灰
tic*ny
赤金黄、玫瑰金、棕、紫
tin+ au
zrn
金黄
zrc*ny
金、银
tio2
紫青蓝、绿、黄、橙红
crn*
银白
ti*al-n*
金黄、棕、黑
ti*zral-n*
金黄
3.装饰膜的镀制工艺
一.金属件装饰膜镀制工艺
比较成熟的镀膜技术有电弧离子镀、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选取一种具有代表性的典型镀制工艺进展介绍。
1)用电弧离子镀的方法为黄铜电镀亮铬或镍手表壳镀制ticn膜。
采用小弧源镀膜机和脉冲偏压电源;
(1)工件清洗、上架、入炉
工件在入炉之前要经过超声波清洗、酸洗和漂洗三道工序。
首先是在超声波清洗槽中放入按使用要求配制的金属清洗剂,利用超声波进展脱脂、清洗。清洗之后,进展酸洗,它可以中和超声波清洗时剩余的碱液,还能起到活化处理的作用。然后进展漂洗以彻底除去酸液,漂洗时必须采用去离子纯洁水或蒸馏水。经过三洗后,即时进展烘干,温度一般控制在100℃左右,时间为1h左右。也可以风吹干后马上人炉。
(2)镀膜前的准备工作
①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过屡次镀膜时,真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗,一般是半个月清洗一次。
②检查电弧蒸发源。工作前,要确保电弧蒸发源发源安装正确,绝缘良好,引弧针控制灵活,程适宜,恰好能触及阴极外表。
③检查工件架的绝缘情况。工件架与地之间的绝缘必须须良好,负偏压电源与工件架的接触点点必须接触良好。
以上几项工作确保没有问题后,才可以关闭真空镀膜室的门,进展抽气和镀膜。
(3)抽真空
真空抽至6.6 * 10-3pa。开场是粗抽,从大气抽至5pa左右,用油扩散泵进展细抽。在粗抽时,可以烘烤加热至150℃。伴随镀膜室温度的升高,器壁放气会使真空度降低,然后又上升,等到温度上升到6.6 * 10-3pa时方可进展镀膜工作。
(4)轰击清洗
①氩离子轰击清洗
真空度:通人高纯度氩气(99.999%)真空度保持在23pa。轰击电压:8001000v。轰击时间:10min.
此刻在真空镀膜室内发生辉光放电,放电产生的氩离子以较高的能量撞击工件外表,将工件外表吸附的气体、杂质和工件外表层原子溅射下来,露出材料的新鲜外表。
②钛轰击
真空度:通人高纯度氩气使真空度保持在2 * 10-2pa。脉冲偏压:400500v,占空比20%
电弧电流:6080a,轮换引燃电弧蒸发源,每个电弧蒸发源引燃12min
(5)镀膜
①镀钛
真空度:通人高纯度氩气,真空度保持在2 * 10-2pa。脉冲偏压:200300v,占空比50 %。电弧电流:6080a,引燃全部弧源,时间23min.
②镀ticn
真空度:通人高纯度氮气使真空度保持在(3哺乳衫8) * 10-1pa,然后再逐渐加大c2h2气体,随着c2h2气体量增大,泽由金黄一赤金黄一玫瑰金一黑变化。控制n2c2h2两种气体的比例可以到达预定的度。
电弧电流:5070a。脉冲偏压:100150v,占空比玻璃纤维防火布60 %80 %。沉积温度:200℃左右。镀膜时间:1020min,膜层厚度0.20.5μm
(6)冷却
镀膜工序完毕后,首先关闭电弧电源和偏压电源,然后关闭气源、停转架。工件在真空镀膜室内冷却至80100℃时,向镀膜室内充大气,取出工件。
2)用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制zrn膜。采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源,以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 * 10-36.6 * 10-13pa本底真空。加热温度应在真空室器壁放气后又上升到100150℃。
2)轰击清洗
真空度:通人氩气真空度保持在23pa。轰击电压:8001000v,脉冲占空比20%。轰击时间:10min
(3)镀膜
①沉积锆底层
真空度:通入氩气,真空度保持在s * lo-1pa。靶电压:400—550v,靶功率15 n 30w/crrr2。脉冲偏压:450500v,占空比20 %。镀膜时间:510min
②镀zrn
真空度:通入氮气,真空度保持在(35) * 10-1pa。靶电压:400550v,靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压:150200v,占空比80 %。镀膜时间:2030min
由于磁控溅射技术中金属离化率低,不容易进展反响沉积,获得化合物膜层的工艺范围比较窄。可采用气体离子源将反响气体离化,扩大反响沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源,柱状弧源还是辅助镀膜源。
(4)冷却
镀膜完毕后,首先关闭磁控溅射靶电源、偏压电源,然后关闭气源、停转架。工伫件在真空镀膜室中冷却到100℃时,向镀膜室充大气,取出工件。
3)用复合涂层离子镀方法为黄铜电镀亮镍的手表壳镀制tinau+ si02膜。
采用电弧、磁控溅射、中频或射频溅射离子镀多功能镀膜机,在真空镀膜室壁上安装6人体穴位模型个小平面弧源钛靶镀tin,中心安装柱状磁控溅射黄金靶镀金,壁上安装2个矩形平面磁控溅射si02靶或si靶镀si02。采用直流偏压电源。
(1)工件清洗、上架、入炉。方法同前。
(2)抽真空:本底真空最好到达6.6 * 10-3pa,烘烤加热温度为150℃左右。
电热炉(3)轰击清洗。方法同前,包括氩轰击和钛轰击两种方法。
(4)镀膜
①沉积钛底层
真空度:通入高纯氩气,真空度保持在5 * 10-2pa。电弧电流:5070a,引燃全部弧源,时间为23min。偏压:400500v
②沉积tin
封边机青岛金鼎机械
真空度:通入高纯氮气,真空度保持在s * lo-1pa。偏压:100200vo电弧电流:6080a。沉积时间:1020min,膜层厚度0.10.5μm
③掺金镀
真空度:通入高纯氮气,真空度保持在5 * 10-2pa。偏压:100150v。电弧电流:60a(真空镀膜室上、中、下各点燃1个源)。磁控溅射金靶电压:400—500v,电流35a;时间:1min
④镀金
真空度:通入氩气,真空度保持在3 * 10-1pa。偏压:100150v。溅射靶电压:400550v。时间:5-10min
⑤沉积si02
真空度:通入高纯氩气,真空度8 * 10-2pa5* 10-1pa。中频〔射频〕电源功率:200500w。时间:1020min
4)冷却:首先关闭中频〔或射频〕电源,然后关气源,停转架。工件在真空室内冷却到80-100℃时,向真空室充空气,取出工件。该工艺也叫掺金镀或ipg,最后一层si02是透明的,是保持金膜的,它可以延长金膜的磨损时间,根据客户的要求可有可无。
二.塑料件装饰膜的镀制工艺
采用pvd技术可在玻璃、陶瓷、塑料、水晶、木材、纸张等非金属工件上镀制金属膜及氮化膜、氧化膜。此处重点介绍塑料制品装饰膜的镀制技术,塑料制品镀金属膜的工艺也称塑料金属化。
为了填充塑料制品毛坯上的缺陷,提高外表光亮度和塑料与金属膜的结合力,在镀膜之前需要上底漆。为保护膜层还需上面漆。底漆、面漆由溶剂、树脂、助剂组成,按比例、顺序参加,混合搅拌。底漆、面漆一般采用溶剂型涂料,近几年出现了紫外线硬化涂料,它可以扩展塑料制品的应用领域。
塑料制品装饰膜的pvd技术有两种:真空蒸发镀和磁控溅射镀。真空蒸发镀设备构造简单、操作简便并且生产效率高,是目前广泛采用的塑料件的镀膜技术。
1)塑料制品装饰膜的真空蒸发镀工艺
一般塑料制品的真空蒸发镀膜机有卧式和立式双室〔蚌形〕两种。镀膜的工艺流程是:清洗脱脂——上架——涂底漆一固化——蒸发镀膜一涂面漆一固化——下架一染——检验。
下面具体介绍镀膜的流程。
竹炭颈椎枕(1)来料检验。
(2)枯燥。待镀件来料时含较多水分,需进展枯燥处理35h,温度为5060℃。
3)上架。一般注塑时根本按真空镀膜要求生产,因此待镀件外表一般油污较少,经过一般的擦拭就可上架,但是来料油污多时需进展去污处理。方法是用市售洗洁剂逐件刷洗、漂洗、烘干。油污严重时还需用清洗剂在5060℃,浸泡1520min进展脱脂处理。
(4)除尘。这道工序是保证镀膜质量的关键之一,方法有两种:一种是用吸尘器对准上好架的待镀件仔细地除尘,能取得较理想的效果;另一种是用高压气"〞的方法,这种方法
必须装有油水别离器,但在实际工作中这种方法并不是很理想;还有一种方法是用静电除尘的方法,对质量要求较高时采用。
(5)涂底漆。涂底漆是保证镀膜质量的关键之二,涂底漆的目的是提高镀件外表的光洁度和光亮度;提高膜层结合力。
(6)烘干。涂漆流平后需进展干固处理,方法有红外线加热法、电热加热法及紫外线(uv)固化法等。固化温度为6070℃,固化时间为1.52.5h
(7)镀膜。镀膜是保证镀膜质量的关键。
镀膜前的准备工作:①钨丝的处理:一般采用φ0.75mm3根绞合钨丝,用金属清洗剂将钨丝浸泡2030min6090℃进展脱脂之后,彻底地漂洗烘干备用;②铝丝的处理:用纯度为99.9%99.99%的铝丝或铝箔制成的蒸发舟进展碱处理,将铝丝浸泡在10%15%naoh溶液中23min,进展水汝洗3-5次,烘干2h备用。
镀膜操作:待镀件上架,并装上钨丝,然后入炉,检查接触是否良好,转动正常,关真空室。抽真空:油扩散泵已预热1h;开机械泵,开粗抽阀、进展粗抽3—5min;开罗茨泵,开真
空计测量真空达22.5pa;关粗抽阀,开前置阀,开高阀,进展细抽至(12) * 10-2pa即可蒸镀。真空度越高,膜层质量越好。

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