FDTD_学习笔记2_纳⽶孔道阵列（nanoholesarry）交互界⾯初始结构设置仿真 区。。。
纳⽶孔道阵列(nanoholes arry)
在这⾥⼗分感谢b站，up主Ne s tor呐等的字幕翻译…
(给兄弟们挂个 )19rrr
>_<…因为有的是⾃⼰理解，如有错误，希望⼤家踊跃评论，我好即使改正…
“etch”：表⽰折射率为 “1” 的材料，⽤来表⽰⾦膜中的蚀刻孔…
(如果背景指数不为“1”，需要修改"etch"材料的折射率，以匹配背景指数…) 2.结构的设置：
(1)设置⼀个100nm 的⾦膜：
调漆设备
x,y…⽅向上span 跨度为1.2微⽶，器件周期是0.4微⽶，因此每个⽅向上有3个周期
(2)设置sio2基底部：
(3)添加蚀刻孔：
在结构库⾥添加⼀个“圆圈阵列”，表⽰⾦膜中的“孔刻列”…
在结构组 >>> “光⼦晶体” >>> 矩形格⼦pc阵列…
属性设置：
name value
材料etch
z 的中⼼位置0.05微⽶
z span0.1
nx、ny (x,y⽅向上的组数的周期数)3磁性输送带
ax、ay(x,y⽅向上设置周期)0.4μm测量电池内阻
半径0.1μm
(4)仿真区域：
PML有三种配置：
standard最常见使⽤的⽅案
stablized仿真发散，且发散主要起源于PML时使⽤
steep angle磁场以陡斜⾓度⼊射（⾓度超过60°）custom⽤户⾃定义
"陡⾓"PML配置，因为光有可能衍射成⼀定⾓度传播的光栅级数，"陡⾓"有效的吸收某个⾓度⼊射的光…冷轧辊
蓝⾊边界 代表 x,y⽅向上的"周期性"边界条件…
橙⾊边界代表z⽅向上的PML…
从基底板sio2 到 下⽅PML，⽤标尺测量…其要⼤于均匀介质波长(0.7μm)的1/2…AB:0.484μm > 0.7μm…
mesh“局部”区域的设置：
1.我们要使⽤，更细的⽹格来解决纳⽶孔的弯曲形状和⾦膜的厚度…
2.所有步长设置0.01μm
扣具
3."⼏何"选项卡下，使⽤“基于结构”选项设置…
4.选项框中：输⼊“cirlce”…这将在名为"circle"的每个对象上建⽴⼀个⽹格区域…"纳⽶孔"组织内部结构称之前 “圆形 ”…
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