光刻工艺方法[发明专利]

专利名称:光刻工艺方法
专利类型:发明专利
分词技术
酒店预定系统发明人:官锡俊
申请号:CN201911053214.4申请日:20191031
公开号:CN110632829A
公开日:
水源热泵系统
20191231
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了一种光刻工艺方法,包括步骤:步骤一、计算光刻工艺中曝光的最佳焦距和聚焦深度;步骤二、在第一晶圆上涂布第一光刻胶,第一光刻胶的厚度大于聚焦深度;步骤三、从第一光刻胶的底部开始进行多次曝光,最后一次曝光之前的各次曝光分别处理第一光刻胶中的厚度为DOF的一子层且各子层从第一光刻胶的底部到顶部依次叠加,各子层的叠加厚度小于第一光刻胶的厚度且在第一光刻胶的顶部形成剩余的最顶子层,最顶子层的厚度小于等于DOF,最后一次曝光实现对最顶子层的处理;步骤四、对第一光刻胶进行显影。本发明能增加厚光刻胶制程的聚焦深度,提高分辨率和工艺窗口。
申请人:上海华力集成电路制造有限公司
去污水地址:201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
国籍:CN
代理机构:上海浦一知识产权代理有限公司
异形代理人:郭四华
>载体构建

本文发布于:2024-09-20 23:46:53,感谢您对本站的认可!

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标签:光刻胶   上海   厚度   步骤   聚焦   工艺
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