电⼦束光刻系统参数要求
电⼦束光刻系统参数要求
无烟抛光剂
采购预算：1300万，具体参数要求如下：
⼀、⼯作条件
1. 电源电压：AC 230V 10%，50 Hz三相
2. 环境温度：15-25 ℃，电⼦区域 21 +/- 0.25 ℃
3. 相对湿度：40 - 70%
⾼斯束电⼦束曝光系统
1.电⼦束曝光系统主机
2.热场发射电⼦ 50KeV/100KeV可切换，电⼦寿命不低于8000 - 12000
⼩时聚氨酯1
3.210mm*210mm运动范围激光⼲涉样品台
4.激光⼲涉仪精度 0.15nm
5.⾃动动态对焦，像散矫正，写场畸变矫正系统
6.⾃动激光⾼度测量
8.升级1mm⼤写场
9.2⼯位真空仓⾃动进样系统
10.预对准显微镜系统
11.预装Linux的计算机系统（⾄强4核处理器，HP Z840同等或以上档
次）含电⼦束曝光设备系统控制软件
12.电⼦束曝光数据处理优化软件及临近效应修正/蒙特卡洛模拟计算软
件，含数据处理⽤计算机系统
13.标配3个以上样品架，包括6”掩模版，6”硅⽚，4”硅⽚，2”硅⽚
及散⽚。其中⼀个可同时安放⾄少4个样品包括2”硅⽚，散⽚样品。（⽤户也可根据需要⾃⾏选择）
温热理疗床
14.配备⾄少20kVA的不间断电源。
15.其他附件、零配件
三、技术服务
1技术⽂件（印刷版和详细电⼦版各⼀套)
1.1设备的基本结构和使⽤说明书、操作⼿册及维修保养说明书
1.2主机和各功能部件的性能指标、基本结构和使⽤说明书，全套维修保养说
明书
1.3软件的操作⼿册
1.4各类操作指令⼿册
2.1设备安装：
a) 合同⽣效两周内投标⽅应提供设备安装、调试等必备的技术⽂件，协助
⽤户提前作好设备安装的准备⼯作。
b) 设备抵达安装现场后⼀周内，供应商按照⽤户通知的⽇期选派经验丰富
的⼯程师负责检验和安装调试，⼆个⽉内完成验收。
2.2验收标准：
卖⽅须提供该设备出⼚质量检测标准和试验⽅法，应及时更换在验收中指标未达到要求的部件，验收指标必须满⾜或优于标书的技术指标。
3技术培训
安装后进⾏2周的现场培训（地点在厦门⼤学），内容包括仪器的技术原理、操作、数据处理、基本维护等确保所有基本参数准确可以运⽤。公司提供免费参加国内设备⽤户交流培训会。
4售后和保修服务
4.1保修服务期⾄少3年（⾃设备验收合格之⽇起）。
4.2保修期内：
a，保修包括所有投标商制造部分，包括⼈⼯费，差旅费及零部件费，免运输费⽤。不在保修范围内的部件及事项需在合同中注明。
自动b，故障响应：在保修期内仪器出现问题，接到⽤户报修要求，响应时间为24⼩时内，如果⽆法通过⽹络和电话诊断排除故障，需要在72⼩时到达现场。
c，保修期外，出现故障，每次维修，必须问题排除后再⽀付费⽤。维修部分质保半年。
d，维修不得超过10个⼯作⽇（运输时间和在中国海关报关时间不计⼊），每超过1个⼯作⽇维修部分的保修在原有保修的基础上，相应顺延。如果超过三
⼗个⼯作⽇不能解决问题，⼚家售后服务经理必须给出具体解决⽅案和时间的书⾯承诺。
e，投标商⼚家要承诺⼗年內对以上要求做出必须实践的保证，不得以投标商⼚家⼈员更换等因素拒不执⾏。
4.3保修期后，中标⽅（供应商）涉及维修的所有配件，在保修期外享受整机优
惠；或以⼀定的优惠价格出售买⽅，须列出价格清单。
5软、硬件的升级
保修服务期内供⽅应向⽤户提供设备软件升级服务；与之相关的硬件升级只收取成本。保修服务期后，提供设备软件必要的更新服务，软件功能升级和硬件升级收取成本费。
6 交货⽇期
合同签订后需在9个⽉内交货。局域表面等离子体共振
本次设备采购采⽤综合评分法，具体办法如下：
3）电⼦束⾃动对焦⾼度调节范围：不⼩于±50 m（满⾜得1分）
3）最⼤刻写场范围：1048 m×1048 m（100 kV），写场连续可
调（满⾜得1分，正偏离得2分）
★1）最⼩线宽：≤8 nm（100 kV，100m写场）
≤15 nm（100 kV，1mm写场）
2）拼接精度（直写模式）：
≤±20 nm（100 kV，200m写场）（满⾜得1分，正偏离得2分）≤±30 nm（100 kV，200m写场）（满⾜得1分，正偏离得2分）3）套刻精度（直写模式）：tsmm
≤±20 nm（100 kV，200m写场）（满⾜得1分，正偏离⾄10 nm得1.5分，正偏离⾄5 nm得2分）
≤±30 nm（100 kV，1mm写场）（满⾜得1分，正偏离⾄20 nm得1.5分，正偏离⾄10 nm得2分）
豫公网安备41160202000603
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