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光刻对准

美容笔Course No. 04813190
MEMS DEVICES AND DESIGN, Spring 2004
Lecture17: MEMS Layout Design风叶
Haixia Zhang
Institute of Microelectronics, PKU
OUTLINE
●版图设计内容与方法●光刻原理
●对准标记
蜗轮副●注意事项
器件设计结构的几何尺寸工艺设计制造的工艺流程
对准标记质
量监控图形等
版图设计的主要内容
●结构尺寸来自器件设计的结果
●工艺要求来自工艺设计的结果
土豆炮点火装置
●检测图形加工过程的质量监控
细节切削工具
版图设计的主要方法
●层次化每层对应相应的光刻工艺和掩膜版
扫频信号源
包括结构图形对准标记和工艺监控图形等内容
●单元化可以由若干层组成的一个基本结构的
版图重复利用
●其他正负版阴阳版补偿图形精缩版
初缩版翻版等

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