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一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法[发明专利]

专利名称：一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法

专利类型：发明专利

发明人：纪佳馨，徐鹏飞，吴宝贵，李静

申请号：CN201811184733.X

申请日：20181011

公开号：CN109283788B

公开日：

20220520

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法。首先在光刻头表面制备用于聚束入射光的表面等离子体透镜，然后在盘片基底表面溅射金属反射层，并在金属反射层表面制备光刻胶感光层。利用硬盘飞行原理，使光刻头与光刻胶盘片间形成稳定的20nm以下的飞行间隙。利用金属反射膜层的反射补偿作用，改善表面等离激元聚束光场的强度和分布特性，弥补表面等离激元在光刻方向的能量衰减，从而提高旋转式近场光刻系统的加工结构深宽比，并兼具良好的陡直度，实现了高效率、高分辨率、低成本的纳米加工。

申请人：中国石油大学(华东)

地址：266580 山东省东营市东营区北一路739号

国籍：CN

代理机构：北京国坤专利代理事务所(普通合伙)

代理人：黄耀钧

本文发布于:2024-09-22 11:27:34，感谢您对本站的认可！

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