一种气浴装置及光刻机[发明专利]

专利名称：一种气浴装置及光刻机专利类型：发明专利

发明人：李先明

申请号：CN201811158115.8申请日：20180930

公开号：CN110966916A

公开日：

20200407

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种气浴装置及光刻机，属于光刻机技术领域。该气浴装置包括进风口、处理腔和出风口，所述出风口包括第一通道组和第二通道组，所述第一通道组和所述第二通道组朝靠近干涉仪方向依次设置，其中，所述第一通道组的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组的气浴方向与水平面的夹角W。光刻机包括上述气浴装置。本发明通过设置气浴方向不同的第一通道组和第二通道组，实现对干涉仪中的测量光路和参考光路进行吹扫，使得干涉仪的参考光路也处于气浴温控区，保证了干涉仪测量结果的精确性。

申请人：上海微电子装备(集团)股份有限公司

地址：201203 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号

国籍：CN

代理机构：北京品源专利代理有限公司

代理人：胡彬

本文发布于:2024-09-20 17:42:28，感谢您对本站的认可！

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