三氯化铁溶液中影响铁镍合金蚀刻速率的因素

第28卷第5期2007年5月
腐蚀与防护
00RROSl0N&PRoTECTl0N
V01.28No.5
Mav2007
三氯化铁溶液中影响铁镍合金蚀刻速率的因素
刘飘,堵永国,张为军,芦玉峰,杨娟,马占东
(国防科技大学航天与材料工程学院,长沙410073)
摘要:采用浸渍蚀刻的方法,研究了影响Fex(x—se~s。,Ni。一;合金箔在三氯化铁溶液中蚀刻速率的几个因素,并对蚀刻液的有效蚀刻能力及失效蚀刻液的除镍和再生进行了初步的研究。研究结果表明:氧化还原电位随蚀刻液浓度的增大而升高,氧化还原电位越高,蚀刻反应趋势越大;蚀刻速率随浓度的增加先增大,再下降,且在浓度为40%左右出现极大值;蚀刻液温度越高、pH值越小,
蚀刻速率越大;除镍后的失效蚀刻液经再生后能达到新鲜蚀刻液的90%以上,基本达到再生利用的要求。
关键词:F}Ni合金;蚀刻速率;再生;FeCl3蚀刻废液
中图分类号:TGl72.6;TB34文献标识码:A文章编号:1005—748X(2007)05—0238一04
INFLUENCINGFACTORSONETCHINGRATESOFIRONNICKELALLOY
FOILSINFERRICCHLORIDESOLUTION
LIUPiao,DUYon乎gllo,ZHANGWe¨胁,LUYu_feng,YANGJuaIl,MAZhan-d仰g
(CollegeofAerOspace&MaterialEngineeringNational,UniverSityofDefenseTechn0109y,Changsha410073,China)AbstIIact:SeveralfactorsaffectingtheetchingratesofF岛Q=56~59)Nil一:alloyfoilsin
FeCl3etchantwerestudiedwithanimmersionetchingmethod.Especially,thequantityofF。(。#56—59)Nil一xa110yfoilsbeing1dissolvedinF、eCl3
etchant,regenerationofspentetchantsandreplac咖entofnickelionsinFeCl3wasteetchantswerealsostudied.Theredoxpotentialofetchantsincreasedwithincreasingetchantconcentration.Thehighertheredoxpotential,the
biggertheetchingtrend.AndtheetchingrateincreasedatfirstandthendecreasedwithincreasingconcentratiorL
Themaxofrateapp朗redWhentheconcentrationwasabout40%.Etchingmteincreased试thincreasingtemperatureanddecreasingpH.
Keywords:Fe-Nia110y;Etchingrate;Regeneration;
Fe瓯etchings01ution
作为磁性材料,铁镍合金软磁材料主要用于电磁屏蔽装置、电磁记忆元件、录音录像带以及激光防伪膜等的制作[1-4]。
蚀刻法与其它成型方法相比,具有操作简单、多品种、小批量、周期短等优点[5]。形状复杂和结构细密的电磁元件的精密加工可采用蚀刻的方法,因此,化学蚀刻成型在微电子工业中具有不可缺少的地位[3’6]。铁镍合金蚀刻的介质一般选用低成本、无毒、无挥发的三氯化铁溶液作为蚀刻液[7]。但随着三氯化铁溶液浓度的降低和Ni2+浓度的升高,蚀刻效率下降,因此,必须周期性的把用过的三氯化铁蚀刻液作为废液从系统中排出。含有Ni2+的三氯化铁蚀刻废液几乎没有使用价值,若不经处理排放,不仅造成环境的污染,而且大量的铁、镍作为废弃物对
收稿日期:2006_07一04;修订日期:2006一09—11
·238·资源利用也造成极大的浪费。因此,研究含镍三氯化铁溶液的再生利用,是目前国内外普遍关注的问题[8]。本文研究了蚀刻液浓度、蚀刻液温度、溶液的pH值、溶液中溶Fe_Ni合金量等对F岛(。:se~59)Ni,一。合金箔在三氯化铁溶液中的蚀刻速率的影响,并对三氯化铁蚀刻废液的除镍和再生进行了初步探讨。
1实验部分
1.1材料和仪器
F岛(。:56~59)Nil一。合金箔(简称Fe_Ni合金,下同),长沙英才科技有限公司提供。三氯化铁、浓盐酸、30%过氧化氢溶液、还原铁粉,均为分析纯;蒸馏水;PH孓3C型精密pH计;TMP一2型天平。
1.2试验方法
采用静止浸渍式蚀刻工艺,直接将Fe.Ni合金
 万方数据
试片静止浸渍于三氯化铁溶液中进行蚀刻。三氯化铁溶液的质量百分浓度有20%、30%、35%、40%、45%、50%六种,蚀刻温度分40。C、50℃、60℃三种,蚀刻液质量为100g。
用PHS_3C型精密pH计,以光滑铂电极为正极,饱和甘汞电极(SCE)为负极,测量蚀刻液的氧化还原电位,电位值均为相对SCE电位值。溶液pH值采用PHS-3C型精密pH计和复合电极测量。
用失重法研究Fe_Ni合金的蚀刻速率.将lomm×10mm×10址m的试片静止浸渍于三氯化铁溶液中一定时间后取出,于自来水下冲洗,并用毛刷刷净表面蚀刻产物,再用蒸馏水冲洗,然后用电吹风吹干合金箔表面,于精确度为1mg的电子天平上称其质量。分别以△m、S、f表示F}Ni合金蚀刻前后的质量损失△m(mg)、被蚀刻合金箔的面积S(cm2)、蚀刻时间z(min),则蚀刻速率口(mg·cm_2·min_1)用式(1)进行计算[9]:
砂一磬(1)选取以上实验后溶合金量达到65g/L的溶液作为再生实验的失效蚀刻液,分为A、B两份溶液,在A中加入过量的还原铁粉,B中不加,然后均加入由双氧水(Hz02)和盐酸(HCl)按一定比例混合的溶液,按其中氧化还原反应的化学计量比加入此混合溶液,将溶液中的Fe2+氧化成Fe计,并将溶液浓缩到起始浓度,测其氧化还原电位。
2结果与讨论
2.1时间对氧化还原电位的影响
蚀刻过程中三氯化铁溶液氧化还原电位随时问的变化如图l,蚀刻温度均为50℃。
图1不同浓度蚀刻液的氧化还原电位随时间的变化
从图1可知:不同浓度蚀刻液的氧化还原电位随时间的变化具有相似的规律,即随着蚀刻的进行,氧
化还原电位下降,并且都是在开始时急剧下降,然后逐渐趋于平缓。蚀刻开始的10min内,电位很快下降190mV左右,以后的变化趋势逐渐减少。氧化还原电位下降,从而蚀刻速率变慢。
三氯化铁蚀刻F}Ni合金的主要氧化还原反应如下:
Fe+2FeCl3==3FeCl2(2)Ni+2FeCl3一NiCl2+2FeCl2(3)在25℃时的标准电位查得:
够(Fe3}/Fe2+)一O.771V;
∞(Fe2上/Fe)一一O.44V;
够(Ni2+/Ni2+)一一O.25V。
随着蚀刻过程的进行,体系内三价铁(Fe抖)减少,二价铁(Fe2+)和二价镍(Ni2+)增加,体系氧化还原电位降低,蚀刻速率下降是蚀刻反应的必然趋势,如图1。
同时,从图1中可看出,随溶液浓度增加,氧化还原电位升高。对于一定浓度的三氯化铁溶液,其氧化还原电位基本上为一定值m,11]。因此,通过测定蚀刻液的氧化还原电位,即可知道对应的溶液浓度。
2.2蚀刻速率与蚀刻液浓度的关系
试验研究了样品在溶液温度为50℃条件下蚀刻速率与蚀刻液浓度的关系,图2为样品静止浸渍蚀刻时的试验结果。
p/%
图2Fe—Ni合金蚀刻速率随蚀刻液浓度的变化
图2显示,在低浓度溶液下,随着溶液浓度的增加,蚀刻速率逐步增大,并在浓度为40%左右达到最大值;之后,在高浓度溶液中,蚀刻速率随着溶液浓度的增加反而下降。
可见,在35%~40%的蚀刻液中,蚀刻速率是较大的。在低浓度三氯化铁溶液中的腐蚀过程是阴极扩散控制[9]。在小于35%的蚀刻液中含三氯化铁量较少,氧化还原电位较低,蚀刻过程中Fe3+与Fe2+比值下降迅速,因而蚀刻速率较低;高浓度三氯化铁溶液对Fe—Ni合金的蚀刻是表面吸附控
 万方数据
制[9]。在溶液浓度大于40%的溶液中,虽有较高的氧化还原电位,Fe3十与Fe2+比例降
低较慢,但从金属表面腐蚀下的Fe2+、Ni2+很难扩散离开金属表面,同时Fe3+很难扩散到金属表面,从而金属原子溶解为相应离子的趋势变小,蚀刻速率显著下降。氧化还原电位越高,从热力学角度看,虽有较大的蚀刻潜力和反应趋势,但从动力学角度看,浓度过高反
而降低蚀刻速率。
2.3蚀刻液的pH值对蚀刻速率的影响
蚀刻液的pH值越低,越有利于Fe_Ni合金的蚀刻;pH值太高,三氯化铁水解成氢氧化铁沉淀,失去蚀刻作用[10|。试验粗略比较了添加与未添加盐酸的蚀刻液蚀刻速率的变化情况。发现,两者在开始时差别不大,但随着反应的进行,前者的蚀刻速率比后者下降缓慢。因为溶液中的H+对F}Ni合金中的Fe也具有蚀刻作用,pH值越低,蚀刻作用越大,F}Ni合金的蚀刻是Fe3+与H+共同作用的结果。同时,pH值低,可以抑制Fe3+的水解,对保持蚀刻液的蚀刻能力是有利的。因此在生产中蚀刻液用到一定程度应适当添加一些盐酸。
2.4蚀刻液温度对蚀刻速率的影响
图3表明,蚀刻速率随温度的升高而增大,温度越高,蚀刻速率越大,且在40~60℃范围内,蚀刻速率随温度的变化曲线接近直线。
FpNi合金在三氯化铁蚀刻液中的蚀刻速率一般受下列几个因素的影响r7’8]:①溶液中的Fe3+向Fe_Ni合金表面的扩散;②Fe3+在合金表面与合金发生反应;③反应产物Fe2+和Ni2+进入溶液并发生水化作用;④Fe2+和Ni2+向溶液深处扩散。
其中①、④的扩散过程是影响蚀刻反应的控制步骤。扩散速率与溶液粘度、扩散层厚度有关。当温度升高时,一方面增加了分子的热运动,减小了溶液的粘度,使扩散层厚度减小,同时也增大了扩散系数,加快了反应速率。
2.5蚀刻液中溶量pNi合金量对蚀刻速率的影响三氯化铁蚀刻液中,由于合金箔的不断溶解,溶液的蚀刻能力是下降的,图4表示了蚀刻速度随蚀刻液中溶合金量的变化,其中蚀刻速率是蚀刻3min的平均速率。其中溶合金量为单位体积的三氯化铁蚀刻液中所溶FpNi合金的质量。
试验发现,蚀刻液中所溶合金量低于65g/L时,溶液蚀刻速率随所溶合金量的增加而迅速下降;当蚀刻液中所溶合金量大于65g/l,,蚀刻速率趋于
温度/℃
图3Fe_Ni合金蚀刻速率随温度的变化
D儋‘L
图4陀Ni合金蚀刻速率随蚀刻液中溶合金量的变化一个稳定的低水平。
随着溶液中所溶合金量的增大,溶液中的Fe3+减少并生成Fe2+,同时生成Ni2+,使溶液的蚀刻速率下降。在开始阶段,溶液中Fe2+、Ni2+迅速增加,Fe3+下降很快,从化学反应动力学来看,反应方程式中反应物浓度不断减少,生成物浓度不断增大,从而正向反应速度逐渐减小,宏观表现为蚀刻速率下降较快,最终至一定值。
2.6蚀刻液的除镍和Fe3+再生对蚀刻速率的影响蚀刻一定量的FrNi合金之后,蚀刻液的蚀刻能力有所下降,从图4可知,当蚀刻液中溶合金量达到65g/L以上时,蚀刻速率很小,只为新鲜蚀刻液的20%左右。
试验选择双氧水(Hz02)和盐酸(HCl)的混合溶液作为再生试剂对失效溶液进行再生处理,表1为失效蚀刻液的再生回复结果。试验比较了失效蚀刻液在除镍与未除镍情况下的再生回复结果,发现未进行除镍处理的失效蚀刻液在再生回复后,其蚀刻速率只能恢复到初始溶液的70%左右,而经过了除镍处理的失效蚀刻液,其蚀刻速率能恢复到初始溶液的90%以上,这对降低生产成本和环保有着非常重要的意义。
从理论上分析,蚀刻液失效的主要原因是溶液中Fe3+在氧化F争Ni合金的同时,自身被还原成Fe2+
 万方数据
表1失效蚀刻液的再生回复结果
蚀刻液妒,mV钉,mg/(cHl2·min)新鲜蚀刻液7371.902含镍失效蚀刻液5111.340
去镍失效蚀刻液6671.722
而失去氧化性,因此蚀刻液再生主要是将溶液中的Fe2+重新氧化为Fe3十。再生回复试验中首先将作为再生试剂加入的双氧水与盐酸混合,同时生成,这是一种握氧化剂,不仅能将失效溶液中的Fe2+氧化为Fe3+,而且还能降低溶液的pH值,从而达到再生回复的目的,并且不会带人其它杂质离子。是一种比较理想的再生回复试剂。未除镍失效蚀刻液蚀刻速率未能100%恢复的原因主要是溶液中Ni抖的影响,Ni2+是蚀刻后的生成物,其离子浓度的不断增加抑制了化学反应的正向进行,从而降低了蚀刻速率。而除镍后的蚀刻液未能恢复到新鲜蚀刻液的水平,可能是由于实验操作过程中蚀刻液的损失以及未完全除去的Ni2+,也有可能是由Fe-Ni合金箔中带入的杂质离子影响再生回复;另外,计算中忽略了H+、Cr对F}Ni合金蚀刻的影响也可能是原因之一。所有这些对蚀刻液再生回复和蚀刻速率的影响机制还有待进一步的研究。
3结论
分析了蚀刻液的氧化还原电位、pH值、浓度等与蚀刻速率的影响。特别是采用简便的方法对失效蚀刻液的除镍和再生,达到了再生利用的要求。这对降低成本、提高资源的利用率以及保护环境有着重要的意义。结论如下:
(1)Fe—Ni合金在三氯化铁溶液中的蚀刻速率随蚀刻液中三氯化铁质量百分比浓度的增加先增加,然后下降,并在40%左右出现最大值。
(2)蚀刻液浓度越大,氧化还原电位越高,因而蚀刻液具有较大的蚀刻潜力和反应趋势。
(3)温度越高,蚀刻速率越大。但考虑到抗蚀膜的承受能力,温度宜控制在40~50℃;溶液的pH值越小,对蚀刻越有利。
(4)40%的三氯化铁溶液中,当溶F}Ni合金量达到65g/L时基本失去蚀刻能力。研究发现,除镍后的失效蚀刻液经再生后,蚀刻速率可以达到新鲜蚀刻液的90%以上。
参考文献:
[1]KimJG,HanKH,SongsH,eta1.Magneticprop—ertiesofsputteredsoftmagneticF}Nifilmswith
nia妇alanisotropy[J].ThinS01idFilms,2003,440:54
—59.
[2]TabakovicI,RiemerS,Vas,etal,Effectofmagneticfieldonelectrodereactionsandpropertiesofelectrode—
positedNiFefilms[J].JElectrochemSoc,2003,150
(9):C635一C640.
[3]CzeⅢinskiF,SzpunarJA,ErbU.StructuralandmagneticcharacterizationofnanocrystallineNil20%Fe
penmlloyfihns[J].JoumalofMaterialsScience:Ma—
ter{alsinElectrOnics,2000,11:243—251.
[4]RobertsonN,LuHL,TsangclHighperfomancew矗teheadusingNiFe45/55[J].IEEETransMagn,
1997,33:28—18.
[5]蔡坚,马莒生,汪刚强,等.FeCl。溶液中影响Cu蚀刻速度的因素[刀.中国有金属学报,1998,8(suppl.
1):61—65.
r61Takashil旺The12thintemationaiconferenceons01idstatesensorsrc].ActuatorsandMicrosystems,Bos—
ton,2003:1542—1545.
[7]李陵川,马莒生,唐祥云.用阴极极化的方法衡量Fe—Ni42合金在三氯化铁蚀刻液中的蚀刻速度[J].中国
有金属学报,1997,7(1):112—116.
[8]杨云霞,王燕,张蕾.FeCl3蚀刻废液的除镍研究[J].华东理工大学学报,2001,27(3):320一322.
[9]李志勇,陶志刚,穆道彬,等.含ZrFeNi42合金再结晶及蚀刻性能的研究[J]。功能材料,1999,30(4):364—
365.
[10]陈天玉.不锈钢表面处理技术[M].北京:化学工业出版社,2004:374—380.
[11]黄桂桥.金属在海水中的腐蚀电位研究口].腐蚀与防护,2000,21(1):8一H.
·信息·中国腐蚀与防护学会与美国腐蚀工程师国际协会(NACEInternational)合作,决定于2007年6月13~18日在北京举办NACE国际阴极保护技术培训班。
联系人:张钦京电话:olo-62332201传真:010一82372302E-mail:fsxh@ustb.edu.cn
通讯地址:北京学院路30号中国腐蚀与防护学会:10。083
·241 万方数据
三氯化铁溶液中影响铁镍合金蚀刻速率的因素
作者:刘飘, 堵永国, 张为军, 芦玉峰, 杨娟, 马占东, LIU Piao, DU Yong-guo,
ZHANG Wei-jun, LU Yu-feng, YANG Juan, MA Zhan-dong
作者单位:国防科技大学航天与材料工程学院,长沙,410073
刊名:
腐蚀与防护
英文刊名:CORROSION AND PROTECTION
年,卷(期):2007,28(5)
被引用次数:1次
1.Kim J G.Han K H.Song S H Magnetic properties of sputtered soft magnetic Fe-Ni films with an uniaxial anisotropy 2003
2.Tabakovic I.Riemer S Vas Effect of magnetic field on electrode reactions and properties of electrodeposited NiFe films 2003(09)
3.Czerwinski F.SzpunarJ A.Erb U Structural and magnetic characterization of nanocrystalline Ni-20%Fe permalloy films 2000
4.Robertson N.Lu H L.Tsang C High performance write head using NiFe 45/55 1997
5.蔡坚.马莒生.汪刚强FeCl3溶液中影响Cu蚀刻速度的因素 1998(z1)
6.Takashi M Actuators and Microsystems 2003
7.李陵川.马莒生.唐祥云用阴极极化的方法衡量FeNi42合金在三氯化铁蚀刻液中的蚀刻速度[期刊论文]-中国有金属学报 1997(01)
8.杨云霞.王燕.张蕾FeCl3蚀刻废液的除镍研究[期刊论文]-华东理工大学学报 2001(03)
9.李志勇.陶志刚.穆道彬含ZrFeNi42合金再结晶及蚀刻性能的研究 1999(04)
10.陈天玉不锈钢表面处理技术 2004
11.黄桂桥金属在海水中的腐蚀电位研究[期刊论文]-腐蚀与防护 2000(01)
1.傅玉婷.巴俊洲.蒋亚雄.颜飞雪不锈钢蚀刻速率影响因素研究[期刊论文]-电镀与精饰 2010(2)
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