现如今，社会经济不断发展，科学技术日新月异，社会在迅猛发展的同时民众生活水平也在不断提升。太阳能技术逐步走入千家万户，太阳能多硅晶片的洁净程度，在很大程度上影响着太阳能电池的加工，当然，也在很大程度上决定着太阳能电池的使用寿命。同时，也在一定程度上影响着太阳能技术的使用性能。因此，本文将对太阳能多硅晶片表面污染物去除技术进行分析探讨，并提出切实可行的措施对其进行解决，对太阳能多晶硅片表面污染物去除技术加以重视，确保太阳能技术更好的应用和推广。 關键词：太阳能多晶硅；污物去除技术；策略
1 太阳能多晶硅片表面污染物去除技术开展的重要性
（1）光伏产业发展的必然要求。从当前发展情况来看，我国光伏产业（PV）发展迅猛，在这一时代背景下促使我国太阳能电池年生产量不断提升。为了满足光伏产业对太阳能电池量的需求，多晶硅片太阳能电池便应运而生，并在光伏产业市场中占有重大比重，从而为光伏产业健康持续的发展源源不断地输送电能资源，为社会主义市场经济健康持续的开展提供能
源保障。因此，加大对太阳能多晶硅片表面污染物去除技术的重视力度，具有重要的现实意义。
（2）有利于提高太阳能多硅晶片使用性能。太阳能多硅晶片的洁净程度在太阳能电池后续加工中占有举足轻重的地位。传统的硅片清洗技术基本上采用美国无线电公司研发的RCA清洗技术，为了确保这项清洗技术的开展，需要使用大量的强酸、强碱和强氧化剂等，毫无疑问，清洗成本颇高，同时，也会对社会主义市场经济生态文明发展带来诸多负面影响。光伏产业的深化发展对太阳能多硅晶片清洗技术提出新的要求，其本身要不断改革创新，与时俱进，降低成本费用，促使太阳能多硅晶片使用效率和性能得以有效提升。
2 太阳能多晶硅片表面污染物去除技术存在的问题
（1）清洗步骤繁多污染严重。从当前发展情况来看，我国太阳能电池生产量与日俱增，并发展成为世界太阳能电池生产大国之一。近年来，为了满足社会主义市场经济发展需求，在激烈的市场竞争中占据有利地位，我国国家新能源不断开发并将其作为战略措施对其进行落实，因此，为了使国家新能源战略更好的开展，需要对太阳能多晶硅片表面污染物去除技术进行深入研究，从而提高生态环境保护力度。但是从目前发展情况来看，我国太阳
能多晶硅片表面污染物在祛除时存在诸多问题，清洗步骤相对较多，在清洗过程中也需要消耗大量的化学试剂，这种清洗模式通常会付出高昂的成本代价，与此同时，也在很大程度上破坏着生态环境的稳定性和协调性，没有将科学发展观的理念落到实处，不利于光伏产业健康持续的开展。
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