光学粘合剂层的制作方法

1.本发明涉及光学粘合剂层。

背景技术：

2.显示器面板例如具有包含像素面板、偏光薄膜、触摸面板和覆盖薄膜等的层叠结构。在这种显示器面板的制造过程中，为了将层叠结构所含的要素彼此接合，使用由光学用途的透明的粘合剂形成的粘合剂层(光学粘合剂层)。
3.另一方面，例如对于智能手机用途和平板终端用途，进行了可反复弯折(折叠式)的显示器面板的开发。折叠式显示器面板具体而言，能够在弯曲形状和平坦的非弯曲形状之间反复变形。在这种折叠式显示器面板中，层叠结构中的各要素以可反复弯折的方式制作，这种要素间的接合使用薄的光学粘合剂层。关于折叠式显示器面板等柔性器件用的光学粘合剂层，例如记载于下述专利文献1。
4.现有技术文献
5.专利文献
6.专利文献1：日本特开2018-111754号公报

技术实现要素：

7.发明要解决的问题
8.在折叠式显示器面板的反复弯折的部位，以往，光学粘合剂层容易自作为被粘物的要素剥离。这是因为显示器面板被弯折时，在该弯折部位，剪切应力等应力对光学粘合剂层产生局部作用。另一方面，在折叠式显示器面板中，对反复弯折的部位的光学粘合剂层要求在非弯曲时抑制变形痕迹(会在经过变形后形状未充分恢复的部分产生)。对于折叠式显示器面板用的光学粘合剂层，要求以高水平兼顾显示器弯曲时难以自被粘物剥离、以及抑制非弯曲时的变形痕迹。
9.作为柔性器件，还进行了可卷取(可卷曲)的显示器面板的开发。可卷曲的显示器面板例如能够在整体被卷取后的卷绕形状和整体被展开后的平坦形状之间反复变形。在这种可卷曲的显示器面板中，层叠结构中的各要素以可反复变形的方式制作，这种要素间的接合使用薄的光学粘合剂层。对于可卷曲的显示器面板用的光学粘合剂层，要求以非常高的水平兼顾在显示器的卷绕形状时难以自作为被粘物的要素剥离、以及抑制平坦形状时的变形痕迹。
10.本发明提供适合于柔性器件用途的光学粘合剂层。
11.用于解决问题的方案
12.本发明[1]包括一种光学粘合剂层，其在实施下述第1步～第6步的卷绕试验中的空隙部最大长度l为2mm以下、端缘间距离d为80mm以上。
[0013]
第1步：
[0014]
准备层叠体，所述层叠体在厚度方向上依次具备厚度80μm的聚酰亚胺薄膜、厚度
32μm的偏光板薄膜和厚度125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，前述聚酰亚胺薄膜与前述偏光板薄膜之间、以及前述偏光板薄膜与前述聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜之间分别通过前述光学粘合剂层而接合。
[0015]
第2步：
[0016]
将前述层叠体在50℃和0.5mpa的条件下加热加压处理15分钟。
[0017]
第3步：
[0018]
从前述第2步之后的前述层叠体切出试验片。前述试验片具有长度100mm
×
宽度25mm的尺寸，在前述长度方向的一端具有第1端部且在另一端具有第2端部。
[0019]
第4步：
[0020]
对于截面直径20mm的卷芯，将前述试验片以该试验片的长度方向沿着前述卷芯的圆周方向的方式如下所述地进行卷绕。首先，将前述试验片的前述第1端部的聚酰亚胺薄膜侧借助双面胶带贴附于前述卷芯。接着，以该试验片的前述聚酰亚胺薄膜侧配置于卷绕内侧的方式，将该试验片一边沿前述长度方向拉伸一边在前述卷芯周围卷绕1.628周。接着，在卷绕于前述卷芯的该试验片中，利用粘合带将前述第2端部固定。
[0021]
第5步：
[0022]
将带前述卷芯的前述试验片在23℃的温度条件下保管48小时。
[0023]
第6步：
[0024]
前述第5步之后，在将前述试验片对前述卷芯的卷绕状态解除起5分钟以内，测定前述试验片的端缘间距离d和空隙部最大长度l。前述端缘间距离d为前述试验片的前述长度方向的两端缘间的距离。前述空隙部最大长度l为前述试验片的层间空隙的最大长度。
[0025]
以上卷绕试验中的空隙部最大长度l为2mm以下且端缘间距离d为80mm以上的构成作为柔性器件用的光学粘合剂层，适合于兼顾抑制器件变形时的自被粘物的剥离和抑制非变形时的变形痕迹。因此，本发明的光学粘合剂层适合于柔性器件用途。
[0026]
本发明[2]包括上述[1]所述的光学粘合剂层，其在除了前述第5步中的温度条件为-20℃以外实施与前述第1步～第6步同样的步骤的卷绕试验中的前述空隙部最大长度l为2mm以下，前述端缘间距离d为80mm以上。
[0027]
这种构成对于在低温环境下兼顾抑制器件变形时的自被粘物的剥离和抑制非变形时的变形痕迹而言是优选的。
[0028]
本发明[3]包括上述[1]或[2]所述的光学粘合剂层，其从卷绕于截面直径20mm的卷芯起经过1小时所带来的透过率的变化为5％以下。
[0029]
这种构成对于确保作为柔性器件用途的光学粘合剂层的透明性而言是优选的。
[0030]
本发明[4]包括上述[1]～[3]中任一项所述的光学粘合剂层，其最大厚度与最小厚度之差为3μm以下。
[0031]
这种构成对于在光学粘合剂层所接触的被粘物变形时抑制该被粘物中的应力集中而言是优选的。
[0032]
本发明[5]包括上述[1]～[4]中任一项所述的光学粘合剂层，其具备：低粘合剂层，其具有第1面、以及与该第1面处于相反侧的第2面；第1高粘合剂层，其配置在前述第1面上，在与前述低粘合剂层的相反侧具有第1高粘合面；以及，第2高粘合剂层，其配置在前述第2面上，在与前述低粘合剂层的相反侧具有第2高粘合面，前述第1高粘合面和前述第2高
粘合面各自从贴合于聚酰亚胺薄膜起在23℃下经过30分钟后，在剥离角度180
°
和剥离速度300mm/分钟的条件下对该聚酰亚胺薄膜具有5n/25mm以上的剥离粘合力，前述低粘合剂层在-20℃下的剪切储能模量小于前述高粘合剂层在-20℃下的剪切储能模量。
[0033]
光学粘合剂层中的第1高粘合面和第2高粘合面各自在规定条件下具有5n/25mm以上的剥离粘合力的构成对于通过高粘合面来确保光学粘合剂层对被粘物的良好密合性而言是优选的，因此，对于抑制光学粘合剂层自被粘物的剥离而言是优选的。另外，低粘合剂层在-20℃下的剪切储能模量小于高粘合剂层在-20℃下的剪切储能模量的构成对于确保光学粘合剂层总体的柔软度、确保弯曲变形性而言是优选的。光学粘合剂层越柔软，在贴合有该光学粘合剂层的被粘物以较大的曲率发生变形(上述弯曲变形和卷曲变形等)时，光学粘合剂层越容易追随该被粘物的变形而以大曲率发生变形。光学粘合剂层柔软而容易以大曲率发生变形(弯曲变形性)对于实现使用该光学粘合剂层的柔性器件的良好的反复变形(反复的弯曲变形和卷曲变形等)而言是优选的。
[0034]
本发明[6]包括上述[5]所述的光学粘合剂层。其中，前述低粘合剂层的厚度相对于前述第1高粘合剂层与前述第2高粘合剂层的厚度的总和的比率为1以上。
[0035]
这种构成对于确保光学粘合剂层的柔软性和弯曲性而言是优选的。
[0036]
本发明[7]包括上述[5]或[6]所述的光学粘合剂层，其中，前述低粘合剂层的厚度相对于前述第1高粘合剂层与前述第2高粘合剂层的厚度的总和的比率为30以下。
[0037]
这种构成对于确保光学粘合剂层的刚性、确保良好的处理性而言是优选的。
[0038]
本发明[8]包括上述[1]～[7]中任一项所述的光学粘合剂层，其具有5μm以上且150μm以下的总厚度。
[0039]
光学粘合剂层的总厚度为5μm以上的构成对于确保光学粘合剂层的内聚力、确保高粘合力而言是优选的。光学粘合剂层的总厚度为150μm以下的构成对于确保光学粘合剂层的良好变形性(变形的容易性)而言是优选的。
附图说明
[0040]
图1为本发明的光学粘合剂层的一个实施方式的截面示意图。
[0041]
图2为图1所示的光学粘合剂层具有3层结构时的局部放大截面图。
[0042]
图3为卷绕试验中的层叠体的截面示意图。
[0043]
图4为卷绕试验中的第6步中的试验片的一例的侧视图。
[0044]
图5为卷绕试验中的第6步中的试验片的一例的俯视示意图。
[0045]
图6a～图6c表示本发明的光学粘合剂层的使用方法的一例。图6a表示将光学粘合剂层贴合于第1被粘物的工序，图6b表示借助光学粘合剂层将第1被粘物与第2被粘物接合的工序，图6c表示熟化工序。
[0046]
附图标记说明
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光学粘合片
[0048]
10
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光学粘合剂层
[0049]
11
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低粘合剂层
[0050]
11a
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第1面
[0051]
11b
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第2面
[0052]
12a
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高粘合剂层(第1高粘合剂层)
[0053]
12a
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高粘合面(第1高粘合面)
[0054]
12b
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高粘合剂层(第2高粘合剂层)
[0055]
12b
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高粘合面(第2高粘合面)
[0056]hꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
厚度方向
[0057]
l1、l2 剥离薄膜
[0058]
21
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第1构件
[0059]
22
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第2构件
具体实施方式
[0060]
作为本发明的光学粘合剂层的一个实施方式的光学粘合剂层10如图1所示地具有规定厚度的片形状，沿着与厚度方向h正交的方向(面方向)扩展。图1例示性地示出光学粘合剂层10以光学粘合片s的形式制作且在该片的两面贴合有剥离薄膜l1、l2的状态。
[0061]
光学粘合剂层10具有单层结构或多层结构(图1中省略图示)。图2为3层结构的光学粘合剂层10的一例的局部放大截面图。图2所示的光学粘合剂层10具备低粘合剂层11和两个高粘合剂层12(12a、12b)。具体而言，光学粘合剂层10为在厚度方向h上依次具备高粘合剂层12a、低粘合剂层11和高粘合剂层12b的多层粘合剂层。高粘合剂层12为表面粘合力相对较强的粘合剂层，低粘合剂层11为表面粘合力相对较低的粘合剂层。低粘合剂层11具有第1面11a、以及与第1面11a处于相反侧的第2面11b。高粘合剂层12a(第1高粘合剂层)配置在第1面11a上。高粘合剂层12a在与低粘合剂层11的相反侧具有高粘合面12a(第1高粘合面)。高粘合面12a为光学粘合剂层10的一个粘合面。高粘合剂层12b(第2高粘合剂层)配置在第2面11b上。高粘合剂层12b在与低粘合剂层11的相反侧具有高粘合面12b(第2高粘合面)。高粘合剂层12b的高粘合面12b为光学粘合剂层10的另一个粘合面。高粘合剂层12a的高粘合面12a的粘合力与高粘合剂层12b的高粘合面12b的粘合力可以相同也可以不同。
[0062]
这种光学粘合剂层10为配置于柔性器件中的光通过部位的透明粘合剂层。作为柔性器件，例如可列举出柔性显示器面板。柔性显示器面板例如具有包含像素面板、触摸面板、偏光薄膜和覆盖薄膜等的层叠结构。作为柔性显示器面板，例如可列举出折叠式显示器面板和可卷曲的显示器面板。光学粘合剂层10例如在柔性显示器面板的制造过程中用于前述层叠结构所含的要素彼此的接合。
[0063]
光学粘合剂层10在实施下述第1步～第6步的卷绕试验(第1卷绕试验)中的空隙部最大长度l为2mm以下、端缘间距离d为80mm以上。
[0064]
第1步：
[0065]
准备图3所示的层叠构成的层叠体w。层叠体w在厚度方向h上依次具备厚度80μm的聚酰亚胺薄膜f1、厚度32μm的偏光板薄膜f2和厚度125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜f3。层叠体w中，聚酰亚胺薄膜f1与偏光板薄膜f2之间、以及偏光板薄膜f2与聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜f3之间分别通过光学粘合剂层10接合。
[0066]
第2步：
[0067]
将层叠体w在50℃和0.5mpa的条件下加热加压处理15分钟。
[0068]
第3步：
[0069]
从第2步之后的层叠体w切出试验片。试验片z具有长度100mm
×
宽度25mm的尺寸，在长度方向的一端具有第1端部e1且在另一端具有第2端部e2。
[0070]
第4步：
[0071]
对于截面直径20mm的卷芯，将试验片z以该试验片z的长度方向沿着卷芯的圆周方向的方式如下所述地进行卷绕。首先，将试验片z的第1端部e1的聚酰亚胺薄膜f1侧借助双面胶带贴附于卷芯。接着，以该试验片z的聚酰亚胺薄膜f1侧配置于卷绕内侧的方式，将该试验片z一边沿长度方向拉伸一边在卷芯周围卷绕1.628周(以卷芯与试验片z之间无间隙、且在卷芯径向上试验片z间无间隙的方式将试验片z在卷芯上进行卷绕)。接着，在卷绕于卷芯的该试验片z中，利用粘合带将第2端部e2固定。
[0072]
第5步：
[0073]
将带卷芯的试验片z在23℃的温度条件下保管48小时。
[0074]
第6步：
[0075]
第5步之后，在将试验片z对卷芯的卷绕状态解除起5分钟以内，测定试验片z的端缘间距离d和空隙部最大长度l。端缘间距离d如图4所示，为试验片z的长度方向的两端缘间的距离。空隙部最大长度l为试验片z的层间空隙v(示于图5)的最大长度。试验片的层间空隙v包括：试验片z中的薄膜f1、f2间的光学粘合剂层10(第1光学粘合剂层10)与薄膜f1、f2的界面产生的空隙，第1光学粘合剂层10内部产生的空隙，薄膜f2、f3间的光学粘合剂层10(第2光学粘合剂层10)与薄膜f2、f3的界面产生的空隙，以及第2光学粘合剂层10内部产生的空隙。层间空隙v的最大长度具体而言是指产生了层间空隙v时的、与平坦状态下的试验片z的该空隙v相关的最大尺寸(俯视最大尺寸)。未产生层间空隙v时，空隙部最大长度l为0mm。本步骤中，优选在端缘间距离d的测定后测定空隙部最大长度l。
[0076]
以上的卷绕试验中的空隙部最大长度l为2mm以下且端缘间距离d为80mm以上的构成作为柔性器件用的光学粘合剂层10适合于兼顾抑制器件变形时的自被粘物的剥离和抑制非变形时的变形痕迹。因此，光学粘合剂层10适合于柔性器件用途。从抑制剥离的观点出发，空隙部最大长度l优选为1.5mm以下、更优选为1.0mm以下、进一步优选为0.5mm以下。产生了从试验片z的端缘起延伸的空隙v(例如从试验片z的长度方向的一端缘起向另一端缘侧延伸的空隙v)时，该空隙v的长度优选为1.5mm以下、更优选为1.0mm以下、进一步优选为0.5mm以下。产生了未达到试验片z的端缘的空隙v时，该空隙v的长度优选为1.5mm以下、更优选为1.0mm以下、进一步优选为0.5mm以下。另外，从抑制变形痕迹的观点出发，端缘间距离d优选为82mm以上、更优选为85mm以上、进一步优选为90mm以上。
[0077]
光学粘合剂层10在除了第5步中的保管温度条件为-20℃以外实施与第1卷绕试验同样的第1步～第6步的第2卷绕试验中的空隙部最大长度l优选为2mm以下、更优选为1.5mm以下、进一步优选为1.0mm以下、特别优选为0.5mm以下，且端缘间距离d优选为80mm以上、更优选为82mm以上、进一步优选为85mm以上、特别优选为90mm以上。这种构成对于在低温环境下兼顾抑制器件变形时的自被粘物的剥离和抑制非变形时的变形痕迹而言是优选的。
[0078]
从将光学粘合剂层10卷绕于截面直径20mm的卷芯起经过1小时所带来的光学粘合剂层10的透过率的变化优选为5％以下、更优选为4％以下、进一步优选为3％以下。这种构成适合于在光学粘合剂层10中确保作为柔性器件用途的光学粘合剂层的透明性。光学粘合剂层10的上述透过率变化具体而言可以通过实施例相关的后述方法进行测定。
[0079]
在光学粘合剂层10中，最大厚度与最小厚度之差优选为3μm以下、更优选为2μm以下、进一步优选为1μm以下。这种构成对于在光学粘合剂层10所接触的被粘物的变形时抑制该被粘物中的应力集中而言是优选的。另外，与厚度之差相关的该构成从在层叠结构中具有光学粘合剂层10的柔性器件(光学器件)的辨识性的观点出发也是优选的。
[0080]
光学粘合剂层10优选为图2所示的多层结构。这种构成会在光学粘合剂层10所含的各粘合剂层中分担功能，对于实现剥离抑制性与变形痕迹抑制性的上述兼顾而言是优选的。
[0081]
高粘合面12a、12b各自从将光学粘合剂层10贴合于聚酰亚胺薄膜起在23℃下经过30分钟后，在剥离角度180
°
和剥离速度300mm/分钟的条件下，对该聚酰亚胺薄膜优选具有5n/25mm以上的剥离粘合力f。光学粘合剂层10对被粘物的贴合是通过在23℃的环境下使2kg的辊往复1次的加重进行的贴合。从确保对被粘物的良好密合性的观点出发，剥离粘合力f优选为7n/25mm以上、更优选为9n/25mm以上、进一步优选为11n/25mm以上。剥离粘合力f例如为30n/25mm以下。作为剥离粘合力f的调整方法，例如可列举出粘合剂层中的基础聚合物的种类的选择、分子量的调整、以及配混量的调整。基础聚合物的种类的选择包括形成基础聚合物的单体的组成的调整。作为剥离粘合力f的调整方法，还可列举出粘合剂层中的除基础聚合物以外的成分的种类的选择、以及该成分的配混量的调整。作为该成分，可列举出交联剂、硅烷偶联剂和低聚物。另外，作为多层结构的光学粘合剂层10的剥离粘合力f的调整方法，还可列举出光学粘合剂层10所含的各粘合剂层的厚度的调整。
[0082]
低粘合剂层11在-20℃下的剪切储能模量优选小于高粘合剂层在-20℃下的剪切储能模量。这种构成对于确保光学粘合剂层10总体的柔软度、确保弯曲变形性而言是优选的。光学粘合剂层10越柔软，在贴合有光学粘合剂层10的被粘物以较大的曲率发生变形(上述弯曲变形和卷曲变形等)时，光学粘合剂层10越容易追随该被粘物的变形而以大曲率发生变形。光学粘合剂层10柔软而容易以大曲率发生变形(弯曲变形性)对于实现使用光学粘合剂层10的柔性器件的良好的反复变形(反复的弯曲变形和卷曲变形等)而言是优选的。
[0083]
光学粘合剂层10在-20℃下的剪切储能模量优选为180kpa以下、更优选为150kpa以下、进一步优选为130kpa以下、特别优选为100kpa以下。这种构成在光学粘合剂层10中，对于确保适合于柔性器件的柔软性和弯曲性而言是优选的。-20℃下的剪切储能模量优选为30kpa以上、更优选为40kpa以上、进一步优选为50kpa以上、特别优选为60kpa以上。优选的是，对于确保光学粘合剂层10的内聚力而言是优选的。光学粘合剂层10的剪切储能模量可以利用动态粘弹性测定装置来测定。在该测定中，将测定模式设为剪切模式，将测定温度范围设为-60℃～150℃，将升温速度设为5℃/分钟，将频率设为1hz。具体而言，如实施例相关的后述说明。作为粘合剂层的剪切储能模量的调整方法，例如可列举出粘合剂层中的基础聚合物的种类的选择、分子量的调整和配混量的调整、以及使前述基础聚合物交联的交联剂的种类的选择和配混量的调整。基础聚合物的种类的选择包括形成基础聚合物的单体的组成的调整。具体而言，基础聚合物的种类的选择包括基础聚合物中的主链的种类的选择、以及官能团的种类的选择和量的调整。另外，光学粘合剂层10具有多层结构时，作为光学粘合剂层10的剪切储能模量的调整方法，例如可列举出光学粘合剂层10中的各粘合剂层的剪切储能模量的调整、以及各粘合剂层的厚度的调整。
[0084]
低粘合剂层11的厚度相对于高粘合剂层12a、12b的厚度的总和的比率优选为1以
上、更优选为3以上、进一步优选为6以上、特别优选为9以上。这种构成对于确保光学粘合剂层10的上述柔软性和弯曲性而言是优选的。
[0085]
低粘合剂层11的厚度相对于高粘合剂层12a、12b的厚度的总和的比率优选为30以下、进一步优选为25以下、更优选为20以下。这种构成对于确保光学粘合剂层10的刚性、确保良好的处理性而言是优选的。
[0086]
低粘合剂层11的厚度优选为3μm以上、进一步优选为10μm以上、更优选为15μm以上。这种构成对于确保光学粘合剂层10的柔软性和弯曲性而言是优选的。低粘合剂层11的厚度优选为100μm以下、更优选为70μm以下、进一步优选为50μm以下。这种构成对于确保光学粘合剂层10的刚性、确保良好的处理性而言是优选的。
[0087]
单一的高粘合剂层12的厚度优选为0.1μm以上、进一步优选为0.5μm以上、更优选为1μm以上。这种构成对于确保高粘合剂层12的内聚力、确保高粘合力而言是优选的。单一的高粘合剂层12的厚度例如为30μm以下。
[0088]
从确保内聚力、确保高粘合力的观点出发，光学粘合剂层10的总厚度优选为5μm以上、进一步优选为10μm以上、更优选为15μm以上。从确保良好的变形性(变形的容易性)的观点出发，光学粘合剂层10的总厚度优选为150μm以下、进一步优选为100μm以下、更优选为50μm以下。
[0089]
在光学粘合剂层10中，最大厚度与最小厚度之差优选为3μm以下、更优选为2μm以下、进一步优选为1μm以下。这种构成对于在光学粘合剂层10所接触的被粘物变形时抑制该被粘物中的应力集中而言是优选的。另外，与厚度之差相关的该构成从在层叠结构中具有光学粘合剂层10的柔性器件(光学器件)的辨识性的观点出发也是优选的。
[0090]
从将光学粘合剂层10卷绕于截面直径20mm的卷芯起经过1小时所带来的光学粘合剂层10的透过率的变化优选为5％以下、更优选为4％以下、进一步优选为3％以下。这种构成适合于确保作为柔性器件用途的光学粘合剂层的透明性。光学粘合剂层10的上述透过率变化具体而言，可以通过实施例相关的后述方法进行测定。
[0091]
光学粘合剂层10为由粘合剂组合物形成的压敏粘接剂层。光学粘合剂层10至少包含基础聚合物。在光学粘合剂层10如图2所示地具有低粘合剂层11和高粘合剂层12a、12b时，各粘合剂层为由粘合剂组合物形成的压敏粘接剂层。低粘合剂层11具有与高粘合剂层12a、12b不同的组成。高粘合剂层12a与高粘合剂层12b可以具有相同的组成，也可以具有不同的组成。各粘合剂层至少包含基础聚合物。
[0092]
基础聚合物是在粘合剂层中显现粘合性的粘合成分。作为基础聚合物，例如可列举出丙烯酸系聚合物、有机硅聚合物、聚酯聚合物、聚氨酯聚合物、聚酰胺聚合物、聚乙烯醚聚合物、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃聚合物、环氧聚合物、氟聚合物、以及橡胶聚合物。基础聚合物可以单独使用，也可以组合使用两种以上。从确保粘合剂层的良好透明性和粘合性的观点出发，作为基础聚合物，优选使用丙烯酸系聚合物。
[0093]
丙烯酸系聚合物是以50质量％以上的比率包含(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分的共聚物。“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。
[0094]
作为(甲基)丙烯酸烷基酯，可适宜地使用烷基的碳数为1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可以具有直链状或支链状的烷基，也可以具有脂环式烷基等环状的烷基。
[0095]
作为具有直链状或支链状的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯(即(甲基)丙烯酸月桂酯)、(甲基)丙烯酸异十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸异十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸鲸蜡酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸异十八烷基酯、以及(甲基)丙烯酸十九烷基酯。
[0096]
作为具有脂环式烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可列举出(甲基)丙烯酸环烷基酯、具有二环式的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯、以及具有三环以上的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯。作为(甲基)丙烯酸环烷基酯，例如可列举出(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸环庚酯、以及(甲基)丙烯酸环辛酯。作为具有二环式的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯，例如可列举出(甲基)丙烯酸异冰片酯。作为具有三环以上的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯，例如可列举出(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊基氧乙酯、(甲基)丙烯酸三环戊基酯、(甲基)丙烯酸1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、以及(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯。
[0097]
作为(甲基)丙烯酸烷基酯，优选使用具有碳数3～15的烷基的丙烯酸烷基酯，更优选使用选自由丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯和丙烯酸十二烷基酯组成的组中的至少一种。作为低粘合剂层11用的基础聚合物中的(甲基)丙烯酸烷基酯，优选使用选自由丙烯酸2-乙基己酯和丙烯酸十二烷基酯组成的组中的至少一种。作为高粘合剂层12用的基础聚合物中的(甲基)丙烯酸烷基酯，优选使用丙烯酸正丁酯。
[0098]
从在粘合剂层中适当地显现粘合性等基本特性的观点出发，单体成分中的(甲基)丙烯酸烷基酯的比率优选为50质量％以上、更优选为70质量％以上、进一步优选为90质量％以上、特别优选为94质量％以上。该比率例如为99质量％以下。
[0099]
单体成分可以包含能够与(甲基)丙烯酸烷基酯共聚的共聚性单体。作为共聚性单体，例如可列举出具有极性基团的单体。作为含极性基团的单体，例如可列举出含羟基单体、含羧基单体和具有含氮原子的环的单体。含极性基团的单体有助于交联点向丙烯酸系聚合物的导入、丙烯酸系聚合物的内聚力的确保等丙烯酸系聚合物的改性。
[0100]
作为含羟基单体，例如可列举出(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基月桂酯、以及(甲基)丙烯酸(4-羟基甲基环己基)甲酯。作为含羟基单体，优选使用选自由丙烯酸4-羟基丁酯和丙烯酸2-羟基乙酯组成的组中的至少一种。
[0101]
从向丙烯酸系聚合物导入交联结构和确保粘合剂层的内聚力的观点出发，单体成分中的含羟基单体的比率优选为0.1质量％以上、更优选为0.5质量％以上、进一步优选为0.8质量％以上。从调整丙烯酸系聚合物的极性(与粘合剂层中的各种添加剂成分和丙烯酸系聚合物的相容性相关)的观点出发，该比率优选为20质量％以下、更优选为10质量％以下。
[0102]
作为含羧基单体，例如可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸、以及异巴豆酸。
[0103]
从向丙烯酸系聚合物导入交联结构、确保粘合剂层的内聚力、以及确保粘合剂层的对被粘物密合力的观点出发，单体成分中的含羧基单体的比率优选为0.1质量％以上、更优选为0.5质量％以上、进一步优选为0.8质量％以上。从调整丙烯酸系聚合物的玻璃化转变温度和避免酸造成的被粘物的腐蚀风险的观点出发，该比率优选为30质量％以下、更优选为20质量％以下。
[0104]
为了防止柔性器件中的电极等金属要素因酸成分而发生腐蚀，粘合剂层优选酸的含量小。另外，粘合剂层在用于偏光薄膜的粘接时，为了抑制酸成分造成的聚乙烯醇系偏光件的多烯化，粘合剂层优选酸的含量小。这种无酸的粘合剂层中，有机酸单体(例如(甲基)丙烯酸和含羧基单体)的含量优选为100ppm以下、更优选为70ppm以下、进一步优选为50ppm以下。粘合剂层的有机酸单体含量通过如下方法求出：将粘合剂层浸渍在纯水中，将通过在100℃下加热45分钟而提取至水中的酸单体用离子谱进行定量。
[0105]
从无酸的观点出发，粘合剂层中的基础聚合物优选实质上不含有机酸单体作为单体成分。从无酸的观点出发，单体成分中的有机酸单体的比率优选为0.5质量％以下、更优选为0.1质量％以下、进一步优选为0.05质量％，理想的是0质量％。
[0106]
作为具有含氮原子的环的单体，例如可列举出n-乙烯基-2-吡咯烷酮、n-甲基乙烯基吡咯烷酮、n-乙烯基吡啶、n-乙烯基酮、n-乙烯基嘧啶、n-乙烯基哌嗪、n-乙烯基吡嗪、n-乙烯基吡咯、n-乙烯基咪唑、n-乙烯基噁唑、n-(甲基)丙烯酰基-2-吡咯烷酮、n-(甲基)丙烯酰基、n-(甲基)丙烯酰基吡咯烷、n-乙烯基吗啉、n-乙烯基-3-吗啉酮、n-乙烯基-2-己内酰胺、n-乙烯基-1,3-噁嗪-2-酮、n-乙烯基-3,5-吗啉二酮、n-乙烯基吡唑、n-乙烯基异噁唑、n-乙烯基噻唑、以及n-乙烯基异噻唑。作为具有含氮原子的环的单体，优选使用n-乙烯基-2-吡咯烷酮。
[0107]
从确保粘合剂层的内聚力、以及确保粘合剂层的对被粘物密合力的观点出发，单体成分中的具有含氮原子的环的单体的比率优选为0.1质量％以上、更优选为0.3质量％以上、进一步优选为0.55质量％以上。从调整丙烯酸系聚合物的玻璃化转变温度、以及调整丙烯酸系聚合物的极性(与粘合剂层中的各种添加剂成分和丙烯酸系聚合物的相容性相关)的观点出发，该比率优选为30质量％以下、更优选为20质量％以下。
[0108]
单体成分可以包含其他共聚性单体。作为其他共聚性单体，例如可列举出酸酐单体、含磺酸基单体、含磷酸基单体、含环氧基单体、含氰基单体、含烷氧基单体和芳香族乙烯基化合物。这些其他共聚性单体可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
[0109]
基础聚合物优选具有交联结构。作为向基础聚合物中导入交联结构的方法，可列举出：在粘合剂组合物中配混具有能够与交联剂反应的官能团的基础聚合物和交联剂，使基础聚合物与交联剂在粘合剂层中反应的方法(第1方法)；以及，在形成基础聚合物的单体成分中包含多官能单体，通过该单体成分的聚合形成在聚合物链中导入了支链结构(交联结构)的基础聚合物的方法(第2方法)。这些方法可以组合使用。
[0110]
作为上述第1方法中使用的交联剂，例如可列举出与基础聚合物所含的官能团(羟基和羧基等)反应的化合物。作为这种交联剂，例如可列举出异氰酸酯交联剂、过氧化物交联剂、环氧交联剂、噁唑啉交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、以及金属螯合交联剂。
交联剂可以单独使用，也可以组合使用两种以上。作为交联剂，从与基础聚合物中的羟基和羧基的反应性高、交联结构的导入容易的方面来看，优选使用异氰酸酯交联剂、过氧化物交联剂和环氧交联剂。
[0111]
作为异氰酸酯交联剂，例如可列举出甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、四甲基苯二亚甲基二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、三苯基甲烷三异氰酸酯、以及多亚甲基多苯基异氰酸酯。另外，作为异氰酸酯交联剂，还可列举出这些异氰酸酯的衍生物。作为该异氰酸酯衍生物，例如可列举出异氰脲酸酯改性体和多元醇改性体。作为异氰酸酯交联剂的市售品，例如可列举出coronate l(甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物，东曹株式会社制)、coronate hl(六亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物，东曹株式会社制)、coronate hx(六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体，东曹株式会社制)、takenate d110n(苯二亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物，三井化学制)、以及takenate600(1,3-双(异氰酸根合甲基)环己烷，三井化学制)。
[0112]
作为过氧化物交联剂，可列举出过氧化二苯甲酰、过氧化二碳酸二(2-乙基己酯)、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己酯)、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化特戊酸叔己酯、以及过氧化特戊酸叔丁酯。
[0113]
作为环氧交联剂，可列举出双酚a、环氧氯丙烷型的环氧树脂、乙二醇缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、1,6-己二醇缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、二缩水甘油基苯胺、二胺缩水甘油胺、n,n,n',n'-四缩水甘油基间苯二甲胺、以及1,3-双(n,n-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷。
[0114]
异氰酸酯交联剂(特别是二官能的异氰酸酯交联剂)和过氧化物交联剂从确保粘合剂层的适度柔软性(由此而来的弯曲性)的观点出发是优选的。异氰酸酯交联剂(特别是三官能的异氰酸酯交联剂)从确保粘合剂层的耐久性的观点出发是优选的。在基础聚合物中，二官能异氰酸酯交联剂和过氧化物交联剂会形成更柔软的二维交联，而三官能异氰酸酯交联剂会形成更牢固的三维交联。从兼顾粘合剂层的耐久性和柔软性的观点出发，优选组合使用三官能异氰酸酯交联剂与过氧化物交联剂和/或二官能异氰酸酯交联剂。
[0115]
从确保粘合剂层的内聚力的观点出发，相对于基础聚合物100质量份，交联剂的配混量例如为0.01质量份以上、优选为0.05质量份以上、更优选为0.07质量份以上。在粘合剂层中，从确保良好的粘性的观点出发，交联剂相对于基础聚合物100质量份的配混量例如为10质量份以下、优选为5质量份以下、更优选为3质量份以下。
[0116]
上述第2方法中，单体成分(包含用于导入交联结构的多官能单体和其他单体)可以一次性进行聚合，也可以以多阶段进行聚合。在多阶段聚合的方法中，首先，使用于形成基础聚合物的单官能单体进行聚合(预聚合)，由此制备含有部分聚合物(低聚合度的聚合物与未反应的单体的混合物)的预聚物组合物。接着，在预聚物组合物中添加多官能单体后，使部分聚合物与多官能单体进行聚合(正式聚合)。
[0117]
作为多官能单体，例如可列举出在1分子中含有2个以上烯属不饱和双键的多官能(甲基)丙烯酸酯。作为多官能单体，从能够通过活性能量射线聚合(光聚合)而导入交联结构的观点出发，优选为多官能丙烯酸酯。
[0118]
作为多官能(甲基)丙烯酸酯，可列举出二官能(甲基)丙烯酸酯、三官能(甲基)丙
烯酸酯、以及四官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯。
[0119]
作为二官能(甲基)丙烯酸酯，例如可列举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、新戊基二醇二(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性二(甲基)丙烯酸酯、二环戊二烯基二丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酰基异氰脲酸酯、以及环氧烷改性双酚二(甲基)丙烯酸酯。
[0120]
作为三官能(甲基)丙烯酸酯，例如可列举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸酯、以及三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯。
[0121]
作为四官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可列举出双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、二单羟基五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二五丙烯酸酯、以及二六(甲基)丙烯酸酯。
[0122]
多官能单体的分子量优选为1500以下、更优选为1000以下。另外，多官能单体的官能团当量(g/eq)优选为50以上、更优选为70以上、进一步优选为80以上。该官能团当量优选为500以下、更优选为300以下、进一步优选为200以下。这些构成从在基础聚合物中通过交联结构的导入而适当地调整粘弹性(例如储能模量和损耗角正切)的观点出发是优选的。
[0123]
丙烯酸系聚合物可以通过使上述单体成分聚合而形成。作为聚合方法，例如可列举出溶液聚合、活性能量射线聚合(例如uv聚合)、本体聚合、以及乳液聚合。从粘合剂层的透明性、耐水性和成本的观点出发，优选为溶液聚合和uv聚合。作为溶液聚合的溶剂，例如可使用乙酸乙酯和甲苯。另外，作为聚合的引发剂，例如可使用热聚合引发剂和光聚合引发剂。聚合引发剂的使用量相对于单体成分100质量份例如为0.05质量份以上，另外，例如为1质量份以下。
[0124]
作为热聚合引发剂，例如可列举出偶氮聚合引发剂和过氧化物聚合引发剂。作为偶氮聚合引发剂，例如可列举出2,2'-偶氮二异、2,2'-偶氮双-2-甲基、2,2'-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4'-偶氮双-4-氰基戊酸、偶氮双异戊腈、2,2'-偶氮双(2-脒基丙烷)、2,2'-偶氮双[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]、2,2'-偶氮双(2-甲基丙脒)二硫酸盐、以及2,2'-偶氮双(n,n'-二亚甲基异丁基脒)。作为过氧化物聚合引发剂，例如可列举出过氧化二苯甲酰、过氧化马来酸叔丁酯、以及过氧化月桂酰。
[0125]
作为光聚合引发剂，例如可列举出苯偶姻醚系光聚合引发剂、苯乙酮系光聚合引发剂、α-酮醇系光聚合引发剂、芳香族磺酰氯系光聚合引发剂、光活性肟系光聚合引发剂、苯偶姻系光聚合引发剂、苯偶酰系光聚合引发剂、二苯甲酮系光聚合引发剂、缩酮系光聚合引发剂、噻吨酮系光聚合引发剂、和酰基氧化膦系光聚合引发剂。
[0126]
在聚合中，出于分子量调整等目的，也可以使用链转移剂和/或阻聚剂(聚合延迟剂)。作为链转移剂，可列举出α-硫代甘油、月桂基硫醇、缩水甘油基硫醇、巯基乙酸(mercaptoacetic acid)、2-巯基乙醇、巯基乙酸(thioglycolic acid)、巯基乙酸2-乙基己酯、2,3-二巯基-1-丙醇、以及α-甲基苯乙烯二聚体。
[0127]
通过聚合引发剂的种类和/或量的调整，能够调整基础聚合物的分子量。例如，在自由基聚合中，聚合引发剂的量越多，反应体系的自由基浓度越高，因此有反应开始点的密度越高、形成的基础聚合物的分子量越小的倾向。与此相对，聚合引发剂的量越少，反应开始点的密度越低，因此有聚合物链越容易伸长、形成的基础聚合物分子量越大的倾向。
[0128]
从确保粘合剂层的内聚力的观点出发，基础聚合物的重均分子量优选为10万以上、更优选为30万以上、进一步优选为50万以上。该重均分子量优选为500万以下、更优选为300万以下、进一步优选为200万以下。基础聚合物的重均分子量利用凝胶渗透谱(gpc)测定，通过聚苯乙烯换算而算出。
[0129]
基础聚合物的玻璃化转变温度(tg)优选为0℃以下、更优选为-10℃以下、进一步优选为-20℃以下。该玻璃化转变温度例如为-80℃以上。低粘合剂层11所含的基础聚合物的玻璃化转变温度(第1玻璃化转变温度)优选为0℃以下、更优选为-10℃以下、进一步优选为-20℃以下，另外，例如为-80℃以上。高粘合剂层12所含的基础聚合物的玻璃化转变温度(第2玻璃化转变温度)高于低粘合剂层11用的基础聚合物的第1玻璃化转变温度。第2玻璃化转变温度只要高于第1玻璃化转变温度，则优选为-80℃以上、更优选为-75℃以上、进一步优选为-70℃以上，另外，例如为10℃以下。
[0130]
关于基础聚合物的玻璃化转变温度(tg)，可以使用基于下述fox式而求出的玻璃化转变温度(理论值)。fox式是聚合物的玻璃化转变温度tg与构成该聚合物的单体的均聚物的玻璃化转变温度tgi之间的关系式。下述fox式中，tg表示聚合物的玻璃化转变温度(℃)，wi表示构成该聚合物的单体i的重量分数，tgi表示由单体i形成的均聚物的玻璃化转变温度(℃)。关于均聚物的玻璃化转变温度，可以使用文献值。例如在“polymer handbook”(第4版，john wiley&sons,inc.,1999年)和“新高分子文库7涂料用合成树脂入门”(北岗协三著，高分子刊行会，1995年)中列举了各种均聚物的玻璃化转变温度。另一方面，关于单体的均聚物的玻璃化转变温度，也可以通过日本特开2007-51271号公报中具体记载的方法求出。
[0131]
fox式1/(273+tg)＝σ[wi/(273+tgi)]
[0132]
作为各粘合剂层的上述剥离粘合力和/或上述剪切储能模量的调整方法，例如，该粘合剂层内的基础聚合物的分子量的调整、玻璃化转变温度的调整和交联度的调整是有效的。基础聚合物的分子量越大，有粘合剂层越高弹性模量化的倾向，另外，有越高粘合力化的倾向。基础聚合物的玻璃化转变温度越小，有粘合剂层越低弹性模量化的倾向，另外，有越低粘合力化的倾向。基础聚合物的交联度越高，有粘合剂层越高弹性模量化的倾向。
[0133]
另外，粘合剂层的粘合力以在基础聚合物的规定的交联度下具有极大值的方式根据交联度而变化。具体而言如下所述。基础聚合物的交联度越高，直至一定程度的交联度为止，有粘合剂层内部的内聚力变高、粘合剂层高粘合力化的倾向。超过前述一定程度的交联度时，基础聚合物的交联度越高，粘合剂层过于高弹性化而有低粘合力化的倾向。
[0134]
形成低粘合剂层11所含的基础聚合物的单体成分优选包含具有碳数6～15的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯和含羟基单体，更优选包含丙烯酸2-乙基己酯(2eha)、丙烯酸月桂酯(la)和丙烯酸4-羟基丁酯(4hba)。
[0135]
形成高粘合剂层12所含的基础聚合物的单体成分优选包含具有碳数4～12的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯、含羟基单体和含羧基单体，更优选包含丙烯酸丁酯(ba)、丙烯酸2-乙基己酯(2eha)和丙烯酸(aa)。另外，形成高粘合剂层12所含的基础聚合物的单体成分中包含的(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基的碳数优选小于形成低粘合剂层11所含的基础聚合物的单体成分中包含的(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基的碳数。
[0136]
粘合剂组合物可以在基础聚合物的基础上含有一种或两种以上的低聚物。使用丙
烯酸系聚合物作为基础聚合物时，优选使用丙烯酸系低聚物作为低聚物。丙烯酸系低聚物是以50质量％以上的比率包含(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分的共聚物，重均分子量例如为1000以上且30000以下。
[0137]
丙烯酸系低聚物的玻璃化转变温度优选为60℃以上、更优选为80℃以上、进一步优选为100℃以上、特别优选为110℃以上。丙烯酸系低聚物的玻璃化转变温度例如为200℃以下、优选为180℃以下、更优选为160℃以下。通过导入有交联结构的低tg的丙烯酸系聚合物(基础聚合物)与高tg的丙烯酸系低聚物的组合使用，粘合剂层的粘合力、特别是高温下的粘合力得以提高。丙烯酸系低聚物的玻璃化转变温度通过上述fox式来算出。
[0138]
玻璃化转变温度为60℃以上的丙烯酸系低聚物优选为包含具有链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯((甲基)丙烯酸链状烷基酯)和具有脂环式烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯((甲基)丙烯酸脂环式烷基酯)的单体成分的聚合物。作为这些(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例，例如可列举出作为丙烯酸系聚合物的单体成分的上述(甲基)丙烯酸烷基酯。
[0139]
作为(甲基)丙烯酸链状烷基酯，从玻璃化转变温度高、与基础聚合物的相容性优异的方面出发，优选为甲基丙烯酸甲酯。作为(甲基)丙烯酸脂环式烷基酯，优选为丙烯酸二环戊基酯、甲基丙烯酸二环戊基酯、丙烯酸环己酯和甲基丙烯酸环己酯。即，丙烯酸系低聚物优选为包含选自由丙烯酸二环戊基酯、甲基丙烯酸二环戊基酯、丙烯酸环己酯和甲基丙烯酸环己酯组成的组中的1种以上、以及甲基丙烯酸甲酯的单体成分的聚合物。
[0140]
丙烯酸系低聚物的单体成分中的(甲基)丙烯酸脂环式烷基酯的比率优选为10质量％以上、更优选为20质量％以上、进一步优选为30质量％以上。
[0141]
该比率优选为90质量％以下、更优选为80质量％以下、进一步优选为70质量％以下。丙烯酸系低聚物的单体成分中的(甲基)丙烯酸链状烷基酯的比率优选为90质量％以下、更优选为80质量％以下、进一步优选为70质量％以下。
[0142]
该比率优选为10质量％以上、更优选为20质量％以上、进一步优选为30质量％以上。
[0143]
丙烯酸系低聚物的重均分子量优选为1000以上、更优选为1500以上、进一步优选为2000以上。该分子量优选为30000以下、更优选为10000以下、进一步优选为8000以下。这种丙烯酸系低聚物的分子量范围对于确保粘合剂层的粘接力和粘接保持力而言是优选的。
[0144]
丙烯酸系低聚物通过将该丙烯酸系低聚物的单体成分聚合而得到。作为聚合方法，例如可列举出溶液聚合、活性能量射线聚合(例如uv聚合)、本体聚合、以及乳液聚合。在丙烯酸系低聚物的聚合中，可以使用聚合引发剂，也可以出于分子量的调整的目的而使用链转移剂。
[0145]
为了充分提高粘合剂层的粘接力，粘合剂层中的丙烯酸系低聚物的含量相对于基础聚合物100质量份优选为0.5质量份以上、更优选为0.8质量份以上、进一步优选为1质量份以上。另一方面，从确保粘合剂层的透明性的观点出发，粘合剂层中的丙烯酸系低聚物的含量相对于基础聚合物100质量份优选为5质量份以下、更优选为4质量份以下、进一步优选为3质量份以下。在粘合剂层中，丙烯酸系低聚物的含量过大时，有因该丙烯酸系低聚物的相容性降低而导致雾度上升、透明性降低的倾向。
[0146]
粘合剂组合物可以含有硅烷偶联剂。粘合剂组合物中的硅烷偶联剂的含量相对于基础聚合物100质量份优选为0.1质量份以上、更优选为0.2质量份以上。该含量优选为5质
量份以下、更优选为3质量份以下。
[0147]
粘合剂组合物根据需要可以含有其他成分。作为其他成分，例如可列举出增粘剂、增塑剂、软化剂、抗氧化剂、填充剂、着剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、表面活性剂、以及抗静电剂。
[0148]
单层结构的光学粘合剂层10例如可以通过将上述粘合剂组合物涂布在剥离薄膜l1(第1剥离薄膜)上形成涂膜后，使该涂膜干燥而制造。
[0149]
作为剥离薄膜，例如可列举出具有挠性的塑料薄膜。作为该塑料薄膜，例如可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、以及聚酯薄膜。剥离薄膜的厚度例如为3μm以上，另外，例如为200μm以下。剥离薄膜的表面优选进行了剥离处理。
[0150]
作为粘合剂组合物的涂布方法，例如可列举出辊涂、辊舐涂布、凹版涂布、逆转涂布、辊刷、喷涂、浸渍辊涂、棒涂、刮刀涂布、气刀涂布、帘涂、唇涂、以及模涂。涂膜的干燥温度例如为50℃～200℃。干燥时间例如为5秒～20分钟。
[0151]
可以在第1剥离薄膜l1上的光学粘合剂层10上进一步层叠剥离薄膜l2(第2剥离薄膜)。第2剥离薄膜为实施了表面剥离处理的挠性的塑料薄膜，可以使用与第1剥离薄膜相关的上述说明相同的薄膜。
[0152]
如以上所述，可以制造作为利用剥离薄膜l1、l2被覆保护粘合面的光学粘合片s的光学粘合剂层10。剥离薄膜l1、l2在使用光学粘合片s时根据需要而从光学粘合片s剥离。
[0153]
作为多层结构的光学粘合剂层10的形成方法，可列举出干叠干法、湿叠干法和湿叠湿法。在干叠干法中，例如，可以通过粘合剂组合物在剥离薄膜上的涂布和干燥而分别形成多个粘合剂层后，将该多个粘合剂层贴合，由此形成多层粘合剂层。在湿叠干法中，例如，可以在剥离薄膜上按照各粘合剂层实施基于粘合剂组合物的涂布和干燥的粘合剂层的形成，由此形成多层粘合剂层。在湿叠湿法中，例如，可以在剥离薄膜上多段涂布多个粘合剂组合物而形成多层涂膜后使该多层涂膜干燥，由此形成多层粘合剂层。
[0154]
单层结构或多层结构的光学粘合剂层10也可以通过在基于光学粘合剂层10的接合的被粘物上的粘合剂组合物的涂布和干燥而形成。
[0155]
从确保对被粘物的充分的粘合性的观点出发，光学粘合剂层10的厚度优选为10μm以上、更优选为15μm以上。从光学粘合剂层10的操作性的观点出发，光学粘合剂层10的厚度优选为300μm以下、更优选为200μm以下、进一步优选为100μm以下、特别优选为50μm以下。
[0156]
光学粘合剂层10的雾度优选为3％以下、更优选为2％以下、更优选为1％以下。光学粘合剂层10的雾度可以依照jis k7136(2000年)并使用雾度计来测定。作为雾度计，例如可列举出日本电工业株式会社制的“ndh2000”和村上彩技术研究所株式会社制的“hm-150型”。
[0157]
光学粘合剂层10的总透光率优选为60％以上、更优选为80％以上、进一步优选为85％以上。光学粘合剂层10的总透光率例如为100％以下。光学粘合剂层10的总透光率可以依照jis k 7375(2008年)进行测定。
[0158]
图6a～图6c表示光学粘合剂层10的使用方法的一例。
[0159]
本方法中，首先，如图6a所示，将光学粘合剂层10贴合于第1构件21(被粘物)的厚度方向h的一个面。第1构件21例如为柔性显示器面板所具有的层叠结构中的一个要素。作为该要素，例如可列举出像素面板、触摸面板、偏光薄膜和覆盖薄膜(对于后述的第2构件22
也同样)。通过本工序，在第1构件21上设置与其他构件的接合用的光学粘合剂层10。
[0160]
接着，如图6b所示，借助第1构件21上的光学粘合剂层10，将第1构件21的厚度方向h的一面侧与第2构件22的厚度方向h的另一面侧接合。第2构件22例如为柔性显示器面板所具有的层叠结构中的其他要素。
[0161]
接着，如图6c所示，将第1构件21与第2构件22之间的光学粘合剂层10熟化。通过熟化，在光学粘合剂层10中推进基础聚合物的交联反应，第1构件21与第2构件22之间的接合力提高。熟化温度例如为20℃～160℃。熟化时间例如为1分钟～21天。作为熟化而进行高压釜处理(加热加压处理)时，温度例如为30℃～80℃、压力例如为0.1～0.8mpa、处理时间例如为15分钟以上。
[0162]
在柔性器件的制造工艺中如以上那样地使用的光学粘合剂层10如上所述，第1卷绕试验中的空隙部最大长度l为2mm以下且端缘间距离d为80mm以上。这种光学粘合剂层10作为柔性器件用的光学粘合剂层，适合于兼顾抑制器件变形时的自被粘物的剥离和抑制非变形时的变形痕迹，因此适合于柔性器件用途。
[0163]
实施例
[0164]
关于本发明，以下示出实施例进行具体说明。但是，本发明不受实施例限定。另外，以下记载的配混量(含量)、物性值、参数等的具体数值可以替换上述“具体实施方式”中记载的与它们对应的配混量(含量)、物性值、参数等的上限(以“以下”、“小于”的方式定义的数值)或下限(以“以上”、“超过”的方式定义的数值)。
[0165]
〈聚合物p1的制备〉
[0166]
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮气导入管的反应容器内，将包含丙烯酸2-乙基己酯(2eha)56质量份、丙烯酸月桂酯(la)39质量份、丙烯酸4-羟基丁酯(4hba)5质量份、作为热聚合引发剂的2,2'-偶氮二异(aibn)0.1质量份和作为溶剂的乙酸乙酯的混合物(固体成分浓度33质量％)在58℃、氮气氛下搅拌5小时(聚合反应)。由此，得到含有丙烯酸系聚合物(聚合物p1)的溶液。然后，在该溶液中加入乙酸乙酯，将该溶液的聚合物浓度调整为30质量％。由此，得到含有聚合物p1的第1聚合物溶液。聚合物p1的重均分子量为约83万。
[0167]
〈聚合物p2的制备〉
[0168]
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮气导入管的反应容器内，将包含丙烯酸丁酯(ba)94.8质量份、丙烯酸2-羟基乙酯(hba)0.2质量份、丙烯酸(aa)5质量份、作为热聚合引发剂的2,2'-偶氮二异(aibn)0.1质量份和作为溶剂的乙酸乙酯的混合物(固体成分浓度30质量％)在55℃、氮气氛下搅拌8小时(聚合反应)。由此，得到含有丙烯酸系聚合物(聚合物p2)的溶液(第2聚合物溶液)。第2聚合物的重均分子量为约220万。
[0169]
〔实施例1〕
[0170]
〈第1粘合剂组合物的制备〉
[0171]
在第1聚合物溶液中，相对于该聚合物溶液中的丙烯酸系聚合物(聚合物p1)100质量份，加入交联剂(商品名“takenate 600”，异氰酸酯系交联剂，三井化学社制)0.4质量份并混合，然后加入乙酸乙酯将固体成分浓度调整为20质量％，得到第1粘合剂组合物。
[0172]
〈第1粘合剂层的形成〉
[0173]
在单面进行了有机硅剥离处理的第1剥离薄膜(商品名“jt-50wa”，聚酯薄膜，厚度
50μm，日东电工株式会社制)的剥离处理面上涂布第1粘合剂组合物而形成涂膜。接着，通过在60℃下加热1分钟、然后在130℃下加热1分钟而对第1剥离薄膜上的涂膜进行干燥，形成粘合剂层。接着，在第1剥离薄膜上的粘合剂层上贴合单面进行了有机硅剥离处理的第2剥离薄膜(商品名“mrq25t100j”，聚酯薄膜，厚度25μm，三菱化学株式会社制)的剥离处理面。然后，在50℃下熟化处理48小时，使粘合剂层中的交联反应进行。如以上那样地形成双面带剥离薄膜的第1粘合剂层(厚度26μm)。第1粘合剂层为比后述第2粘合剂层的粘合力低的低粘合剂层。
[0174]
〈第2粘合剂组合物的制备〉
[0175]
在第2聚合物溶液中，相对于该聚合物溶液中的丙烯酸系聚合物(聚合物p2)100质量份，加入交联剂(商品名“coronate l”，甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物，东曹株式会社制)0.6质量份并混合，然后加入乙酸乙酯将固体成分浓度调整为10质量％，得到第2粘合剂组合物。
[0176]
〈第2粘合剂层的形成〉
[0177]
在单面进行了有机硅剥离处理的第1剥离薄膜(商品名“jt-50wa”，日东电工株式会社制)的剥离处理面上涂布第2粘合剂组合物而形成涂膜。接着，通过在130℃下加热1分钟而对第2剥离薄膜上的涂膜进行干燥，形成粘合剂层。接着，在第1剥离薄膜上的粘合剂层上贴合单面进行了有机硅剥离处理的第2剥离薄膜(商品名“mrq25t100j”，三菱化学株式会社制)的剥离处理面。然后，在50℃下熟化处理48小时，使粘合剂层中的交联反应进行。如以上那样地形成两个双面带剥离薄膜的第2粘合剂层(厚度12μm)。第2粘合剂层为比上述第1粘合剂层的粘合力高的高粘合剂层。
[0178]
〈光学粘合剂层的制作〉
[0179]
首先，从双面带剥离薄膜的第2粘合剂层将一张剥离薄膜剥离，将由此露出的第2粘合剂层贴合于聚酰亚胺薄膜f0。从聚酰亚胺薄膜f0上的第2粘合剂层将另一张剥离薄膜剥离，对由此露出的露出面进行电晕处理。接着，从双面带剥离薄膜的第1粘合剂层将一张剥离薄膜剥离，对由此露出的露出面进行电晕处理。接着，将第1粘合剂层的露出面与聚酰亚胺薄膜f0上的第2粘合剂层的露出面贴合。该贴合中，通过在23℃的环境下使2kg的辊往复1次的操作来使第1粘合剂层与第2粘合剂层压接(后述的贴合也同样地实施)。接着，从第2粘合剂层上的第1粘合剂层将另一张剥离薄膜剥离，对由此露出的露出面进行电晕处理。另一方面，从另一双面带剥离薄膜的第2粘合剂层将一张剥离薄膜剥离，对由此露出的露出面进行电晕处理。接着，将该第2粘合剂层的露出面与第2粘合剂层上的第1粘合剂层的露出面贴合。如以上那样地以双面带薄膜的光学粘合片的形式制作了实施例1的光学粘合剂层。该光学粘合片在厚度方向上依次具备聚酰亚胺薄膜f0、第2粘合剂层(厚度12μm)、第1粘合剂层(厚度26μm)、第2粘合剂层(厚度12μm)和剥离薄膜，粘合剂层自身具有3层结构。
[0180]
〔比较例1〕
[0181]
首先，除了将第1粘合剂层的厚度设为50μm来代替26μm以外，与实施例1中的上述双面带剥离薄膜的第1粘合剂层同样地形成双面带剥离薄膜的第1粘合剂层。接着，从该双面带剥离薄膜的第1粘合剂层将一张剥离薄膜剥离，将由此露出的第1粘合剂层贴合于聚酰亚胺薄膜f0。如以上那样地以双面带薄膜的光学粘合片的形式制作了比较例1的光学粘合剂层。该光学粘合片在厚度方向上依次具备聚酰亚胺薄膜f0、第1粘合剂层(厚度50μm)和剥
离薄膜，粘合剂层自身具有单层结构。
[0182]
〔比较例2〕
[0183]
首先，除了将第2粘合剂层的厚度设为25μm来代替12μm以外，与实施例1中的上述双面带剥离薄膜的第2粘合剂层同样地形成两个双面带剥离薄膜的第2粘合剂层。接着，从一个双面带剥离薄膜的第2粘合剂层将一张剥离薄膜剥离，将由此露出的第2粘合剂层贴合于聚酰亚胺薄膜f0。接着，从聚酰亚胺薄膜f0上的第2粘合剂层将另一张剥离薄膜剥离，对由此露出的露出面进行电晕处理。接着，从另一双面带剥离薄膜的第2粘合剂层将一张剥离薄膜剥离，对由此露出的露出面进行电晕处理。接着，将该第2粘合剂层的露出面与聚酰亚胺薄膜f0上的第2粘合剂层的露出面贴合。如以上那样地以双面带薄膜的光学粘合片的形式制作了比较例2的光学粘合剂层。该光学粘合片在厚度方向上依次具备聚酰亚胺薄膜、第2粘合剂层(厚度50μm)和剥离薄膜，粘合剂层自身具有单层结构。
[0184]
〈粘合剂层的厚度〉
[0185]
对实施例1和比较例1、2的各光学粘合片中的光学粘合剂层研究了厚度。具体而言，首先，从双面带薄膜的光学粘合片切出双面带薄膜的粘合片(短边25mm
×
长边100mm)。接着，从双面带薄膜的粘合片将剥离薄膜剥离，得到单面带薄膜的粘合片。接着，用千分表测定单面带薄膜的粘合片中的5个测定点各自的厚度(片的总厚度)。5个测定点是将粘合片的宽度方向中央沿着长边方向6等分的5点。然后，从各测定厚度减去利用千分表另行测定的聚酰亚胺薄膜f0的厚度。由此得到5个测定点处的光学粘合剂层的厚度。将5个测定点处的粘合剂层厚度中的最大厚度t1(μm)和最小厚度t2(μm)示于表1。另外，最大厚度与最小厚度之差(t
1-t2)也示于表1。
[0186]
〈剥离粘合力〉
[0187]
对于实施例1和比较例1、2的各光学粘合剂层，通过剥离试验研究了剥离粘合力。
[0188]
首先，对各光学粘合剂层制作测定用试样。在测定用试样的制作中，首先，准备表面进行了等离子体处理的聚酰亚胺基材(商品名“upilex 25rn”，厚度25μm，宇部兴产株式会社制)。然后，除了使用该聚酰亚胺基材代替聚酰亚胺薄膜f0以外，针对实施例1和比较例1、2，分别与上述双面带薄膜的光学粘合片同样地制作双面带薄膜的光学粘合片。接着，从双面带薄膜的光学粘合片(聚酰亚胺基材/光学粘合片/剥离薄膜)切出试验片(宽度25mm
×
长度100mm)。接着，从该试验片中的光学粘合片将剥离薄膜剥离，在由此露出的露出面贴合聚酰亚胺薄膜(商品名“upilex 50s”，厚度50μm，宇部兴产株式会社制)。该贴合中，通过在23℃的环境下使2kg的手动辊往复1次的操作来对聚酰亚胺薄膜压接试验片。如以上那样地制作了测定用试样。
[0189]
接着，将测定用试样在室温下静置30分钟后，实施从测定用试样中的聚酰亚胺薄膜将试验片剥离的剥离试验，测定剥离强度。本测定中，使用拉伸试验机(商品名“autograph ag-50nx plus)”，岛津制作所制)。本测定中，将测定温度设为23℃，将试验片自聚酰亚胺薄膜的剥离角度设为180
°
，将试验片的拉伸速度设为300mm/分钟，将剥离长度设为50mm。将所测定的剥离强度的平均值作为剥离粘合力f(n/25mm)示于表1。
[0190]
〈剪切储能模量〉
[0191]
对于实施例1和比较例1、2的第1粘合剂层和第2粘合剂层，如下所述地测定剪切储能模量。
[0192]
首先，制作测定用的样品。具体而言，将粘合剂层贴合而制作约1mm厚度的粘合剂片后，对该片进行冲裁，得到作为测定用样品的圆柱状的粒料(直径9mm)。然后，对于测定用样品，使用动态粘弹性测定装置(商品名“ares-g2”，ta instruments公司制)，固定于直径8mm的平行板的夹具后进行动态粘弹性测定。在本测定中，将测定模式设为剪切模式，将测定温度范围设为-60℃～150℃，将升温速度设为5℃/分钟，将频率设为1hz。根据测定结果，读取-20℃下的剪切储能模量(kpa)。将其结果示于表1。
[0193]
〈透过率的变化〉
[0194]
对于实施例1和比较例1、2的各光学粘合剂层，如下所述地研究了透过率变化。
[0195]
首先，制作测定用的样品。测定用样品的制作中，首先准备pet基材(商品名“t100c50”，厚度50μm，三菱化学株式会社制)。然后，除了使用该pet基材代替聚酰亚胺薄膜f0以外，针对实施例1和比较例1、2，分别与上述双面带薄膜的光学粘合片同样地制作双面带薄膜的光学粘合片(pet基材/光学粘合片/剥离薄膜)。接着，从该光学粘合片将剥离薄膜剥离后，将由此露出的光学粘合剂层贴合于pet基材(商品名“t100c50”，厚度50μm，三菱化学株式会社制)。由此得到pet基材/光学粘合剂层/pet基材的层叠构成的层叠体。接着，从该层叠体切出宽度25mm
×
长度100mm的尺寸的测定用样品。
[0196]
接着，对于测定用样品，测定波长550nm的光的透过率(t1)(第1透过率测定)。测定中，使用透过率测定装置(商品名“u4100型分光光度计”，hitachi high-tech corporation制)。
[0197]
接着，对于直径20mm的卷芯，将经过了第1透过率测定的测定用样品以该样品的长度方向沿着卷芯的圆周方向的方式进行卷绕(将测定用样品一边沿长度方向拉伸一边在卷芯周围卷绕1.628周)。接着，将如此卷绕于卷芯的样品在23℃下保管1小时。接着，对于该保管后的测定用样品，与第1透过率测定同样地测定波长550nm的光的透过率(t2)(第2透过率测定)。
[0198]
然后，基于下式求出透过率t2相对于透过率t1的变化率。将该值示于表1。
[0199]
透过率的变化率(％)＝[(t2-t1)/t1]
×
100
[0200]
〈第1卷绕试验〉
[0201]
对于实施例1和比较例1、2的各光学粘合片(光学粘合剂层)，实施下述第1步～第6步，测定空隙部最大长度l和端缘间距离d(第1卷绕试验)。将其结果示于表1。
[0202]
第1步：
[0203]
首先，准备层叠体，其在厚度方向上依次具备厚度80μm的聚酰亚胺薄膜、厚度32μm的偏光板薄膜和厚度125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜，聚酰亚胺薄膜与偏光板薄膜之间、以及偏光板薄膜与pet薄膜之间分别通过光学粘合剂层而接合。具体而言如下所述。
[0204]
首先，除了使用厚度80μm的透明聚酰亚胺薄膜(商品名“cpi”，kolon公司制)代替聚酰亚胺薄膜f0以外，针对实施例1和比较例1、2，分别与上述双面带薄膜的光学粘合片同样地制作双面带薄膜的第1光学粘合片(透明聚酰亚胺薄膜/光学粘合片/剥离薄膜)。另外，除了使用厚度125μm的pet薄膜(商品名“t912e125”，三菱化学株式会社制)代替聚酰亚胺薄膜f0以外，针对实施例1和比较例1、2，分别与上述双面带薄膜的光学粘合片同样地制作双面带薄膜的第2光学粘合片(pet薄膜/光学粘合片/剥离薄膜)。接着，从双面带剥离薄膜的
第1光学粘合片将剥离薄膜剥离，将由此露出的露出面贴合于厚度32μm的偏光板薄膜的一个面(后述的保护层侧的表面)(偏光板薄膜为如后所述地制作的薄膜)。接着，从双面带剥离薄膜的第2光学粘合片将剥离薄膜剥离，将由此露出的露出面贴合于偏光板薄膜的另一面(后述的第2相位差层侧的表面)。如以上那样地得到上述的层叠体。
[0205]
第2步：
[0206]
将层叠体在50℃和0.5mpa的条件下加热加压处理15分钟。
[0207]
第3步：
[0208]
从第2步之后的层叠体切出试验片。试验片具有长度100mm
×
宽度25mm的尺寸，在长度方向的一端具有第1端部且在另一端具有第2端部。
[0209]
第4步：
[0210]
对于截面直径20mm的卷芯(金属制)，将试验片以该试验片的长度方向沿着卷芯的圆周方向的方式如下所述地进行卷绕。首先，将试验片的第1端部的透明聚酰亚胺薄膜侧借助双面胶带贴附于卷芯。接着，以该试验片的透明聚酰亚胺薄膜侧配置于卷绕内侧的方式，将该试验片一边沿长度方向拉伸一边在卷芯周围卷绕1.628周。具体而言，以卷芯与试验片之间无间隙、且在卷芯径向上试验片间无间隙的方式将试验片卷绕在卷芯周围。接着，在卷绕于卷芯的该试验片中，利用粘合带将第2端部固定。
[0211]
第5步：
[0212]
将带卷芯的试验片在23℃的温度条件下保管48小时。
[0213]
第6步：
[0214]
第5步之后，在将试验片对卷芯的卷绕状态解除起5分钟以内，测定试验片的端缘间距离d和空隙部最大长度l。端缘间距离d为试验片的长度方向的两端缘间的距离。空隙部最大长度l为试验片的层间空隙的最大长度。本步骤中，在端缘间距离d的测定后测定空隙部最大长度l。
[0215]
〈第2卷绕试验〉
[0216]
对于实施例1和比较例1、2的各光学粘合片(光学粘合剂层)，除了下述以外实施与第1卷绕试验同样的第1步～第6步，测定空隙部最大长度l和端缘间距离d(第2卷绕试验)。将第5步中的保管温度条件设为-20℃。将测定结果示于表1。
[0217]
[表1]
[0218][0219]
制作卷绕试验中的上述层叠体时使用的上述偏光板薄膜如以下所述地制作。
[0220]
〈偏光膜的制作〉
[0221]
首先，作为热塑性树脂基材，准备长条的非晶的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(厚度100μm，吸水率0.75％，玻璃化转变温度约75℃)。对该树脂基材的单面实施电晕处理。另一方面，混合聚乙烯醇(pva)系树脂100质量份、碘化钾13质量份和水，制备pva水溶液(涂布液)。前述pva系树脂为聚合度4200且皂化度99.2摩尔％的pva与乙酰乙酰基改性pva(商品名“gohsefimer z410”，日本合成化学工业株式会社制)的质量比9：1的混
合物。然后，在上述树脂基材的电晕处理面涂布上述pva水溶液后，通过在60℃下进行干燥而形成厚度13μm的pva系树脂层。由此，得到层叠体(树脂基材/pva系树脂层)。
[0222]
接着，将得到的层叠体在130℃的烘箱内、在圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)进行自由端单向拉伸至2.4倍(空中辅助拉伸处理)。接着，将层叠体在液温40℃的不溶化浴(相对于水100质量份，配混硼酸4质量份而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒(不溶化处理)。接着，在液温30℃的染浴(相对于水100质量份，以1：7的质量比配混碘和碘化钾而得到的碘水溶液)中，一边以最终得到的偏光膜的单体透过率(ts)和波长210nm下的单位吸光度成为期望的值的方式调整浓度，一边将层叠体浸渍60秒(染处理)。接着，将层叠体在液温40℃的交联浴(相对于水100质量份，配混碘化钾3质量份、配混硼酸5质量份而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒(交联处理)。接着，在使层叠体浸渍于液温70℃的硼酸水溶液(硼酸浓度4.0质量％)中的状态下，在圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)进行单向拉伸，使得总拉伸倍率为5.5倍(水中拉伸处理)。接着，将层叠体浸渍在液温20℃的清洗浴(相对于水100质量份，配混碘化钾4质量份而得到的水溶液)中(清洗处理)。接着，一边将层叠体在保持为90℃的烘箱中进行干燥，一边与表面温度保持为75℃的sus制的加热辊进行约2秒的接触(干燥收缩处理)。基于干燥收缩处理的层叠体的宽度方向的收缩率为2％。如以上所述地在树脂基材上形成厚度4.6μm的偏光膜。
[0223]
〈带保护层的偏光膜的制作〉
[0224]
在上述偏光膜的表面(与树脂基材处于相反侧的一面)，借助紫外线固化型粘接剂贴合作为保护层的丙烯酸系薄膜(表面折射率1.50，厚度20μm)。具体而言，在偏光膜表面涂布紫外线固化型粘接剂而形成厚度1.0μm的粘接剂涂膜后，利用辊机，借助该粘接剂涂膜而将偏光膜与保护层(丙烯酸系薄膜)贴合。接着，隔着保护层对粘接剂涂膜照射紫外线，使粘接剂涂膜固化(形成第1粘接剂层)。接着，通过从偏光膜将树脂基材剥离，得到保护层/第1粘接剂层/偏光膜的层叠构成的长条状的带保护层的偏光膜(宽度1300mm)。该带保护层的偏光膜的单体透过率为43.5％，波长210nm下的单位吸光度为0.91，波长470nm下的正交吸光度a470相对于波长600nm下的正交吸光度a600的比率(a470/a600)为0.87，正交b值为-3.00。该正交b值例如可以利用紫外可见分光光度计(商品名“v7100”，日本分光株式会社制)进行测定。
[0225]
〈第1相位差层的形成〉
[0226]
混合具有向列液晶性的光聚合性的液晶化合物(商品名“paliocolor lc242”,如下述结构式所示，basf公司制)10质量份、光聚合引发剂(商品名“irgacure 907”，basf公司制)3质量份和作为溶剂的甲苯40质量份，制备液晶组合物。
[0227][0228]
另一方面，利用刷磨布对聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜(厚度38μm)的表面进行刷磨(取向处理)。刷磨方向设为如下的方向：在后述第1液晶取向固化层对上述带保护层的偏光膜的偏光膜侧接合后，从偏光膜侧观察时，该层中的液晶化合物的取向方向相对于偏光膜的吸收轴为顺时针15
°
。接着，利用棒涂机在pet薄膜的取向处理面涂布上述液晶组合物而形成涂膜。接着，通过在90℃下加热2分钟而对pet薄膜上的涂膜进行干燥，形成液晶
层。在该液晶层中，液晶化合物以沿着pet薄膜表面的刷磨方向的方式进行取向。接着，对pet薄膜上的液晶层照射紫外线而使该液晶层光固化，形成厚度2.5μm的第1液晶取向固化层(第1相位差层)。在紫外线照射中，作为照射光源，使用金属卤化物灯，将累积照射光量设为1mj/cm2。另外，第1液晶取向固化层的面内相位差re(550)为270nm。第1液晶取向固化层具有nx》ny＝nz的折射率分布。
[0229]
〈第2相位差层的形成〉
[0230]
除了厚度和液晶化合物的取向方向以外，与第1液晶取向固化层同样地形成第2液晶取向固化层(第2相位差层)。第2液晶取向固化层的厚度设为1.5μm。第2液晶取向固化层中的液晶化合物的取向方向设为如下的方向：在第2液晶取向固化层对带保护层的偏光膜的偏光膜侧接合后，从偏光膜侧观察时，相对于偏光膜的吸收轴为顺时针75
°
。另外，第2液晶取向固化层的面内相位差re(550)为140nm。第2液晶取向固化层具有nx》ny＝nz的折射率分布。
[0231]
〈偏光板薄膜的制作〉
[0232]
首先，在上述带保护层的偏光膜的偏光膜露出面涂布紫外线固化型粘接剂而形成粘接剂涂膜(厚度1μm)后，利用辊机，借助该粘接剂涂膜而将偏光膜与pet薄膜上的第1液晶取向固化层贴合。此时，以偏光膜的吸收轴与第1液晶取向固化层中的液晶化合物的取向方向(慢轴)所成的角度为15
°
的方式进行贴合。接着，从pet薄膜侧对偏光膜与第1液晶取向固化层之间的粘接剂涂膜照射紫外线，使该粘接剂涂膜固化(形成第2粘接剂层)。由此对偏光膜接合第1液晶取向固化层。然后，从第1液晶取向固化层将pet薄膜剥离。由此，得到具有保护层、第1粘接剂层、偏光膜、第2粘接剂层和第1液晶取向固化层(第1相位差层)的层叠构成的中间层叠体。
[0233]
接着，在中间层叠体的第1液晶取向固化层的露出面涂布紫外线固化型粘接剂而形成粘接剂涂膜(厚度1μm)后，利用辊机，借助该粘接剂涂膜而将第1液晶取向固化层与pet薄膜上的第2液晶取向固化层贴合。此时，以偏光膜的吸收轴与第2液晶取向固化层中的液晶化合物的取向方向(慢轴)所成的角度为75
°
的方式进行贴合。接着，从pet薄膜侧对第1/第2液晶取向固化层间的粘接剂涂膜照射紫外线，使该粘接剂涂膜固化(形成第3粘接剂层)。由此，对第1液晶取向固化层接合第2液晶取向固化层。然后，从第2液晶取向固化层将pet薄膜剥离。由此，得到具有保护层、第1粘接剂层、偏光膜、第2粘接剂层、第1液晶取向固化层(第1相位差层)、第3粘接剂层和第2液晶取向固化层(第2相位差层)的层叠构成的偏光板薄膜(带保护层且带相位差层的偏光膜)。该偏光板薄膜的厚度为32μm。

技术特征：

1.一种光学粘合剂层，其在实施下述第1步～第6步的卷绕试验中的空隙部最大长度l为2mm以下、端缘间距离d为80mm以上，第1步：准备层叠体，所述层叠体在厚度方向上依次具备厚度80μm的聚酰亚胺薄膜、厚度32μm的偏光板薄膜和厚度125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，所述聚酰亚胺薄膜与所述偏光板薄膜之间、以及所述偏光板薄膜与所述聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜之间分别通过所述光学粘合剂层而接合；第2步：将所述层叠体在50℃和0.5mpa的条件下加热加压处理15分钟；第3步：从所述第2步之后的所述层叠体切出试验片，所述试验片具有长度100mm
×
宽度25mm的尺寸，在所述长度方向的一端具有第1端部且在另一端具有第2端部；第4步：对于截面直径20mm的卷芯，将所述试验片以该试验片的长度方向沿着所述卷芯的圆周方向的方式如下所述地进行卷绕：首先，将所述试验片的所述第1端部的聚酰亚胺薄膜侧借助双面胶带贴附于所述卷芯，接着，以该试验片的所述聚酰亚胺薄膜侧配置于卷绕内侧的方式，将该试验片一边沿所述长度方向拉伸一边在所述卷芯周围卷绕1.628周，接着，在卷绕于所述卷芯的该试验片中，利用粘合带将所述第2端部固定；第5步：将带所述卷芯的所述试验片在23℃的温度条件下保管48小时；第6步：第5步之后，在将所述试验片对所述卷芯的卷绕状态解除起5分钟以内，测定所述试验片的端缘间距离d和空隙部最大长度l，所述端缘间距离d为所述试验片的所述长度方向的两端缘间的距离，所述空隙部最大长度l为所述试验片的层间空隙的最大长度。2.根据权利要求1所述的光学粘合剂层，其在除了所述第5步中的温度条件为-20℃以外实施与所述第1步～第6步同样的步骤的卷绕试验中的所述空隙部最大长度l为2mm以下，所述端缘间距离d为80mm以上。3.根据权利要求1所述的光学粘合剂层，其从卷绕于截面直径20mm的卷芯起经过1小时所带来的透过率的变化为5％以下。4.根据权利要求1所述的光学粘合剂层，其最大厚度与最小厚度之差为3μm以下。5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学粘合剂层，其具备：低粘合剂层，其具有第1面、以及与该第1面处于相反侧的第2面；第1高粘合剂层，其配置在所述第1面上，在与所述低粘合剂层的相反侧具有第1高粘合面；和第2高粘合剂层，其配置在所述第2面上，在与所述低粘合剂层的相反侧具有第2高粘合面，所述第1高粘合面和所述第2高粘合面各自从贴合于聚酰亚胺薄膜起在23℃下经过30分钟后，在剥离角度180
°
和剥离速度300mm/分钟的条件下对该聚酰亚胺薄膜具有5n/25mm以上的剥离粘合力，
所述低粘合剂层在-20℃下的剪切储能模量小于所述高粘合剂层在-20℃下的剪切储能模量。6.根据权利要求5所述的光学粘合剂层，其中，所述低粘合剂层的厚度相对于所述第1高粘合剂层与所述第2高粘合剂层的厚度的总和的比率为1以上。7.根据权利要求5所述的光学粘合剂层，其中，所述低粘合剂层的厚度相对于所述第1高粘合剂层与所述第2高粘合剂层的厚度的总和的比率为30以下。8.根据权利要求1～4中任一项所述的光学粘合剂层，其具有5μm以上且150μm以下的总厚度。9.根据权利要求5所述的光学粘合剂层，其具有5μm以上且150μm以下的总厚度。10.根据权利要求6或7所述的光学粘合剂层，其具有5μm以上且150μm以下的总厚度。

技术总结

本发明提供适合于柔性器件用途的光学粘合剂层。本发明的光学粘合剂层(10)在对试验片实施的规定的卷绕试验中的空隙部最大长度L为2mm以下、端缘间距离D为80mm以上。试验片为在厚度方向上依次具备厚度80μm的聚酰亚胺薄膜、厚度32μm的偏光板薄膜和厚度125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的层叠体。在聚酰亚胺薄膜与偏光板薄膜之间、以及偏光板薄膜与聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜之间分别通过光学粘合剂层(10)而接合。空隙部最大长度L为层叠体的层间空隙的最大长度。端缘间距离D为层叠体的长度方向的两端缘间的距离。长度方向的两端缘间的距离。长度方向的两端缘间的距离。