炫彩纹理膜、壳体组件及电子设备的制作方法

1.本技术涉及电子领域，具体涉及一种炫彩纹理膜、壳体组件及电子设备。

背景技术：

2.随着人们消费水平的提高，人们对于电子设备例如手机、平板电脑等外观的要求也越来越多样化。然而，现有的电子设备的壳体的外观较为单一，趋于同质化，消费者容易审美疲劳，用户体验不好。

技术实现要素：

3.针对上述问题，本技术实施例提供一种炫彩纹理膜，其具有渐变的纹理及钻石光芒的炫彩效果。
4.本技术实施例提供了一种炫彩纹理膜，其包括：
5.基底层；
6.纹理层，设置于所述基底层的表面，所述纹理层远离所述基底层的表面包括间隔设置的多个纹理部，所述多个纹理部使所述纹理层具有多个雾度；以及
7.镀膜层，设置于所述纹理层远离所述基底层的表面。
8.本技术实施例还提供了一种壳体组件，其包括：
9.壳体本体；
10.粘胶层，所述粘胶层设置于所述壳体本体的表面；以及
11.本技术实施例所述的炫彩纹理膜，所述炫彩纹理膜设置于的粘胶层远离所述壳体本体的表面，并通过所述粘胶层粘合于所述壳体本体，所述基底层相较于所述镀膜层靠近所述壳体本体设置。
12.本技术实施例还提供了一种电子设备，其包括：
13.显示组件，用于显示；
14.本技术实施例所述的壳体组件，所述壳体组件与所述显示组件围合成容置空间；以及
15.电路板组件，所述电路板组件设置于所述容置空间，且与所述显示组件电连接，用于控制所述显示组件进行显示。
16.本技术实施例的炫彩纹理膜包括层叠设置的基底层、纹理层及镀膜层，所述纹理层远离基底层的表面包括间隔设置的多个纹理部，所述多个纹理部使所述纹理层具有多个雾度；在不调节镀膜层不同位置的厚度和膜层数的情况下，只调节纹理层的纹理部时纹理层具有多个雾度，也可通过纹理层与镀膜层的配合，使炫彩纹理膜具有钻石光芒的炫彩效果(换言之具有珠光炫彩效果)，此外，通过控制纹理层的纹理部的结构、尺寸(宽度、高度或深度)、密度、变化规律还可以使炫彩纹理膜实现获得渐变纹理效果，从而使得制得的炫彩纹理膜具有外观表现力更好且更加多变的效果，避免外观的同质化，满足更多消费者的需求。
附图说明
17.为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
18.图1是本技术一实施例炫彩纹理膜的结构示意图。
19.图2是本技术又一实施例炫彩纹理膜的结构示意图。
20.图3是图1实施例虚线框i的放大图。
21.图4是本技术一实施例的纹理层的结构示意图。
22.图5是本技术又一实施例的纹理层的结构示意图。
23.图6是本技术又一实施例的纹理层的结构示意图。
24.图7是本技术又一实施例的纹理层的结构示意图。
25.图8是本技术又一实施例的纹理层的结构示意图。
26.图9是本技术又一实施例的纹理层的结构示意图。
27.图10是本技术又一实施例的纹理层的结构示意图。
28.图11是本技术又一实施例的炫彩纹理膜的结构示意图。
29.图12是本技术又一实施例的炫彩纹理膜的结构示意图。
30.图13是本技术一实施例的炫彩纹理膜的制备方法流程示意图。
31.图14是本技术一实施例的壳体组件的结构示意图。
32.图15是本技术实施例的电子设备的结构示意图。
33.图16是本技术实施例的电子设备的电路框图。
34.附图标记说明：
35.100-炫彩纹理膜
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50-镀膜层
36.10-基底层
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51-真空镀膜
37.30-纹理层
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70-盖底层
38.31-纹理部
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200-壳体组件
39.32-第一端
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210-壳体本体
40.33-第二端
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230-粘胶层
41.34-第一位置
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300-电子设备
42.35-第二位置
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301-容置空间
43.36-第一区域
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310-显示组件
44.37-第二区域
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330-电路板组件
45.38-过渡区域
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331-处理器
46.39-镜面区
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333-存储器
具体实施方式
47.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
48.本技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。
49.下面将结合附图，对本技术实施例中的技术方案进行描述。
50.需要说明的是，为便于说明，在本技术的实施例中，相同的附图标记表示相同的部件，并且为了简洁，在不同实施例中，省略对相同部件的详细说明。
51.请参见图1至图3，本技术实施例提供一种炫彩纹理膜100，其包括：基底层10；纹理层30，设置于所述基底层10的表面，所述纹理层30远离所述基底层10的表面包括间隔设置的多个纹理部31，所述多个纹理部31使所述纹理层 30具有多个雾度；以及镀膜层50，设置于所述纹理层30远离所述基底层10的表面。
52.相关技术中，炫彩膜的炫彩效果通常是通过调节镀膜层50不同位置的厚度及膜层数量，以使得镀膜层50的不同位置具有不同的颜。
53.本技术实施例的炫彩纹理膜100包括层叠设置的基底层10、纹理层30及镀膜层50，所述纹理层30远离基底层10的表面包括间隔设置的多个纹理部31，所述多个纹理部31使所述纹理层30具有多个雾度；在不调节镀膜层50不同位置的厚度和膜层数的情况下，只调节纹理层30的纹理部31使纹理层30具有不同雾度(例如调节纹理部31的结构、尺寸(宽度、高度或深度)、密度、变化规律)，也可通过纹理层30与镀膜层50的配合，使炫彩纹理膜100具有钻石光芒的炫彩效果(换言之具有珠光炫彩效果)，此外，通过控制纹理层30的纹理部31的结构、尺寸(宽度、高度或深度)、密度、变化规律还可以使炫彩纹理膜100实现获得渐变纹理效果，从而使得制得的炫彩纹理膜100具有外观表现力更好且更加多变的效果，避免外观的同质化，满足更多消费者的需求。
54.可选地，基底层10为透明或半透明基底，基底层10可以为但不限于为热塑性聚氨酯(tpu)基底、涤纶基底等。涤纶基底的材质包括但不限于包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚对苯二甲酸丁二酯(pbt)、聚对苯二甲酸丙二酯(ptt)、全芳香族聚酯纤维等中的一种或多种)等。可选地，基底层10的厚度可以为但不限于为0.25mm至0.4mm，例如，可以为0.25mm、0.28mm、0.3mm、 0.32mm、0.35mm、0.38mm、0.4mm等。
55.在一些实施例中，纹理层30可以为紫外光固化纹理层30(uv纹理层30)。可选地，纹理层30的原料组分为光固化胶水(例如uv胶水)，光固化胶水可以包括聚氨酯丙烯酸酯低聚物、光引发剂、溶剂及助剂。在一些实施例中，光固化胶水还可以包括丙烯酸酯单体。可选地，光引发剂可以为但不限于为1-羟基环己基(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone，光引发剂184)、二苯基-(2,4,6-三甲基苯甲酰)氧磷(diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide， tpo)、二苯甲酮(benzophenone，bp)、丙基噻吨酮(itx)、2,4-二乙基硫杂蒽酮(detx)、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮(光引发剂1173)、光引发剂1000 (20wt％的1-羟基环己基与80wt％的2-甲基-2-羟基-)、光引发剂1300(30wt％的光引发剂369与70wt％光引发剂651(二甲基苯偶酰缩酮，dmpa))、光引发剂1700(25wt％的光引发剂bapo(又称光引发剂819) 与75wt％的光引发剂1173)、光引发剂500(50wt％的光引发剂1173与50wt％的bp)中的一种或多种。可选地，溶剂可以为但不
限于为乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、环己酮，丙二醇甲醚，丙二醇甲醚醋酸酯，乙二醇单丁醚，乙二醇单甲醚，异丙醇，丁酮，甲基丁酮中的一种或多种。可选地，助剂包括消泡剂、流平剂等。消泡剂可以为有机硅消泡剂、聚醚型消泡剂中的一种或多种，流平剂可以为但不限于为有机硅流平剂等。
56.可选地，所述纹理层30可以通过以下步骤形成：
57.1)提供纹理模具，所述纹理模具上具有与所述纹理层30上的纹理部31对应的纹理结构；应该理解的是，所述纹理结构与所述纹理部31为镜像对称。
58.2)在所述纹理模具上涂布光固化胶水，形成光固化胶水层；以及
59.3)将基底层10叠设于所述光固化胶水层上，将所述光固化胶水层转印至所述基底层10上，并使光固化胶水层上形成间隔设置的纹理部31，于固化能量为800mj/cm2至1000mj/cm2的紫外光(如汞灯/led灯)下进行光固化，以使所述光固化胶水层固化形成纹理层30。紫外光固化能量不能太高，当固化能量太高时，形成的纹理层30的交联度过高，硬度过大，影响下述镀膜层50在纹理层30上的附着性，紫外线固化能量不能太低，形成的纹理层没有完全固化，影响下述光学镀层50在纹理层上面的附着性。
60.可选地，所述纹理层30的厚度为5μm至20μm，具体地，可以为但不限于为5μm、8μm、10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、15μm、17μm、 18μm、19μm、20μm等。当纹理层30的厚度太薄时，不利于纹理部31的形成，当纹理层30的厚度太厚时，则增加了炫彩纹理膜100的厚度，应用于电子设备的壳体组件时，增加了电子设备的厚度和重量，影响手感，用户体验不好。
61.可选地，多个纹理部31可以规则排布，也可以不规则排布，本技术不作具体限定。例如，多个纹理部31可以类似图像的噪点一样，无规律分布，因此，多个纹理部31形成的纹理也可以成为噪点纹理。
62.可选地，所述纹理部31可以为凸起部(如图1所示)或凹陷部(如图2所示)的一种或多种。可选地，所述纹理层30上的多个纹理部31均为凸起部；或者，所述纹理层30上的多个纹理部31均为凹陷部；或者，所述纹理层30上的部分纹理部31位凸起部、部分纹理部31为凹陷部。纹理层30上凸起部和凹陷部搭配设置，再结合镀膜层50，可以使炫彩纹理膜100具有更加多变的变化纹理及炫彩效果，可以获得更多样的外观，满足更多用户的需求。
63.本技术术语“凸起部”指以纹理层30远离基底层10的表面的外周缘为基准面，凸出于所述纹理层30远离基底层10的表面形成的部分。本技术术语“凹陷部”指以纹理层30远离基底层10的表面的外周缘为基准面，凹陷于所述纹理层30远离基底层10的表面形成的部分。
64.可选地，所述纹理部31的形状可以为但不限于为半球形、半椭球形、棱锥形、圆锥形等中的一种或多种，本技术不作具体限定。当纹理部31的形状为半球形或圆锥形时，可以使得制得的炫彩纹理膜100具有更加晶莹剔透的钻石光芒。
65.可选地，所述纹理部31的宽度s(如图3所示)为500nm至2000nm，具体地，可以为但不限于为500nm、550nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1000nm、 1100nm、1200nm、1300nm、1400nm、1500nm、1600nm、1700nm、1800nm、 1900nm、2000nm等。当纹理部31的宽度小于500nm时，对于设备的要求较高，成本高、良率低，且在形成进行uv(紫外光)转印纹理层30时，转印效果不好，可加工性较差；当纹理部31的宽度大于2000nm时，则制得的炫彩纹理膜 100在基底层10远离纹理层30的一侧的珠光(或钻石闪耀)效果不好，表面暗淡。
66.本技术术语“纹理部31的宽度”指沿所述纹理层30所在的平面，纹理部 31上距离最远的两个点之间的距离。
67.当所述纹理部31为凸起部时，所述凸起部的高度h(如图3所示)为1μm 至5μm；具体地，可以为但不限于为1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm、 3.5μm、4μm、4.5μm、5μm等。当凸起部的高度处于这个范围时，镀上镀膜层50之后，纹理层30与镀膜层50结合，可以使得炫彩纹理膜100的基底层10 侧具有更加闪耀、亮度更高的钻石光芒。当凸起部的高度小于1μm时，雾度很小，纹理效果接近镜面，难以形成纹理效果的渐变；当凸起部的高度大于5μm 时，纹理层30的亮度及线条感很强，雾度弱，而且当雾度由高雾度渐变至低雾度时，纹理的高度差突变，会导致镀膜层50在纹理层30上的附着力差，甚至脱落。
68.本技术术语“凸起部的高度”指凸起部上距离基准面最远的点到基准面的垂直距离。
69.当所述纹理部31为凹陷部时，所述凹陷部的深度为1μm至5μm；具体地，可以为但不限于为1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm、4.5 μm、5μm等。当凹陷部的深度处于这个范围时，镀上镀膜层50之后，纹理层 30与镀膜层50结合，可以使得炫彩纹理膜100的基底层10侧具有更加闪耀、亮度更高的钻石光芒。当凹陷部的深度小于1μm时，雾度很小，纹理效果接近镜面，难以形成纹理效果的渐变；当凹陷部的深度大于5μm时，纹理层30的亮度及线条感很强，雾度弱，而且当雾度由高雾度渐变至低雾度时，纹理的高度差突变，会导致镀膜层50在纹理层30上的附着力差，甚至脱落。
70.本技术术语“凹陷部的高度”指凹陷部上距离基准面最远的点到基准面的垂直距离。
71.可选地，相邻两个所述纹理部31之间的间距d(如图3所示)为0.5μm至 12μm；具体地，可以为但不限于为0.5μm、1μm、1.5μm、2μm、2.5μm、 3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、 11μm、12μm等。当相邻两个纹理部31之间间距小于0.5μm时，纹理模具的加工工艺较为复杂，且进行uv转印时，不好脱模，当相邻两个纹理部31之间的间距大于10μm时，则纹理层30的雾度较低，近似镜面(光面)，对于渐变纹理和渐变颜的调节能力较低。
72.本技术术语“相邻两个所述纹理部31之间的间距”指相邻两个纹理部31 上距离最近的两个点之间的距离。
73.需要说明的是，所述纹理层30具有多个雾度可以理解为所述纹理层30包括多个具有不同雾度的区域或者不同位置雾度是变化的，例如，部分区域雾度为20％，部分区域雾度为30％、部分区域雾度为60％等。
74.可选地，所述纹理层30的雾度可以为但不限于为5％至90％，具体地，可以为但不限于为5％、10％、20％、30％、40％、50％、60％、70％、80％、90％等。通过在纹理层30上设置多个不同雾度的区域，或者使纹理层30上具有渐变的雾度(例如逐渐增大或逐渐减小)，从而使得纹理层30结合镀膜层50，可以使炫彩纹理膜100的基底层10侧具有多变的渐变纹理及钻石光芒的炫彩效果。
75.纹理层30的雾度可以通过纹理部31的密度、宽度、高度或者深度中的一个或多个进行调节。纹理部31的密度越大，纹理层30的雾度越大，与镀膜层 50配合，得到的炫彩纹理膜100的亮度越小、闪度越高，反之，纹理部31的密度越小，纹理层30的雾度越小，与镀膜层50配合，得到的炫彩纹理膜100的亮度越大、闪度越低。相较于通过镀膜层50的厚度调节炫
彩纹理膜100的颜和图案来说，通过纹理层30的纹理部31密度、宽度、高度或深度的进行调节，工艺更简便，可以使得炫彩纹理膜100制备的技术难度降低，成本降低；此外，还可以使炫彩纹理膜100具有通过镀膜层50实现不了的渐变纹理。
76.请参见图4至图8，在一些实施例中，沿第一方向(如图4至图8箭头a 所示)，所述纹理层30的纹理部31的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个呈渐变变化，以使所述纹理层30的雾度沿第一方向呈渐变变化。换言之，所述纹理层30的纹理部31的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个逐渐增大；或者逐渐减小；或部分逐渐增大，部分逐渐减小等；以使所述纹理层30的雾度沿第一方向逐渐增大；或者逐渐减小；或部分逐渐增大，部分逐渐减小等。
77.请参见图4至图6，在一些实施例中，所述纹理层30包括相对设置的第一端32和第二端33，所述纹理部31的密度宽度、高度或深度中的一个或多个自所述第一端32向所述第二端33呈渐变变化，以使所述纹理层30的雾度自所述第一端32向所述第二端33呈渐变变化。这样不仅可以形成梯度变化的渐变纹理，与镀膜层50结合后，在炫彩纹理膜100的基底层10侧还可以形成渐变颜的钻石光芒。
78.具体地，如图4所示，在一些实施例中，沿第一端32向第二端33的方向，每一列的纹理部31的数量逐渐减小，形成梯度变化的渐变纹理，例如：第一列的纹理部31的数量为19个、第二列的纹理部31的数量为16个，第三列的纹理部31的数量为14个，第四列的纹理部31的数量为12个等。如图5所示，在另一些实施例中，所述纹理层30包括阵列排布的多个纹理部31，沿图5箭头 b方向，同一列的多个纹理部31的宽度、高度或深度相同，沿图5箭头a方向，每一行的多个纹理部31的宽度逐渐减小，以使得炫彩纹理膜100的基底层10 侧具有渐变纹理及渐变颜的钻石光芒。如图6所示，在另一些实施例中，沿第一端32向第二端33的方向，每一列的纹理部31的数量逐渐增加，每一行的多个纹理部31的宽度逐渐减小。
79.请参见图7和图8，在由又一些实施例中，所述纹理层30包括间隔设置的第一位置34和第二位置35，所述第一位置34靠近所述纹理层30的外周(例如外周缘)，所述第二位置35相较于所述第一位置34远离所述纹理层30的外周 (例如中间位置)，所述纹理部31的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个自所述第一位置34向所述第二位置35呈渐变变化，以使所述纹理层30的雾度自所述第一位置34向所述第二位置35呈渐变变化，进而使得炫彩纹理膜100 的基底层10侧具有渐变纹理及渐变颜的钻石光芒。在一具体实施例中，纹理部31的密度自中间位置向外周缘逐渐增加；在又一具体实施例中，纹理部31 的密度自中间位置向外周缘逐渐减小。在再一具体实施例中，所述纹理部31以第二位置35为圆心，沿着以第二位置35为圆心的圆的径向方向间隔排布(如图7所示)。在再一具体实施例中，所述纹理部31以第二位置35为圆心，沿着以第二位置35为圆心的圆的径向方向间隔排布，多个纹理部31的宽度沿径向方向逐渐增加(如图8所示)。
80.请参见图9，在一些实施例中，所述纹理层30包括多个纹理区(a,b,c,d,e)，每个所述纹理区包括多个间隔设置的纹理部31，任意相邻的两个所述纹理区的纹理部31的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个不同，以使所述多个纹理区具有不同的雾度，进而使得炫彩纹理膜100的基底层10侧的不同纹理区具有不同的纹理及不同颜的钻石光芒效果。如图9所示，纹理层30包括a、b、c、 d、e五个纹理区，纹理区a与纹理区b相邻，纹理区a与纹理区b的纹理部31 的密度不同、纹理部31的宽度相同，纹理区a与纹理区c的纹理部31的宽度不
同，纹理区a与纹理区d不相邻，纹理区a与纹理区d密度相同。
81.请参见图10，在一些实施例中，所述多个纹理区包括相邻的第一纹理区36 和第二纹理区37，所述第一纹理区36与所述第二纹理区37的雾度之差大于或等于20％时，所述多个纹理区还包括过渡纹理区38，所述过渡纹理区38位于所述第一纹理区36和第二纹理区37之间且分别连接所述第一纹理区36与所述第二纹理区37，所述过渡纹理区38的纹理部31的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个呈渐变变化，以使所述过渡纹理区38的雾度沿第二方向(如图10 箭头c所示)，由第一纹理区36的雾度逐渐变化至第二纹理区37的雾度，其中，所述第二方向为所述第一纹理区36与所述第二纹理区37的排列方向。这样可以使得炫彩纹理膜100的基底层10侧的不同纹理区具有不同的纹理及不同颜的钻石光芒效果，同时，可以避免相邻纹理区雾度变化过大出现边界线的问题，使得炫彩纹理膜100具有更好的视觉效果。
82.请再次参见图2，在一些实施例中，所述纹理层30包括镜面区39，所述镜面区39与一个或多个所述纹理区相连，所述镜面区39的雾度小于5％，以使得所述纹理层30的所述镜面区39呈镜面效果。可选地，所述镜面区39的雾度可以为0％、1％、2％、3％、4％等。在一些实施例中，所述镜面区39不具有纹理部31，换言之，所述镜面区为光面。在另一些实施例中，所述镜面区39包括少数纹理部31。只要镜面区39的雾度小于5％，对于镜面区39是否设置纹理部，本技术不作具体限定。
83.请再次参见图2，可选地，所述镀膜层50可以为但不限于为光学镀膜层，在一些实施例中，所述镀膜层50包括层叠设置的多层真空镀膜51，可选地，所述真空镀膜51的层数可以为3层至15层，具体地，可以为但不限于为3层、4 层、5层、6层、7层、8层、9层、10层、11层、12层、13层、14层、15层等。
84.纹理层30的不同区域可以具有相同层数的真空镀膜51，也可以具有不同层数的真空镀膜51，本技术不作具体限定。当纹理层30的不同区域具有不同层数的真空镀膜51时，还可以通过调节不同区域真空镀膜51的层数，与纹理层30 上纹理部31的密度、宽度、高度或深度结合，共同调节炫彩纹理膜100的颜和钻石光芒，以获得更多变化样式的炫彩纹理膜100。
85.可选地，镀膜层50的厚度为10nm至5000nm；具体地，可以为但不限于为 10nm、50nm、80nm、100nm、150nm、200nm、500nm、800nm、1000nm、1500nm、 2000nm、2500nm、3000nm、3500nm、4000nm、4500nm、5000nm等。更具体地，镀膜层50的厚度为70nm至1000nm，当镀膜层50处于这个范围时，与纹理层30配合后，既可以使炫彩纹理膜100的基底层10侧具有渐变纹理效果及钻石光芒的炫彩效果，同时，又不会使得炫彩纹理膜100的厚度过厚，还可以合理控制炫彩纹理膜100的制备成本。
86.可选地，每层所述真空镀膜51的厚度为3nm至140nm，具体地，可以为但不限于为3nm、5nm、8nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、 50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、110nm、120nm、130nm、140nm 等。真空镀膜51的厚度太薄，不利于调节炫彩纹理膜100的彩及钻石光芒，真空镀膜51层的厚度太厚，则提高了光学镀膜的制备成本，使得炫彩纹理膜100 的制备成本增加。
87.可选地，镀膜层50或真空镀膜51的原料组分包括in、sn、tio2、ti3o5、 nbo2、nb2o3、nb2o2、nb2o5、sio2、zro2或者其他不导电氧化物等中的一种或多种。镀膜层50或真空镀膜51
可以采用莱宝溅射机，通过不导电真空镀膜 51技术(ncvm，non conductive vacuum metalization)进行电镀形成。
88.通过调节镀膜层50中每层真空镀膜51的厚度、真空镀膜51的层数、每层真空镀膜51的原料组分等，可以使得镀膜层50具有不同的颜，通过镀膜层 50与纹理层30的结合，可以实现炫彩纹理膜100的基底层10侧渐变纹理及钻石光芒的炫彩效果。
89.可选地，镀膜层50可以为图案化膜层，例如，花朵图案、动物图案等各种图案，这样可以使得炫彩纹理膜100的基底层10侧具有更多变的图案化效果。在一具体实施例中，镀膜层50包括五层真空镀膜，在中间层(靠近纹理层30 的真空镀膜为第一层，中间层也就是第三层)的真空镀膜上设置镂空的花朵图案、动物图案等图案，在进行第四层真空镀膜电镀时，采用第四层真空镀膜层原料填充中间层的镂空图案，以在镀膜层50上形成各种图案。
90.本技术的厚度如未特别说明，均指炫彩纹理膜层叠方向上的厚度。
91.以下通过具体实施例对纹理层30和镀膜层50结合改变炫彩纹理膜100的基底层10侧的渐变效果做进一步的说明。
92.第一实施例，在本实施例中，所述纹理层30包括纹理区和镜面区39，所述纹理区包括相对设置的第一端32和第二端33，镜面区39连接于所述第二端33，所述纹理部31为半球形，所述纹理部31的宽度为0.6μm、高度为2μm，相邻纹理部31之间的间距自第一端32向第二端33逐渐减小，由10μm逐渐减小至 1μm，以使所述纹理层30的雾度自第一端32向第二端33由80％逐渐减小为 20％。镀膜层50包括依次层叠设置的sio2层、in层、sio2层、ti3o5层及sio2层；in层相较于ti3o5层靠近纹理层30设置，sio2层、in层、sio2层、ti3o5层及sio2层的厚度分别为：10nm、20nm、30nm、50nm、20nm。制得的炫彩纹理膜100具有钻石光芒的炫彩效果，颜自第一端32向第二端33由白逐渐过渡至镜面银(镜面区39的颜)。
93.第二实施例，在本实施例中，所述纹理层30包括纹理区和镜面区39，所述纹理区包括相对设置的第一端32和第二端33，所述纹理部31为半球形，镜面区39连接于所述第二端33，所述纹理部31的宽度为0.8μm、高度为3μm，相邻纹理部31之间的间距自第一端32向第二端33逐渐减小，由12μm逐渐减小至1μm，以使所述纹理层30的雾度自第一端32向第二端33由80％逐渐减小为20％。镀膜层50包括依次层叠设置的sio2层、nb2o5层、sio2层、nb2o5层、sio2层及nbo2层；sio2层相较于nbo2层靠近纹理层30设置，sio2层、 nb2o5层、sio2层、nb2o5层、sio2层及nbo2层的厚度分别为：10nm、70nm、 80nm、140nm、50nm、50nm。制得的炫彩纹理膜100具有钻石光芒的炫彩效果，颜自第一端32向第二端33由深紫逐渐渐变为浅紫，再逐渐变为银(镜面区39的颜)。
94.第三实施例，在本实施例中，所述纹理层30包括相对设置的第一端32和第二端33，所述纹理部31为半球形，所述纹理部31的宽度为0.7μm、高度为 2μm，相邻纹理部31之间的间距自第一端32向第二端33逐渐减小，由2μm 逐渐减小至1μm，以使所述纹理层30的雾度自第一端32向第二端33由70％逐渐减小为50％。镀膜层50包括依次层叠设置的sio2层、nb2o5层、sio2层、 nb2o5层、sio2层及nbo2层；sio2层相较于nbo2层靠近纹理层30设置，sio2层、nb2o5层、sio2层、nb2o5层、sio2层及nbo2层的厚度分别为：10nm、20nm、 30nm、30nm、20nm、40nm。制得的炫彩纹理膜100具有钻石光芒的炫彩效果，颜自第一端32向第二端33由深蓝逐渐渐变为浅蓝。
95.请参见图11和图12，本技术实施例的炫彩纹理膜100还包括盖底层70，所述盖底层
70设置于所述镀膜层50远离所述基底层10的表面，用于保护镀膜层50，并在炫彩纹理膜100应用于电子设备时，用于遮蔽电子设备的内部元器件，以避免电子设备的内部元器件影响炫彩纹理膜100的外观效果。
96.可选地，盖底层70可以为但不限于为对光具有吸收或反射作用的遮光油墨。可选地，盖底层70可以为黑、白或灰。当盖底层70为黑时，可以反射出镀膜层50的颜，当盖底层70为白时，可以显现出镀膜层50的透射颜。盖底层70的厚度为5μm至50μm，具体地，盖底层70的厚度可以为但不限于为5μm、8μm、10μm、12μm、15μm、18μm、20μm、22μm、25μ m、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm等。可选地，盖底层70可以为一层，也可以为多层，例如为2层、3层或4层层叠设置。当盖底层70为多层时、相较于一层具有更好的遮挡效果。在一具体实施例中，盖底层70包括两层盖底层70。每层盖底层70的厚度为8μm至12μm，具体地，可以为但不限于为8 μm、9μm、10μm、11μm、12μm等。盖底层70可以通过以下步骤形成：1) 将遮光油墨涂布至镀膜层50远离纹理层30的表面，于70℃至80℃下烘烤30min 至60min，形成盖底层70。
97.请参见图13，本技术实施例还提供一种炫彩纹理膜100的制备方法，所述方法用于制备上述实施例的炫彩纹理膜100，所述方法包括：
98.s201，在纹理模具上涂布光固化胶水，形成光固化胶水层；
99.可选地，纹理模具可以采用光刻机在模具基材上刻蚀出与多个纹理部31镜像对称的纹理结构，例如噪点纹理，例如，当纹理部31为凹陷部时，则纹理模具为对应的凸起；当纹理部31为凸起部时，则纹理模具为对应的凹槽。
100.s202，提供基底层10，并将光固化胶水层转印至所述基底层10上；
101.s203，将所述将光固化胶水层进行光固化，形成纹理层30，其中，所述纹理层30远离所述基底层10的表面具有间隔设置的多个纹理部31；
102.s204，在所述纹理层30远离基底层10的表面形成镀膜层50；以及
103.s205，在所述镀膜层50远离所述基底层10的表面形成盖底层70。
104.关于基底层10、纹理模具、纹理层30、镀膜层50、盖底层70等相关特征的详细描述请参见上述实施例对应部分的描述，在此不再赘述。
105.请参见图14，本技术实施例还提供一种壳体组件200，其包括：壳体本体 210；粘胶层230，所述粘胶层230设置于所述壳体本体210的表面；以及本技术实施例所述的炫彩纹理膜100，所述炫彩纹理膜100设置于的粘胶层230远离所述壳体本体210的表面，并通过所述粘胶层230粘合于所述壳体本体210，所述基底层10相较于所述镀膜层50靠近所述壳体本体210设置。
106.可选地，壳体组件200的结构可以为2d、2.5d或3d结构。壳体组件200 可以为但不限于为电子设备的后盖、电池盖、中框、装饰件等。
107.可选地，壳体本体210是透光的，壳体本体210可以为但不限于为聚碳酸酯(polycarbonate，pc)基材、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate，pmma)基材、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate，pet)基材、 pc/pmma复合板、pet/pmma复合板、pc/pet复合板、pc/pet/pmma复合板、无机纤维树脂板等。壳体本体210的透光率大于或等于85％，具体地，可以为不限于为85％、88％、90％、91％、92％、93％、94％、95％、96％等。可选地，壳体本体210的厚度为0.25mm至1mm；具体地，可以为但不限于为
0.25mm、 0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm等。可选地，当壳体本体210为无机纤维树脂板时，无机纤维树脂板的厚度为0.25mm至 0.4mm，具体地，可以为但不限于为0.25mm、0.28mm、0.3mm、0.32mm、0.35mm、 0.37mm、0.4mm等。
108.可选地，无机纤维树脂板的原料组分包括但不限于包括无机纤维布及可聚合树脂。可聚合树脂可以为但不限于为环氧树脂(例如双酚a环氧树脂)、酚醛树脂、聚酯树脂、热塑性树脂等。无机纤维树脂板通过将无机纤维布浸泡至可聚合树脂中，经固化后，形成一层或多层层叠设置的无机纤维树脂板。无机纤维树脂板具有较好的机械强度，因此，当用无机纤维树脂板作为基材时，可以将壳体组件200做得更薄，提高用户的使用体验。无机纤维布可以为但不限于为玻璃纤维、碳纤维石英玻璃纤维、硼纤维、陶瓷纤维、金属纤维中的一种或多种形成的无机纤维布。无机纤维树脂板具有较好的机械强度，因此，当用无机纤维树脂板作为壳体本体210时，可以将壳体组件200做得更薄，提高用户的使用体验。
109.可选地，粘胶层230可以为透明或半透明的。粘胶层230的原料组分可以为但不限于为热熔胶、热固性胶水、uv胶水等。热熔胶可以为但不限于为热塑性聚氨酯热熔胶。热固性胶水可以为但不限于为聚氨酯热固胶。uv胶水包括但不限于包括聚氨酯丙烯酸酯。粘胶层230的厚度为10μm至50μm，具体地，可以为但不限于为10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、 45μm、50μm等。当粘胶层230的原料组分为热熔胶时，粘胶层230的厚度可以为30μm至50μm。当粘胶层230的原料组分为热固性胶水或uv胶水时，粘胶层230的厚度可以为10μm至20μm。
110.关于炫彩纹理膜100的详细描述，请参见上述实施例对应部分的描述，在此不再赘述。
111.请参见图15，本技术实施例还提供一种电子设备300，其包括：显示组件310，用于显示；本技术实施例所述的壳体组件200，所述壳体组件200与所述显示组件310围合成容置空间301；以及电路板组件330，所述电路板组件330 设置于所述容置空间，且与所述显示组件310电连接，用于控制所述显示组件 310进行显示。
112.本技术实施例的电子设备300可以为但不限于为手机、平板、笔记本电脑、台式电脑、智能手环、智能手表、电子阅读器、游戏机等便携式电子设备300。
113.关于壳体组件200的详细描述，请参见上述实施例对应部分的描述，在此不再赘述。
114.可选地，所述显示组件310可以为但不限于为液晶显示组件、发光二极管显示组件(led显示组件)、微发光二极管显示组件(microled显示组件)、次毫米发光二极管显示组件(miniled显示组件)、有机发光二极管显示组件 (oled显示组件)等中的一种或多种。
115.请一并参见图16，可选地，电路板组件330可以包括处理器331及存储器 333。所述处理器331分别与所述显示组件310及存储器333电连接。所述处理器331用于控制所述显示组件310进行显示，所述存储器333用于存储所述处理器331运行所需的程序代码，控制显示组件310所需的程序代码、显示组件 310的显示内容等。
116.可选地，处理器331包括一个或者多个通用处理器331，其中，通用处理器 331可以是能够处理电子指令的任何类型的设备，包括中央处理器(centralprocessing unit,cpu)、微处理器、微控制器、主处理器、控制器以及asic 等等。处理器331用于执行各种类型的数字存储指令，例如存储在存储器333 中的软件或者固件程序，它能使计算设备提供较
宽的多种服务。
117.可选地，存储器333可以包括易失性存储器(volatile memory)，例如随机存取存储器(random access memory，ram)；存储器也可以包括非易失性存储器 (non-volatilememory，nvm)，例如只读存储器(read-only memory，rom)、快闪存储器(flash memory，fm)、硬盘(hard disk drive，hdd)或固态硬盘 (solid-state drive，ssd)。存储器333还可以包括上述种类的存储器的组合。
118.在本文中提及“实施例”“实施方式”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本技术的一个或多个实施例中。在说明书中的各个位置出现所述短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
119.最后应说明的是，以上实施方式仅用以说明本技术的技术方案而非限制，尽管参照以上较佳实施方式对本技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本技术的技术方案进行修改或等同替换都不应脱离本技术技术方案的精神和范围。

技术特征：

1.一种炫彩纹理膜，其特征在于，包括：基底层；纹理层，设置于所述基底层的表面，所述纹理层远离所述基底层的表面包括间隔设置的多个纹理部，所述多个纹理部使所述纹理层具有多个雾度；以及镀膜层，设置于所述纹理层远离所述基底层的表面。2.根据权利要求1所述的炫彩纹理膜，其特征在于，沿第一方向，所述纹理层的纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个呈渐变变化，以使所述纹理层的雾度沿第一方向呈渐变变化。3.根据权利要求2所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理层包括相对设置的第一端和第二端，所述纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个自所述第一端向所述第二端呈渐变变化，以使所述纹理层的雾度自所述第一端向所述第二端呈渐变变化，其中，所述第一方向为所述第一端和所述第二端的排列方向；或者，所述纹理层包括间隔设置的第一位置和第二位置，所述第一位置靠近所述纹理层的外周，所述第二位置相较于所述第一位置远离所述纹理层的外周，所述纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个自所述第一位置向所述第二位置呈渐变变化，以使所述纹理层的雾度自所述第一位置向所述第二位置呈渐变变化，其中，所述第一方向为自所述第一位置向所述第二位置延伸的方向。4.根据权利要求1所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理层包括多个纹理区，每个所述纹理区包括多个间隔设置的所述纹理部，任意相邻的两个所述纹理区的纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个不同，以使所述多个纹理区具有不同的雾度。5.根据权利要求4所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述多个纹理区包括相邻的第一纹理区和第二纹理区，所述第一纹理区与所述第二纹理区的雾度之差大于或等于20％时，所述多个纹理区还包括过渡纹理区，所述过渡纹理区位于所述第一纹理区和第二纹理区之间且分别连接所述第一纹理区与所述第二纹理区，所述过渡纹理区的纹理部的密度、宽度、高度或深度中的一个或多个呈渐变变化，以使所述过渡纹理区的雾度沿第二方向，由第一纹理区的雾度逐渐变化至第二纹理区的雾度，其中，所述第二方向为所述第一纹理区与所述第二纹理区的排列方向。6.根据权利要求4所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理层包括镜面区，所述镜面区与一个或多个所述纹理区相连，所述镜面区的雾度小于5％，以使得所述纹理层的所述镜面区呈镜面效果。7.根据权利要求1所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理部为凸起部或凹陷部中的一种或多种，当所述纹理部为凸起部时，所述凸起部的高度为1μm至5μm；当所述纹理部为凹陷部时，所述凹陷部的深度为1μm至5μm；相邻两个所述纹理部之间的间距为0.5μm至12μm；所述纹理部的宽度为500nm至2000nm。8.根据权利要求7所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述纹理部的形状为半球形、半椭球形、棱锥形、圆锥形中的一种或多种。9.根据权利要求1所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述镀膜层包括层叠设置的多层真空镀膜，所述镀膜层的厚度为10nm至5000nm，每层所述真空镀膜的厚度为3nm至140nm。
10.根据权利要求1-5、7-9任意一项所述的炫彩纹理膜，其特征在于，所述炫彩纹理膜还包括盖底层，所述盖底层设置于所述镀膜层远离所述基底层的表面。11.一种壳体组件，其特征在于，包括：壳体本体；粘胶层，所述粘胶层设置于所述壳体本体的表面；以及权利要求1至10任意一项所述的炫彩纹理膜，所述炫彩纹理膜设置于的粘胶层远离所述壳体本体的表面，并通过所述粘胶层粘合于所述壳体本体，所述基底层相较于所述镀膜层靠近所述壳体本体设置。12.一种电子设备，其特征在于，包括：显示组件，用于显示；权利要求11所述的壳体组件，所述壳体组件与所述显示组件围合成容置空间；以及电路板组件，所述电路板组件设置于所述容置空间，且与所述显示组件电连接，用于控制所述显示组件进行显示。

技术总结

本申请提供一种炫彩纹理膜、壳体组件及电子设备。所述炫彩纹理膜包括：基底层；纹理层，设置于所述基底层的表面，所述纹理层远离所述基底层的表面包括间隔设置的多个纹理部，所述多个纹理部使所述纹理层具有多个雾度；以及镀膜层，设置于所述纹理层远离所述基底层的表面。本申请实施例的炫彩纹理膜具有渐变的纹理及钻石光芒的炫彩效果。及钻石光芒的炫彩效果。及钻石光芒的炫彩效果。