用于科里奥利流量计的测量传感器的制作方法

1.本发明总体上涉及包括电磁辐射源和相应检测器的组件。这种组件可以用在科里奥利流量计中，并且更具体地，可以用在科里奥利流量计的改进的运动检测中。科里奥利流量计也可以称为科里奥利质量流量计。

背景技术：

2.描述本发明时特别关注液相谱(lc)以及更具体地高效液相谱(hplc)中质量流率的测量。然而，应理解，本技术也可以用于质量流率的精确测量具有优势的其他应用的背景下，例如在μl/min至ml/min范围内的高压和体积流率。
3.谱法的原理是基于将利用采样单元的样品注射到流体路径中，其中由泵提供的流动相(例如，包括液体溶剂)将样品输送至包括固定相(例如，固体多孔材料)的谱柱并通过该谱柱。样品中各个组分的分离取决于组分、固定相和流动相之间的相互作用。组分与固定相的相互作用越强，流动相将其从谱柱中洗脱出来可能花费的时间就越长。这些相互作用是组分的特征，并且因此导致组分的相应特征保留时间，这取决于特定条件(例如，流动相和固定相的组成)。通常，流动相的组成可能会随着时间而改变。溶剂混合可以在泵送之前进行，或者可以通过合并两个高压泵的流量来进行。通过分离柱后，可以检测和/或分离所述组分以供后续使用。
4.目前，分析型hplc系统的流率以及还有流动相的组成可能仅通过泵的操作来控制，如通过活塞移动来控制。也就是说，可以在每个泵冲程期间测量活塞移动，并且可以考虑到基于活塞移动的泵室中的置换体积来推断出产生的流率。然而，这通常会导致对所有相关部件的密封性提出非常高的要求。否则，活塞移动可能无法提供良好的测量，因为流体可能会泄漏出来，并且因此不会有助于流率。然而，这可能导致泵的设计更加复杂和精细，以及对所涉及的材料的更高要求。
5.此外，流体的可压缩性和热膨胀需要补偿，因为它们会影响从置换体积推断出的流率。热膨胀不仅可能由于环境温度的变化而发生，还可能由于泵送过程期间的绝热加热而发生。因此，从活塞位移推断流率可能需要对所述流体特性进行仔细校准，并且因此可能需要对所述流体特性有很好的了解，例如，当使用溶剂梯度时，即当流动相的组成随时间变化时，这会尤其困难。
6.反过来，如果可以测量流率，则可以校正泵的缺陷，并且因此可以放宽对泵的准确度要求。
7.主要有可以用于hplc应用中的流量测量的三种不同类型的传感器：热式质量流量计、超声波流量计和科里奥利质量流量计。目前，低流量hplc主要使用热式质量流量计。不同的传感器类型中的每一种都具有一定的优点和缺点。例如，热式质量流量计和超声波流量计可能取决于流体的特性，并且因此也需要仔细校准。使用科里奥利质量流量计的一个特别的优点是它对通过传感器的质量流量提供线性响应，并且它与流体特性无关。此外，它还可以方便地测量流体的密度，不依赖于质量流量测量。换言之，科里奥利质量流量计是线
性的且与溶剂无关，并且还可以测量密度，这反过来也允许确定体积流率。与目前控制体积流量的分析型hplc泵不同，如果质量流率保持恒定，则保留时间可以保持稳定，不受环境温度的影响。换言之，测量质量流率而不是体积流量可能是有利的，因为这可以使保留时间稳定不受环境温度影响，即无需进一步考虑和/或控制系统的环境温度。因此，可能期望具有由科里奥利质量流量计固有提供的对质量流率的测量。
8.在科里奥利质量流量计中，通常可以迫使流体流以非直线方式移动通过至少一个管，至少一个管可以包括弯曲或直管几何形状。所述至少一个管被迫振荡，并且由于其旋转流动，液体通过科里奥利力对该至少一个管产生扭转。可以通过在至少两个位置测量管的位移来测量扭转，其中一个位置可以在上游，而另一个位置可以沿流动方向在该管的中心的下游。优选地，所述两个位置沿流动方向围绕所述管的中心对称设置。因此，扭转可能导致在两个位置测量到的整体振荡之间的相移。基于测量得到的扭转，例如测量得到的相移，可以确定质量流率。此外，振荡频率的变化可以允许测量流体的密度，因为管的固有频率取决于管和所包含流体的质量。因此，其允许测量流体质量，并基于已知的管体积测量流体密度。
9.也就是说，在科里奥利质量流量计中，测量管的移动。这可以例如通过加速度传感器、力传感器、电磁地、电容地、干涉地或通过常规光学器件来实现。对于这些测量方法中的一些，附加部件也可以附接至管。这对于低流率所需的细管可能特别不利，因为振动质量可能显著增加。例如，这可能会降低质量流量计的准确度。
10.然而，光学测量可以允许对测量管的移动的测量，而不需要将附加部件附接至其。特别地，从ep 1 719 982 b1和ep 1 719 983 b1中可知，可以通过叉形光障进行对管的测量。
11.叉形光障可以实现以非常高的空间和时间分辨率测量管的位置。此外，可以使用直接附接至管以遮蔽光障的非常小的挡光件来进行这种光学测量。或者，根据管，甚至可以放弃使用挡光件，而是改为使用管本身进行遮蔽，这可能是有利的。
12.然而，一个缺点是光电屏障会局部加热管。通常，发光二极管(led)可以用作叉形光障中的光源，对于该光源，仅有约10％的电能可以被转换成可用的光，而其余的电能可以作为热直接排放到环境中。虽然这种效应可能与用于高流率的粗管无关，但这种效应可能相当于在细管中几摄氏度的变化，正因为如此，可以用于测量hplc应用中使用的低流率。然而，温度的变化可能导致大多数管材的杨氏模量降低，并且因此导致共振频率降低。此外，通过管的液体流动可能导致其冷却。因此，用于密度测量的共振频率取决于流率。此外，如果流率非常低，也会对流率测量产生不利的影响，因为通过流体的热传输可能会导致不对称的温度分布。因此，所得的不均匀杨氏模量可以模拟科里奥利力。
13.由于所讨论的问题，目前可能没有能够以足够的准确度在所需流率和压力范围内(例如适用于hplc)测量流体流量的商用传感器。

技术实现要素：

14.鉴于以上所述，目的是克服或至少减轻现有技术的缺点和不足。更具体地，本发明的目的是提供一种改进的位置测量，例如用于科里奥利流量传感器的振荡管的改进的位置测量。
15.本发明实现了这些目的。
16.在第一实施方式中，本发明涉及一种组件，包括：电磁辐射源；检测器组件，其包括用于电磁辐射的检测器，其中该检测器组件包括被定位以接收来自源的电磁辐射的至少一部分的检测器组件接收端，其中在检测器组件接收端处接收的电磁辐射的至少一部分被检测器接收；以及源光学元件，其被配置成将在源光学元件的接收端处接收的电磁辐射传输至源光学元件的发射端，其中接收端被配置成接收源的电磁辐射，并且发射端被配置成发射所传输的电磁辐射。发射端与检测器组件接收端之间的光路限定第一方向，并且组件还包括管组件，管组件包括管的一部分，其中管组件沿第一方向被定位在发射端与检测器组件接收端之间，其中管组件能够移动以改变其位置，并且其中检测器接收的电磁辐射的量取决于管组件的位置。
17.换言之，根据本发明的组件包括电磁辐射的源、包括用于电磁辐射的检测器的检测器组件、被配置成传输电磁辐射的源光学元件以及包括管的一部分的管组件。
18.这些元件被布置成使得由源发出的电磁辐射例如光被源光学元件的接收端接收，所述源光学元件被配置成将电磁辐射传输至其发射端。源光学元件的发射端发射所传输的电磁辐射，即所传输的电磁辐射通过源光学元件传输后，在发射端离开源光学元件。一般来说，由于在源光学元件内以及当耦合进和/或耦合出源光学元件时发生的损耗，并非在接收端接收的所有电磁辐射都可以被传输。
19.检测器组件包括检测器组件接收端，其通常被定位以接收来自源的电磁辐射的至少一部分。例如，在检测器组件仅包括检测器的情况下，检测器组件接收端可以例如是检测器的检测区域。因此，检测器组件接收端可以被布置成使得由源光学元件发射的电磁辐射的至少一部分被检测器组件接收端接收。因此，源的电磁辐射在检测器组件接收端被接收，并且第一方向(x)由源光学元件的发射端与检测器组件接收端之间的光路限定。
20.因此，在源光学元件的发射端与检测器组件接收端之间不存在任何物体的情况下，检测器可以接收源的电磁辐射的至少一部分。应当理解，术语“接收来自源的电磁辐射的至少一部分”不限于直接接收来自源的电磁辐射，而是包含首先通过其它元件例如源光学元件的电磁辐射。也就是说，通过源光学元件传输、随后在源光学元件的发射端发射/释放、然后由检测器组件接收端接收的源的电磁辐射是由检测器组件接收端接收的来自源的电磁辐射。
21.然而，管组件沿第一方向被定位在发射端与检测器组件接收端之间，并且因此可以阻挡部分电磁辐射。所述管组件能够移动以改变其位置，使得由检测器组件接收端(以及因此检测器)接收的电磁辐射的量取决于管组件的位置。
22.也就是说，由于根据本发明的部件的布置，检测器接收到的电磁辐射可以指示管组件的位置。此外，源光学元件可以有利地允许增加源与管组件之间的距离和/或显著减少由源产生的到达管组件的热量，并且因此防止管组件受到不必要和不需要的加热。
23.在一些实施方式中，检测器组件还可以包括检测器光学元件，该检测器光学元件被配置成将在检测器光学元件接收端处接收的电磁辐射传输至检测器光学元件发射端，其中检测器光学元件接收端可以构成检测器组件接收端并且可以被配置成接收由源光学元件的发射端发射的电磁辐射。此外，检测器光学元件发射端可以被配置成发射所传输的电磁辐射，并且检测器可以被配置成接收由检测器光学元件发射端发射的电磁辐射的至少一
部分。
24.也就是说，在一些实施方式中，检测器组件可以包括检测器光学元件，该检测器光学元件通常可以是与构成源光学元件的光学元件类似的光学元件。可以被配置成接收电磁辐射的检测器光学元件接收端、即检测器光学元件的接收端可以构成检测器组件接收端。检测器光学元件可以被配置成传输在其接收端接收到的电磁辐射，并随后在其发射端发射所传输的电磁辐射——即已通过检测器光学元件传输的所接收的电磁辐射的一部分，所述检测器光学元件可以通常被定位成使得所发射的电磁辐射(例如光)的至少一部分可以被检测器接收。因此，与源类似，检测器可以放置在距管组件一定距离处，这可以有利于允许在设计整体组件时提供更大的灵活性。
25.源光学元件和/或检测器光学元件可以是用于电磁辐射的波导管。更具体地，在一些实施方式中，源光学元件和/或检测器光学元件可以是光导管。光导管通常也可以称为光管。可替选地，源光学元件和/或检测器光学元件可以是光纤。
26.例如，在一些实施方式中，源光学元件可以是光导管，而检测器光学元件可以是光纤。在其他实施方式中，这两种光学元件(即，源光学元件和检测器光学元件)可以是光导管，或者这两种光学元件可以是光纤。或者，在一些实施方式中，组件仅包括源光学元件，该源光学元件例如可以是光纤或光导管或任何其他类型的波导管。
27.在一些实施方式中，源光学元件和/或检测器光学元件可以是透镜，优选地可以是凸透镜。同样，例如，源光学元件和检测器光学元件中的一者可以是透镜，而另一者可以是一种波导管。类似地，在一些实施方式中，这两种光学元件可以是透镜，而在一些实施方式中，组件仅包括源光学元件，其例如可以是透镜。
28.源光学元件和/或检测器光学元件可以被配置成以至少一种透射波长透射，其中至少一种透射波长中的至少一种在200nm至5000nm的范围内，优选地在400nm至2000nm的范围内，更优选地在700nm至1000nm的范围内，例如830nm、850nm或940nm。
29.在一些实施方式中，源光学元件和/或检测器光学元件可以将在2.2μm至10μm范围内，优选地在2μm至50μm范围内，更优选地在2μm至100μm范围内的波长(例如，大于2μm的所有波长)的至少90％，优选地至少95％，更优选地至少99％的透射抑制至少10倍，优选地至少100倍。也就是说，源光学元件和/或检测器光学元件可以将包括在2.2μm至10μm范围内，优选地在2μm至50μm范围内，更优选地在2μm至100μm范围内的波长(例如，大于2μm的所有波长)的电磁辐射的相当一部分(例如，至少90％，至少95％或至少99％)衰减至少10倍，优选地至少100倍。在一些实施方式中，源光学元件和/或检测器光学元件可以将在2.2μm至10μm范围内，优选地在2μm至50μm范围内，更优选地在2μm至100μm范围内的波长(例如，大于2μm的所有波长)的透射至少抑制至少10倍，优选地至少100倍。也就是说，源光学元件和/或检测器光学元件可以将包括在2.2μm至10μm范围内，优选地在2μm至50μm范围内，更优选地在2μm至100μm范围内的波长(例如，大于2μm的所有波长)的电磁辐射的相当一部分(例如，至少90％，至少95％或至少99％)衰减至少10倍，优选地至少100倍。换言之，源光学元件和/或检测器光学元件可以被配置成基本上不透射(例如，主要吸收或反射)至少在2.2μm至10μm范围内，优选地在2μm至50μm范围内，更优选地在2μm至100μm范围内的波长(例如对于大于2μm的所有波长)的电磁辐射。例如，源光学元件和/或检测器光学元件可以包括聚甲基丙烯酸甲酯，也称为pmma。在一些实施方式中，源光学元件和/或检测器光学元件可以将在2.2μm至
10μm范围内，优选地在2μm至50μm范围内，更优选地在2μm至100μm范围内的波长(例如，大于2μm的所有波长)的透射至少抑制至少10倍，优选地至少100倍。也就是说，在一些实施方式中，源光学元件和/或检测器光学元件可以抑制各个波长的100％的透射。例如，铟锡氧化物与pmma的组合可能包括这样的特性。
30.通常，当将相应波长的透射抑制至少100倍时，也可以认为材料或元件对于某些波长是不透光的。然而，应当理解，吸收或透射的抑制可能取决于波长和材料厚度。例如，每微米材料厚度的“不透光”材料可以使光衰减10倍，因此对于1毫米材料厚度可以使光衰减10
1000
倍。
31.然而，10倍衰减已经可以为本发明提供有利的效果。
32.管的部分可以包括内径。也就是说，管组件包括的该管的该部分可以包括内径。内径可以在0.02mm至1mm的范围内，优选地在0.1mm至0.4mm的范围内，更优选地在0.15mm至0.2mm的范围内。类似地，管的部分可以包括外径。外径可以在0.2mm至2mm的范围内，优选地在0.3mm至0.8mm的范围内，更优选地在0.3mm至0.5mm的范围内。
33.管组件还可以包括挡光件，其中挡光件附接至所述管的所述部分。该挡光件可以被配置成阻挡由源发射的电磁辐射。也就是说，挡光件可以被配置成至少对于包括由源发射的电磁辐射的光谱的一部分是不透光的。通常，例如，挡光件可以是任何一种可以附接至所述管的所述部分的片材、板和/或盖，以有利地提供更明确的边缘和/或截面，以在管组件移动时，改变检测器组件接收端并因此检测器接收的电磁辐射量。同样，对一部分光谱“不透光”指的是将所述部分光谱的透射抑制至少100倍。
34.源可以是发光二极管(led)。例如，源可以是红外led(ir-led)。该红外led可以被配置成以发射波长发射电磁辐射，其中发射波长在700nm至1400nm的范围内，优选地在800nm至1000nm的范围内。也就是说，ir-led可以被配置成发射近红外电磁辐射，例如波长为810nm、830nm、850nm、875nm、880nm、885nm、890nm、940nm或950nm的电磁辐射。
35.通常，源可以被配置成提供具有如下带宽的电磁辐射，所述带宽足够宽而不会产生干涉条纹或尖锐的衍射条纹。通常，可以选择源和检测器以使它们装配在一起，例如匹配，或更一般地，使得源提供的电磁辐射与检测器可以接收和/或检测到的电磁辐射之间存在显著的交叠。
36.源可以包括发射功率并且其中发射功率可以在5mw/sr至500mw/sr的范围内，优选地在20mw/sr至200mw/sr的范围内，更优选地在50mw/sr至100mw/sr的范围内。
37.源与管组件之间的最小距离可以是至少10mm，优选地至少20mm，更优选地至少30mm。也就是说，源可以位于距管组件至少10mm的位置，其中电磁辐射借助于源光学元件被传输至管组件。因此，与其中源更靠近管组件并且特别是其中不存在源光学元件的组件相比，可以有利地大大减少从源传递至管组件的热量。
38.检测器可以是光电检测器。也就是说，检测器通常可以是电磁辐射的传感器，其也可以称为光敏传感器。
39.检测器可以包括光电二极管。因此，检测器通常可以包括将电磁辐射转换成电流的半导体器件。光电二极管可以是pin光电二极管、钉扎光电二极管或雪崩光电二极管(apd)之一。在一些实施方式中，检测器可以包括光电二极管阵列。
40.检测器可以包括光电晶体管，例如场效应光电晶体管。
41.检测器可以包括有源像素传感器，优选地是cmos传感器。
42.检测器可以包括电荷耦合器件(ccd)。
43.在一些实施方式中，组件还可以包括至少一个孔。至少一个孔中的至少一个可以沿第一方向(x)定位在发射端与管组件之间。另外或可替选地，至少一个孔中的至少一个可以沿所述第一方向(x)定位在管组件与检测器组件接收端之间。
44.至少一个孔中的至少一个可以是光阑。也就是说，孔可以是在其中心具有开口的薄的不透光结构，例如虹膜光阑。此外，至少一个孔中的至少一个可以是针孔和/或至少一个孔中的至少一个可以是狭缝。
45.在一些实施方式中，所述管的所述部分可以被配置成承受被引导通过该管的该部分的流体的流体压力，该流体压力至少为50巴，优选地至少为500巴，更优选地至少为1000巴，例如至少为1500巴。
46.所述管的所述部分可以被配置成用于流体在管内的流率至少在50μl/min至5ml/min的范围内，优选地至少在1μl/min至10ml/min的范围内，更优选地至少在100nl/min至10ml/min的范围内。
47.所述管的所述部分可以由金属或玻璃制成。例如，所述管及其部分也可以由金属或玻璃制成。例如，金属可以是钢、钛、钛合金、锆或co-cr-ni合金中的一种，优选316不锈钢、ti6al4v、或哈氏合金玻璃可以是熔融石英。
48.检测器可以被配置成提供指示由检测器接收的电磁辐射的检测器数据。也就是说，例如，检测器可以提供对应于或指示由检测器接收的电磁辐射的量的数据。例如，检测器可以提供相应的模拟信号或数字信号。
49.在另一实施方式中，本发明涉及科里奥利流量计系统，其中科里奥利流量计系统包括多个如上所述的组件。此外，科里奥利流量计系统包括管，其中相应组件的相应管组件的管的每个部分是科里奥利流量计系统的管的一部分。
50.也就是说，流量计系统通常可以包括至少两个如上所述的组件，每个组件包括相应管组件。这些管组件各自包括管的相应部分，所述相应部分是科里奥利流量计系统的管的一部分。因此，每个管组件包括同一管的不同部分。
51.科里奥利流量计系统可以被配置成确定被引导通过管的流体的质量流率。此外，科里奥利流量计系统可以被配置成确定被引导通过管的流体的密度。流体的密度通常可以取决于压力和温度。
52.科里奥利流量计可以被配置成确定被引导通过管的流体的体积流率。在一些实施方式中，科里奥利流量计可以被配置成基于密度和质量流率来确定流体的体积流率。也就是说，可以基于测量的质量流率和测量的密度来确定体积流率。例如，可以在环境压力和温度下测量一次密度，并且可以在整个后续流量测量过程中使用获得的值，以将测量的质量流量转换为体积流量。可替选地，例如可以定期测量密度，或者甚至在每次测量质量流率时测量密度。
53.科里奥利流量计系统可以被配置成至少在50μl/min至5ml/min的完整范围内，优选地在1μl/min至10ml/min的完整范围内，更优选地在100nl/min至10ml/min的完整范围内，确定流体的体积流率。另外或可替选地，科里奥利流量计系统可以被配置成以至少1％、优选地至少0.1％、更优选地至少0.01％或至少10nl/min的准确度在1μl/min至5ml/min的
范围内确定流体的体积流率，无论哪个都对应于较高的绝对流率值。也就是说，只要准确度的相应绝对流率值大于10nl/min，就可以至少以至少1％、优选地至少0.1％、更优选地至少0.01％的相对准确度来确定流率。因此，科里奥利流量计系统可以有利地被配置成在不同流率的大范围内和/或以高准确度确定体积流率，特别是对于hplc系统中的最先进的流量传感器。
54.类似地，科里奥利流量计系统可以被配置成至少在1mg/min至5g/min的完整范围内，优选地在1mg/min至10g/min的完整范围内，更优选地在100μg/min至10g/min的完整范围内，确定流体的质量流率。另外或可替选地，科里奥利流量计系统可以被配置成以至少1％、优选地至少0.1％、更优选地至少0.01％或至少10μg/min的准确度在50mg/min至5g/min的范围内，确定流体的质量流率，无论哪个都对应于较高的绝对流率值。同样，这应理解为，可以至少以至少1％、优选地至少0.1％、更优选地至少0.01％的相对准确度确定流率，只要准确度的相应绝对流率值大于10μg/min。
55.一般来说，应理解科里奥利流量计系统的测量范围可以达到远到0或者甚至小的负流量。
56.科里奥利流量计系统可以包括被配置成引起管的移动的至少一个致动器。所述致动器可以被配置成引起管的振荡。此外，所述致动器可以包括致动频率，并且所述致动频率可以在1hz至5khz的范围内，优选地在10hz至1khz的范围内。
57.至少一个致动器可以包括电磁线圈和/或压电晶体中的至少一种。也就是说，例如，至少一个致动器可以包括电磁线圈，以利用电磁力引起管的移动，并且优选地引起管的振荡。可以通过使交流电(ac)通过电磁线圈来提供交流电磁场。可替选地，至少一个致动器可以包括压电晶体，即可以在应归于由于反向压电效应而施加的电场的应力下变形的压电晶体。因此，例如可以通过施加交流电场来提供压电晶体的周期性变形。这种周期性变形可以用于引起管的移动并且优选地引起管的振荡。
58.科里奥利流量计系统可以被配置成提供指示所确定的质量流率的质量流量数据。另外或可替选地，科里奥利流量计系统可以被配置成提供指示所确定的密度的密度数据和/或指示所确定的体积流率的体积流量数据。换言之，科里奥利流量计系统可以提供指示所确定的质量流率、体积流率和/或密度的相应数据。此类数据可以是数字的或模拟的。例如，科里奥利流量计系统可以提供指示所确定的值的数字信号或模拟信号。因此，其他器件和部件可以方便地获取所述数据，并且因此获得关于科里奥利流量计系统所确定的流体的流率和/或密度的信息。
59.科里奥利流量计系统可以包括数据处理单元。数据处理单元可以例如包括中央处理单元(cpu)、图形处理单元(gpu)和/或微处理器。也就是说，数据处理单元通常可以被配置成处理数据，优选地是被配置成处理数字数据。数据处理单元可以包括数字信号处理器。
60.在一些实施方式中，数据处理单元可以被配置成基于多个组件的检测器数据确定质量流率。另外或可替选地，数据处理单元可以被配置成基于多个组件的检测器数据确定密度。
61.此外，在一些实施方式中，数据处理单元可以被配置成基于多个组件的检测器数据确定体积流率。例如，数据处理单元可以被配置成基于质量流率和密度来确定体积流率。
62.科里奥利流量计系统可以被配置成确定多个组件中的每一个的相应管组件的位
置。也就是说，科里奥利流量计系统通常可以被配置成确定相对于参考位置——例如其中管组件不受干扰且不运动的位置——的管组件的相对位置。例如，管组件的移动可以改变检测器接收到的源的电磁辐射的量。也就是说，管组件可以在源光学元件的发射端与检测器组件接收端之间的光路内移动，并因此阻挡一些(或没有，或全部)电磁辐射到达检测器组件接收端。因此，到达检测器的电磁辐射的量可以指示管组件的位置并因此允许确定其位置。
63.科里奥利流量计系统可以被配置成确定多个组件中的每一个的相应管组件的振荡相位和/或频率。例如，基于对管组件在不同时间的位置测量，可以测定管组件的振荡频率和/或相位。
64.数据处理单元可以被配置成基于多个组件的检测器数据确定多个组件中的每一个的相应管组件的振荡相位和/或频率。
65.数据处理单元可以被配置成基于多个组件的检测器数据确定组件中的每一个的管组件在垂直于第一方向(x)的方向上的相应位置。应当理解，对于系统所包括的多个组件中的每一个，所提及的第一方向(x)可以基于在系统内的相对位置而相对于彼此在不同的方向上取向。
66.此外，数据处理单元可以被配置成控制至少一个致动器。
67.在另一实施方式中，本发明涉及一种溶剂输送系统，其被配置成提供至少两种溶剂的混合物，该溶剂输送系统包括至少两个泵单元、混合器以及至少两个如上所述的科里奥利流量计系统。
68.例如，泵单元可以指单独的泵或泵的单独的泵通道，例如包括两个泵头的泵，其中每个泵头提供单独的流体流。非常一般地，泵单元可以包括一个或多个活塞，诸如双活塞泵。混合器可以被设计成为提供给该混合器的流体提供纵向和/或横向混合。
69.每个泵单元可以包括输入端和输出端，其中每个泵单元的输入端被配置成分别流体式连接至至少一个溶剂储存器，并且其中每个泵单元的输出端分别流体式连接至混合器。因此，每个泵单元可以被配置成在输入端抽取溶剂并在输出端提供加压溶剂，该加压溶剂可以从输出端被引导至混合器，例如以与由其他泵单元提供的溶剂混合。通常，溶剂输送系统可以例如是lc、hplc和/或uhplc的二元泵。
70.此外，至少两个科里奥利流量计系统中的每一个可以流体式连接至不同的泵单元。例如，如果溶剂输送系统包括两个泵单元和两个科里奥利流量计系统，则这些科里奥利流量计系统中的每一个可以连接至这两个泵单元中的不同泵单元。因此，在该实施方式中，科里奥利流量计系统可以允许单独确定每个泵单元提供的流量。优选地，至少两个科里奥利流量计系统中的每一个可以分别位于相应泵单元的下游和混合器的上游。换言之，科里奥利流量计系统可以位于泵单元与混合器之间。因此，在泵单元的输出端提供的溶剂流可以首先被引导通过科里奥利流量计系统，在该系统中可以测量由泵提供的流量，然后将其送入混合器。
71.溶剂输送系统可以被配置成基于由相应的科里奥利流量计系统测量的流率来控制泵单元。例如，用科里奥利流量计系统测量的流量可以用于向泵单元提供反馈并调节泵单元以提供所需的流量，例如通过调节活塞速度、其频率和/或活塞在一个冲程中的排量。因此，由科里奥利流量计系统提供的数据可以作为反馈回路中的误差信号用于泵，例如通
过pid控制器。此外，溶剂输送系统可以被配置成通过基于相应科里奥利流量计系统测量的流率控制泵单元来以期望的比率提供至少两种溶剂的混合物。换言之，科里奥利流量计系统可以有利地允许基于提供给混合器的相应溶剂的流率来控制溶剂的混合比率。
72.溶剂输送系统可以是高压梯度泵。
73.溶剂输送系统可以被配置成提供在50μl/min至2ml/min范围内的体积流率，优选地在50μl/min至10ml/min范围内的体积流率。
74.对于包括至少1％的每种贡献溶剂的溶剂混合物，溶剂输送系统可以被配置成提供准确度至少为1％、优选地至少为0.1％、更优选地至少为0.01％的溶剂混合物。也就是说，例如，对于溶剂a和b的溶剂混合物，其中溶剂混合物包括溶剂a和b中的每一种的至少1％。
75.溶剂输送系统可以被配置为工作压力超过250巴、优选地超过500巴、更优地选超过1000巴。
76.在一些实施方式中，溶剂输送系统还可以包括控制器。控制器可以可操作地连接至至少两个泵送单元和至少两个科里奥利流量计系统。此外，控制器可以被配置成基于由相应的科里奥利流量计系统提供的数据来控制由每个泵单元提供的流率。也就是说，控制器可以基于由相应的科里奥利流量计系统提供的数据来控制泵单元，从而提供期望的流率，其中流率可以是质量流率或体积流率。
77.由至少两个科里奥利流量计系统提供的数据可以包括检测器数据。控制器还可以被配置成基于检测器数据确定管组件的位置。例如，控制器可以确定管组件相对于固定参考点——例如当没有流体流过管组件和/或致动器没有引起移动时管组件的位置/定位——的位置(或定位)。
78.控制器可以被配置成基于由相应科里奥利流量计系统提供的数据确定每个泵单元的输出端处的流体的质量流率、密度和/或体积流率。
79.在一些实施方式中，由科里奥利流量计系统提供的数据可以包括质量流量数据、密度数据和/或体积流量数据中的一种或更多种。
80.控制器可以包括至少一个数据处理单元。在一些实施方式中，数据处理单元可以包括数字信号处理器。
81.控制器可以被配置成控制溶剂输送系统。
82.溶剂输送系统还可包括至少两个溶剂储存器。
83.在另一实施方式中，本发明涉及一种谱系统，其中该谱系统包括至少一个组件、至少一个科里奥利流量计系统或至少一个如上所述的溶剂输送系统。所述谱系统可以是液相谱系统，并且优选地是高效液相谱系统。
84.谱系统可以包括至少一个如上所述的溶剂输送系统。应当理解，在该实施方式中，谱系统所包括的至少一个组件或至少一个科里奥利流量计系统还包括在如上所述的溶剂输送系统中。也就是说，谱系统可以包括溶剂输送系统，而溶剂输送系统又包括至少两个包括如上所述的组件的科里奥利流量计系统。
85.替选地，所述系统可以包括至少一个泵。所述至少一个泵可以被配置成提供至少在50μl/min至2ml/min的范围内、优选地在1μl/min至10ml/min的范围内的体积流率。另外地或替选地，所述至少一个泵可以包括至少在50巴至250巴、优选地至少在25巴至500巴、更
优选地至少在20巴至1500巴的工作压力范围。
86.所述至少一个组件中的每一个或所述至少一个科里奥利流量计系统中的每一个可以分别位于所述至少一个泵之一的下游。换言之，所述至少一个泵中的每一个可以位于所述至少一个组件之一或所述至少一个科里奥利流量计系统之一的上游。因此，所述至少一个组件或至少一个科里奥利流量计系统中的每一个可以分别流体式连接到所述至少一个泵上，并且还位于其下游。
87.至少一个组件中的每一个或至少一个科里奥利流量计系统中的每一个可以分别直接位于至少一个泵之一的下游。也就是说，所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统可以各自位于所述至少一个泵之一的下游，使得只有相应的流体连接件位于所述相应的泵和组件或科里奥利流量计系统之间。特别地，在所述相应的泵和组件或科里奥利流量计系统之间除了流体连接件(例如，管)之外可能没有其他系统部件。
88.所述谱系统还可以包括至少一个分离柱。所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统可以位于所述至少一个分离柱的上游。
89.在包括至少一个溶剂输送系统的实施方式中，所述至少一个分离柱可以在所述至少一个溶剂输送系统的下游。类似地，在包括至少一个泵的实施方式中，所述至少一个分离柱可以位于所述至少一个泵的下游。
90.所述谱系统还可以包括至少一个取样器。所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统可以位于所述至少一个取样器的上游。
91.在包括溶剂输送系统的实施方式中，所述至少一个取样器可以位于所述至少一个溶剂输送系统的下游。类似地，在包括至少一个泵的实施方式中，所述至少一个取样器可以位于所述至少一个泵的下游。
92.所述至少一个取样器可以位于所述至少一个分离柱的上游。
93.所述谱系统还可以包括至少一个分配阀，所述至少一个分配阀包括多个端口并且被配置成选择性地连接端口。所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统可以位于所述至少一个分配阀的上游。所述至少一个取样器中的每一个可以流体式连接到所述至少一个分配阀之一的端口。所述至少一个分配阀可以位于所述至少一个分离柱的上游。
94.所述谱系统还可以包括至少一个捕集柱。所述至少一个组件或至少一个科里奥利流量计系统可以位于所述至少一个捕集柱的上游。所述至少一个捕集柱可以位于所述至少一个分离柱的上游。
95.所述谱系统还可以包括至少一个定量环。所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统可以位于所述至少一个定量环的上游。所述至少一个定量环可以位于所述至少一个分离柱的上游。
96.所述谱系统还可以包括至少一个谱检测器。所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统可以位于所述至少一个谱检测器的上游。所述至少一个谱检测器可以位于所述至少一个分离柱中的至少一个的下游。
97.所述谱检测器可以是例如带电气溶胶检测器(cad)、蒸发光散射检测器、质谱仪(ms)、折射率检测器、多角度光散射检测器或荧光检测器中的一种。
98.所述谱系统还可以包括系统控制器。该系统控制器可以可操作地连接到所述至
少一个泵和所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统。
99.所述系统控制器可以被配置成：基于由所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据来控制由所述至少一个泵提供的体积流率。由所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据可以包括检测器数据。
100.所述系统控制器可以被配置成基于检测器数据来确定所述管组件的位置。此外，所述系统控制器可以被配置成：基于由所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据来确定质量流率、密度和/或体积流率。
101.在包括所述至少一个科里奥利流量计系统的实施方式中，由所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据可以包括质量流量数据、密度数据和/或体积流量数据中的至少一个。
102.所述系统控制器可以包括至少一个数据处理单元。
103.所述系统控制器可以被配置成控制所述谱系统。
104.所述谱系统可以被配置成：在至少高达50巴、优选地至少高达250巴、更优选地至少高达500巴、例如至少高达1000巴或1500巴的压力下工作。
105.在又一个实施方式中，本发明涉及一种方法，其中该方法使用如上所述的科里奥利流量计系统，其中该方法包括：引导由所述源发射的电磁辐射分别通过所述源光学元件并且沿所述科里奥利流量计系统包括的每个组件的检测器组件的方向。
106.也就是说，该方法包括：对于科里奥利流量计系统所包括的每个组件，引导所述源的电磁辐射沿所述检测器组件的方向通过所述源光学元件。因此，根据所述方法，所述源的电磁辐射由所述源光学元件的接收端接收，通过所述源光学元件被传输并且在该源光学元件的发射端处沿所述检测器组件的方向被发射，更具体地，沿所述检测器组件接收端的方向被发射。
107.所述方法可以包括使流体流过所述管。也就是说，可以通过所述科里奥利流量计系统的管——例如，通过泵或泵单元——引起流体流动。
108.所述方法还可以包括：在第一流动步骤中，使流体以在50μl/min至500μl/min、优选地50μl/min至150μl/min的范围内的流率流过所述管；以及在第二流动步骤中，使流体以在1ml/min至5ml/min、优选地2ml/min至5ml/min的范围内的流率流过所述管。因此，该方法可以包括：使流体以显著不同的流率(例如，低流率和高流率)流过所述管。流体的压力可以超过10巴，优选地超过100巴，更优选地超过500巴，例如超过1000巴。
109.该方法还可以包括：在致动频率下引起所述管的振荡。例如，可以使用包括线圈或压电晶体的致动器来引起所述管的振荡运动。致动频率可以在1hz至5khz的范围内，优选地在10hz至1khz的范围内。
110.该方法可以包括：检测到达所述多个组件的相应检测器的电磁辐射的量并生成对应的检测器数据。因此，生成的检测器数据可以指示到达所述相应检测器的电磁辐射的量。所述方法还可以包括：基于检测器数据来确定流率。例如，通过测量到达所述各个检测器的电磁辐射的量并通过比较所述科里奥利流量计系统的不同检测器的检测器数据，可以确定流率。
111.确定流率的步骤可以包括：确定质量流率和体积流率中的至少一个。此外，确定流率的步骤还可以包括：基于检测器数据来确定流体的密度。
112.另外地或替选地，确定流率的步骤可以包括：基于检测器数据来确定所述多个组件中的每个组件的管组件至少相对于与第一方向(x)垂直的方向的相应位置。应当理解的是，对于所述系统所包括的所述多个组件中的每个组件，提及的第一方向(x)可以基于系统内的相对取向而相对于彼此在不同的方向上被定向。
113.确定流率的步骤还可以包括：基于检测器数据来确定所述多个组件中的每个组件的管组件的相应振荡频率和/或相位。此外，确定流率的步骤可以包括：比较各个管组件的振荡的相位。通过比较各个管组件的振荡的相位，即沿着所述管的不同位置处的振荡的相位，就可以确定流率。这样的流率确定可以基于科里奥利力。
114.确定流体的密度可以包括：确定所述管组件的共振频率。也就是说，所述管组件的共振频率可能取决于该管组件和流体的总质量，并且由于所述管的内部流体体积是固定的，因此它可以允许确定流体的密度。
115.如上所述的科里奥利流量计系统可以被配置成执行如上所述的方法。所述科里奥利流量计系统的数据处理单元可以被配置成执行和/或控制上述方法步骤中的任何方法步骤。
116.在另一个实施方式中，本发明涉及一种通过(如上所述的)组件或(如上所述的)科里奥利流量计系统来确定被引导通过管的流体的质量流率和/或体积流率的用途。
117.所述用途可以用于谱法。所述用途可以用于液相谱法。此外，所述用途可以用于高效液相谱法。另外，所述用途可以用于超高效液相谱法。
118.下面，将参考组件实施方式。通过字母“a”后跟数字来简写这些实施方式。每当在本文中提及“组件实施方式”时，均意指这些实施方式。
119.a1.一种组件，包括：
120.电磁辐射的源(1)；
121.检测器组件(2)，所述检测器组件(2)包括用于电磁辐射的检测器(21),
122.其中，所述检测器组件(2)包括检测器组件接收端(22)，所述检测器组件接收端(22)被定位成接收来自所述源(1)的电磁辐射的至少一部分，
123.其中，在所述检测器组件接收端(22)处接收的所述电磁辐射的至少一部分被所述检测器(21)接收；
124.源光学元件(5)，所述源光学元件(5)被配置成：将在所述源光学元件(5)的接收端(51)处接收的电磁辐射传输至所述源光学元件(5)的发射端(52)，
125.其中，所述接收端(51)被配置成接收所述源(1)的电磁辐射，
126.其中，所述发射端(52)被配置成发射所传输的电磁辐射，以及
127.其中，第一方向(x)由所述发射端(52)和所述检测器组件接收端(22)之间的光路限定；
128.管组件(4)，所述管组件(4)包括管的一部分，其中，所述管组件(4)沿所述第一方向(x)被定位在所述发射端(52)和所述检测器组件接收端(22)之间，
129.其中，所述管组件(4)可移动以改变所述管组件(4)的位置，并且其中，所述检测器(2)接收的电磁辐射的量取决于所述管组件(4)的位置。
130.a2.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述检测器组件还包括检测器光学元件，所述检测器光学元件被配置成将在检测器光学元件接收端(231)处接收的电磁辐射
传输至检测器光学元件发射端(232)，
131.其中，所述检测器光学元件接收端(231)构成所述检测器组件接收端(22)，并且所述检测器光学元件接收端(231)被配置成接收由所述源光学元件(5)的发射端(52)发射的电磁辐射，
132.其中，所述检测器光学元件发射端(232)被配置成发射所传输的电磁辐射，以及
133.其中，所述检测器(21)被配置成接收由所述检测器光学元件发射端(232)发射的电磁辐射的至少一部分。
134.a3.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源光学元件和/或所述检测器光学元件是用于电磁辐射的波导管。
135.a4.根据所述实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源光学元件和/或所述检测器光学元件是光导管。
136.光导管也可以被称为光管。
137.a5.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源光学元件和/或所述检测器光学元件是光纤。
138.a6.根据实施方式a1或a2中任一项所述的组件，其中，所述源光学元件和/或所述测器光学元件是透镜，优选地是凸透镜。
139.a7.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源光学元件和/或所述检测器光学元件被配置成以至少一种透射波长透射，其中，所述至少一种透射波长中的至少一个在200nm至5000nm的范围内，优选地在400nm至2000nm的范围内，更优选地在700nm至1000nm的范围内，例如所述至少一种透射波长中的至少一个为830nm、850nm或940nm。
140.a8.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源光学元件和/或所述检测器光学元件可以将在2.2μm至10μm的范围内、优选地在2μm至50μm的范围内、更优选地在2μm至100μm的范围内的波长(例如，大于2μm的所有波长)的至少90％、优选地至少95％、更优选地至少99％的透射抑制至少10倍，优选地抑制至少100倍。
141.a9.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源光学元件和/或所述检测器光学元件可以将至少在2.2μm至10μm的范围内、优选地在2μm至50μm的范围内、更优选地在2μm至100μm的范围内的波长(例如，大于2μm的所有波长)的透射抑制至少10倍，优选地抑制至少100倍。
142.a10.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述管的所述部分包括内径。
143.a11.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述内径可以在0.02mm至1mm的范围内，优选地在0.1mm至0.4mm的范围内，更优选地在0.15mm至0.2mm的范围内。
144.a12.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述管的所述部分包括外径。
145.a13.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述外径在0.2mm至2mm的范围内，优选地在0.3mm至0.8mm的范围内，更优选地在0.3mm至0.5mm的范围内。
146.a14.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述管组件还包括挡光件，其中，所述挡光件附接到所述管的所述部分。
147.a15.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述挡光件被配置成阻挡由所述
源发射的电磁辐射。
148.a16.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源是发光二极管(led)。
149.a17.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述源是红外led(ir-led)。
150.a18.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述红外led可以被配置成以发射波长发射电磁辐射，其中，所述发射波长在700nm至1400nm的范围内，优选地在800nm至1000nm的范围内。
151.a19.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源包括发射功率，并且其中，所述发射功率在5mw/sr至500mw/sr的范围内，优选地在20mw/sr至200mw/sr的范围内，更优选地在50mw/sr至100mw/sr的范围内。
152.a20.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述源和所述管组件之间的最小距离为至少10mm，优选地为至少20mm，更优选地为至少30mm。
153.a21.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述检测器是光电检测器。
154.a22.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述检测器包括光电二极管。
155.a23.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述光电二极管是pin光电二极管。
156.a24.根据倒数第二个组件实施方式所述的组件，其中，所述光电二极管是钉扎光电二极管。
157.a25.根据具有实施方式a20的特征的前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述光电二极管是雪崩光电二极管(apd)。
158.a26.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述检测器包括光电二极管阵列。
159.a27.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述检测器包括光电晶体管。
160.a28.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述检测器包括有源像素传感器，优选地包括cmos传感器。
161.a29.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述检测器包括电荷耦合器件(ccd)。
162.a30.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述组件还包括至少一个孔。
163.a31.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述至少一个孔中的至少一个沿所述第一方向(x)位于所述发射端和所述管组件之间。
164.a32.根据两个前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述至少一个孔中的至少一个沿所述第一方向(x)位于所述管组件和所述检测器组件接收端之间。
165.a33.根据三个前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述至少一个孔中的至少一个是光圈。
166.a34.根据四个前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述至少一个孔中
的至少一个是针孔。
167.a35.根据五个前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述至少一个孔中的至少一个是狭缝。
168.a36.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述管的所述部分可以被配置成承受被引导通过该管的该部分的流体的流体压力，该流体压力至少50巴，优选地至少500巴，更优选地至少1000巴，例如至少1500巴。
169.a37.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述管的所述部分可以被配置用于使管内流体的流率至少在50μl/min至5ml/min的范围内，优选地至少在1μl/min至10ml/min的范围内，更优选地至少在100nl/min至10ml/min的范围内。
170.a38.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述管的所述部分由金属或玻璃制成。
171.a39.根据前述组件实施方式所述的组件，其中，所述金属可以是钢、钛、钛合金、锆或co-cr-ni合金中的一种，优选地是316不锈钢、ti6al4v、或哈氏合金
172.a40.根据两个前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述玻璃是熔融石英。
173.a41.根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，其中，所述检测器被配置成提供指示由检测器接收的电磁辐射的检测器数据。
174.下面将参考科里奥利流量计系统实施方式。通过字母“s”后跟数字来简写这些实施方式。每当在本文中提及“系统实施方式”时，均意指这些实施方式。
175.s1.一种科里奥利流量计系统，
176.其中，所述科里奥利流量计系统包括多个根据前述组件实施方式中任一项所述的组件，
177.其中，所述科里奥利流量计系统包括管，以及
178.其中，相应组件的相应管组件(4)的管的每个部分是所述科里奥利流量计系统的管的一部分。
179.s2.根据前述系统实施方式所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成确定被引导通过所述管的流体的质量流率。
180.s3.根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成确定被引导通过所述管的流体的密度。
181.s4.根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计被配置成确定被引导通过管的流体的体积流率。
182.s5.根据具有s2和s3的特征的前述系统实施方式所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计被配置成基于密度和质量流率来确定流体的体积流率。
183.s6.根据两个前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成：至少在50μl/min至5ml/min的完整范围内、优选地在1μl/min至10ml/min的完整范围内、更优选地在100nl/min至10ml/min的完整范围内确定流体的体积流率。
184.s7.根据三个前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统可以被配置成：以至少1％、优选地至少0.1％、更优选地至少0.01％或
至少10nl/min的准确度在1μl/min至5ml/min的范围内确定流体的体积流率，无论哪个都对应于较高的绝对流率值。
185.s8.根据具有实施方式s2的特征的前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统可以被配置成：至少在50mg/min至5g/min的完整范围内、优选地在1mg/min至10g/min的完整范围内、更优选地在100μg/min至10g/min的完整范围内确定流体的质量流率。
186.s9.根据具有s2的特征的前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统可以被配置成：以至少1％、优选地至少0.1％、更优选地至少0.01％或至少10μg/min的准确度在1mg/min至5g/min的范围内确定流体的质量流率，无论哪个都对应于较高的绝对流率值。
187.s10.根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统包括被配置成引起所述管的运动的至少一个致动器。
188.s11.根据前述系统实施方式所述的科里奥利流量计系统，其中，所述致动器可以被配置成引起所述管的振荡。
189.s12.根据前述系统实施方式所述的科里奥利流量计系统，其中，由所述致动器引起的振荡包括致动频率，并且该致动频率可以在1hz至5khz的范围内，优选地在10hz至1khz的范围内。
190.s13.根据三个前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述至少一个致动器包括电磁线圈和/或压电晶体中的至少一个。
191.s14.根据具有实施方式s2的特征的前述系统实施方式中的任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成提供指示所确定的质量流率的质量流量数据。
192.s15.根据具有s3的特征的前述系统实施方式中的任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成提供指示所确定的密度的密度数据。
193.s16.根据具有s4的特征的前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成提供指示所确定的体积流率的体积流量数据。
194.s17.根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统包括数据处理单元。
195.s18.根据前述系统实施方式所述的科里奥利流量计系统，其中，所述数据处理单元包括数字信号处理器。
196.s19.根据具有s2的特征的前述系统实施方式所述的科里奥利流量计系统，其中所述多个组件中的每一个都包括a41的特征，其中所述数据处理单元被配置成基于所述多个组件的检测器数据来确定质量流率。
197.s20.根据具有s3的特征的两个前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中所述多个组件中的每一个都包括a41的特征，其中所述数据处理单元被配置成基于所述多个组件的检测器数据来确定密度。
198.s21.根据具有s4的特征的三个前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中所述多个组件中的每一个都包括a41的特征，其中所述数据处理单元被配置成基于所述多个组件的检测器数据来确定体积流率。
199.s22.根据具有s5的特征的四个前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述数据处理单元被配置成基于质量流率和密度来确定体积流率。
200.s23.根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成确定多个组件中的每一个的相应管组件的位置。
201.s24.根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成确定所述多个组件中的每一个的相应管组件的振荡相位和/或频率。
202.s25.根据具有s17的特征的前述系统实施方式所述的科里奥利流量计系统，其中，所述多个组件中的每一个都包括a41的特征，其中，所述数据处理单元被配置成：基于所述多个组件的检测器数据来确定所述多个组件中的每一个的相应管组件的振荡相位和/或频率。
203.s26.根据具有s17的特征的前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中所述多个组件中的每一个都包括a41的特征，其中所述数据处理单元被配置成：基于所述多个组件的检测器数据来确定所述组件中的每一个的管组件在垂直于第一方向(x)的方向上的相应位置。
204.s27.根据具有s10和s17的特征的前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述数据处理单元被配置成控制所述至少一个致动器。
205.下面将参考溶剂输送系统实施方式。通过字母“d”后跟数字来简写这些实施方式。每当在本文中提及“溶剂输送系统实施方式”时，均意指这些实施方式。
206.d1.一种被配置成提供至少两种溶剂的混合物的溶剂输送系统，该溶剂输送系统包括：
207.至少两个泵单元，
208.混合器，以及
209.至少两个根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统。
210.d2.根据前述溶剂输送系统实施方式所述的溶剂输送系统，其中，每个泵单元包括输入端和输出端，
211.其中，每个泵单元的输入端被配置成分别流体式连接到至少一个溶剂储存器，以及
212.其中，每个泵单元的输出端分别流体式连接到所述混合器。
213.d3.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述至少两个科里奥利流量计系统中的每一个流体式连接到不同的泵单元。
214.d4.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述至少两个科里奥利流量计系统中的每一个分别位于相应泵单元的下游和所述混合器的上游。
215.d5.根据前述溶剂输送系统实施方式所述的溶剂输送系统，其中，所述溶剂输送系统被配置成基于由各个科里奥利流量计系统测量的流率来控制所述泵单元。
216.d6.根据前述溶剂输送系统所述的溶剂输送系统，其中，所述溶剂输送系统被配置成：通过基于由所述相应的科里奥利流量计系统测量的流率控制所述泵单元以期望的比率提供至少两种溶剂的混合物。
217.d7.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述溶
剂输送系统是高压梯度泵。
218.d8.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述溶剂输送系统被配置成：在50μl/min至2ml/min的范围内、优选地在50μl/min至10ml/min的范围内提供体积流率。
219.d9.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述溶剂输送系统可以被配置成：对于包括至少1％的每种贡献溶剂的溶剂混合物，提供准确度为至少1％、优选地至少0.1％、更优选地至少0.01％的溶剂混合物。
220.d10.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述溶剂输送系统被配置用于工作压力超过250巴、优选地超过500巴、更优选地超过1000巴。
221.d11.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述溶剂输送系统还包括控制器。
222.d12.根据前述溶剂输送系统实施方式所述的溶剂输送系统，其中，所述控制器可操作地连接到所述至少两个泵送单元和所述至少两个科里奥利流量计系统。
223.d13.根据具有d3或d4的特征的前述溶剂输送系统实施方式所述的溶剂输送系统，其中，所述控制器可以被配置成：基于由所述相应的科里奥利流量计系统提供的数据来控制由每个泵单元提供的流率。
224.d14.根据前述溶剂输送系统实施方式所述的溶剂输送系统，其中，所述至少两个科里奥利流量计系统的组件包括实施方式a41的特征，并且其中，由所述至少两个科里奥利流量计系统提供的数据包括检测器数据。
225.d15.根据前述溶剂输送系统实施方式所述的溶剂输送系统，其中，所述控制器被配置成基于检测器数据来确定所述管组件的位置。
226.d16.根据三个前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述控制器被配置成：基于由所述相应的科里奥利流量计系统提供的数据来确定每个泵单元的输出端处的流体的质量流率、密度和/或体积流率。
227.d17.根据四个前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述至少两个科里奥利流量计系统包括s14的特征，其中由所述科里奥利流量计系统提供的数据包括质量流量数据。
228.d18.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述至少两个科里奥利流量计系统包括s15的特征，其中由所述科里奥利流量计系统提供的数据包括密度数据。
229.d19.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述至少两个科里奥利流量计系统包括s16的特征，其中，由所述科里奥利流量计系统提供的数据包括体积流量数据。
230.d20.根据具有d11的特征的前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述控制器包括至少一个数据处理单元。
231.d21.根据具有d11的特征的前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述控制器被配置成控制所述溶剂输送系统。
232.d22.根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统，其中，所述溶剂输送系统还包括至少两个溶剂储存器。
233.下面将参考谱系统实施方式。通过字母“t”后跟数字来简写这些实施方式。每当在本文中提及“谱系统实施方式”时，均意指这些实施方式。
234.t1.一种谱系统，其中该谱系统包括至少一个根据前述组件实施方式中任一项所述的组件、至少一个根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统、或至少一个根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统。
235.t2.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述谱系统是液相谱系统，并且优选地是高效液相谱系统。
236.t3.根据前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统包括至少一个根据前述溶剂输送系统实施方式中任一项所述的溶剂输送系统。
237.t4.根据谱系统实施方式t1和t2中任一项所述的谱系统，其中，该系统包括至少一个泵。
238.t5.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述至少一个泵被配置成：至少在50μl/min至2ml/min的范围内、优选地在1μl/min至10ml/min的范围内提供体积流率。
239.t6.根据两个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个泵包括至少在50巴至250巴、优选地至少在25巴至500巴、更优选地至少在20巴至1500巴的范围内的工作压力。
240.t7.根据三个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个组件中的每一个或所述至少一个科里奥利流量计系统中的每一个可以分别位于所述至少一个泵之一的下游。
241.t8.根据四个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个组件中的每一个或所述至少一个科里奥利流量计系统中的每一个分别直接位于所述至少一个泵之一的下游。
242.t9.根据前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统还包括至少一个分离柱。
243.t10.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统位于所述至少一个分离柱的上游。
244.t11.根据具有实施方式t3的特征的两个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个分离柱在所述至少一个溶剂输送系统的下游。
245.t12.根据具有实施方式t4的特征的实施方式t9或t10所述的谱系统，其中，所述至少一个分离柱位于所述至少一个泵的下游。
246.t13.根据前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统还包括至少一个取样器。
247.t14.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统位于所述至少一个取样器的上游。
248.t15.根据具有t3的特征的两个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个取样器位于所述至少一个溶剂输送系统的下游。
249.t16.根据具有实施方式t13和t4的特征的前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个取样器位于所述至少一个泵的下游。
250.t17.根据具有实施方式t9和t13的特征的前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个取样器位于所述至少一个分离柱的上游。
251.t18.根据前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统还包括至少一个分配阀，该分配阀包括多个端口并且被配置成选择性地连接端口。
252.t19.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统位于所述至少一个分配阀的上游。
253.t20.根据具有t13的特征的两个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个取样器中的每一个流体式连接到所述至少一个分配阀之一的端口。
254.t21.根据具有t9的特征的三个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个分配阀位于所述至少一个分离柱的上游。
255.t22.根据前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统还包括至少一个捕集柱。
256.t23.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统位于所述至少一个捕集柱的上游。
257.t24.根据具有t9的特征的两个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个捕集柱位于所述至少一个分离柱的上游。
258.t25.根据前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统还包括至少一个定量环。
259.t26.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统位于所述至少一个定量环的上游。
260.t27.根据具有实施方式t9的特征的两个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个定量环位于所述至少一个分离柱的上游。
261.t28.根据前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统还包括至少一个谱检测器。
262.t29.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统位于所述至少一个谱检测器的上游。
263.t30.根据具有t9的特征的两个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述至少一个谱检测器位于所述至少一个分离柱中的至少一个的下游。
264.t31.根据前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统还包括系统控制器。
265.t32.根据具有t4的特征的前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述系统控制器可操作地连接到至少一个泵和至少一个组件或至少一个科里奥利流量计系统。
266.t33.根据具有t3的特征的两个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述系统控制器被配置成：基于由所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据来控制由所述至少一个泵提供的体积流率。
267.t34.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述至少一个组件包括a41的特征，其中，由所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据包括检测器数据。
268.t35.根据前述谱系统实施方式所述的谱系统，其中，所述系统控制器被配置
成基于检测器数据来确定所述管组件的位置。
269.t36.根据三个前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述系统控制器被配置成：基于由所述至少一个组件或所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据来确定质量流率、密度和/或体积流率。
270.t37.根据具有t33的特征的前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统包括至少一个科里奥利流量计系统，所述至少一个科里奥利流量计系统包括s14的特征，其中，由所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据包括质量流量数据。
271.t38.根据具有t33的特征的前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统包括至少一个科里奥利流量计系统，所述至少一个科里奥利流量计系统包括s15的特征，其中，由所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据包括密度数据。
272.t39.根据具有t33的特征的前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统包括所述至少一个科里奥利流量计系统，所述至少一个科里奥利流量计系统包括s16的特征，其中，由所述至少一个科里奥利流量计系统提供的数据包括体积流量数据。
273.t40.根据具有t31的特征的前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述系统控制器包括至少一个数据处理单元。
274.t41.根据具有t31的特征的前述谱系统实施方式中任一项所述的谱系统，其中，所述系统控制器被配置成控制谱系统。
275.t42.根据前述谱系统实施方案中任一项所述的谱系统，其中，所述谱系统被配置成在至少高达50巴、优选地至少高达250巴、更优选地至少高达500巴的压力下工作，例如在至少高达1000巴或1500巴的压力下工作。
276.下面将参考方法实施方式。通过字母“m”后跟数字来简写这些实施方式。每当在本文中提及“方法实施方式”时，均意指这些实施方式。
277.m1.一种方法，其中所述方法使用根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中所述方法包括：
278.引导由所述源发射的电磁辐射分别通过所述源光学元件并且沿所述科里奥利流量计系统包括的每个组件的检测器组件的方向。
279.m2.根据前述方法实施方式所述的方法，其中，所述方法包括使流体流过所述管。
280.m3.根据前述方法实施方式所述的方法，其中，所述方法还包括：
281.在第一流动步骤中，使流体以在50μl/min至500μl/min、优选地在50μl/min至150μl/min的范围内的流率流过所述管，以及
282.在第二流动步骤中，使流体以在1ml/min至5ml/min、优选地在2ml/min至5ml/min的范围内的流率流过所述管。
283.m4.根据两个前述实施方式中任一项所述的方法，其中，流体处于超过10巴、优选地超过100巴、更优选地超过500巴、例如超过1000巴的压力下。
284.m5.根据前述方法实施方式中任一项所述的方法，其中，所述方法还包括：以致动频率引起所述管的振荡。
285.m6.根据前述方法实施方式所述的方法，其中，致动频率在1hz至5khz的范围内，优
选地在10hz至1khz的范围内。
286.m7.根据前述方法实施方式中任一项所述的方法，其中，所述方法包括：检测到达多个组件的相应检测器的电磁辐射的量并生成对应的检测器数据。
287.m8.根据前述方法实施方式所述的方法，其中，所述方法还包括：基于检测器数据来确定流率。
288.m9.根据前述方法实施方式所述的方法，其中，确定流率的步骤包括：确定质量流率和体积流率中的至少一个。
289.m10.根据前述方法实施方式所述的方法，其中，确定流率的步骤还包括：基于检测器数据来确定流体的密度。
290.m11.根据三个前述方法实施方式中任一项所述的方法，其中，确定流率的步骤包括：基于检测器数据来确定所述多个组件中的每个组件的管组件至少相对于与第一方向(x)垂直的方向的相应位置。
291.应当理解的是，对于所述系统所包括的多个组件中的每个组件，提及的第一方向(x)可以基于所述系统内的相对取向而相对于彼此在不同的方向上被定向。
292.m12.根据四个前述方法实施方式中任一项所述的方法，其中，确定流率的步骤还包括：基于检测器数据来确定所述多个组件中的每个组件的管组件的相应振荡频率和/或相位。
293.m13.根据前述方法实施方式所述的方法，其中，确定流率的步骤包括：比较各个管组件的振荡的相位。
294.m14.根据具有m5和m10的特征的两个前述方法实施方式中任一项所述的方法，其中，确定流体的密度包括：确定所述管组件的共振频率。
295.s28.根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述系统被配置成：执行根据前述方法实施方式中任一项所述的方法。
296.s29.根据具有s17的特征的前述系统实施方式所述的科里奥利流量计系统，其中，所述数据处理单元被配置成：执行和/或控制根据m5至m14所述的方法步骤中的任何方法步骤。
297.下面将参考用途实施方式。通过字母“u”后跟数字来简写这些实施方式。每当在本文中提及“用途实施方式”时，均意指这些实施方式。
298.u1.一种通过根据前述组件实施方式中任一项所述的组件或根据前述系统实施方式中任一项所述的科里奥利流量计系统来确定被引导通过所述管的流体的质量流率和/或体积流率的用途。
299.u2.一种根据前述用途实施方式所述的用于谱的用途。
300.u3.一种根据前述用途实施方式所述的用于液相谱的用途。
301.u4.一种根据前述用途实施方式所述的用于高效液相谱的用途。
302.u5.一种根据前述用途实施方式所述的用于超高效液相谱的用途。
附图说明
303.现在将参考所附附图来描述本发明的实施例。这些实施例应当仅举例说明而不限制本发明。
304.图1a描绘了根据本发明的一个实施方式的组件；
305.图1b描绘了根据本发明的另一实施方式的组件；
306.图1c描绘了根据本发明的又一实施方式的组件；
307.图1d描述了根据本发明的再一实施方式的组件；
308.图2示意性地描绘了本发明中的科里奥利流量计系统；以及
309.图3示意性地描绘了根据本发明实施方式的溶剂输送系统。
310.注意，并非所有附图均带有所有附图标记。相反，在一些附图中，为了说明的简洁，已省略了一些附图标记。现在将参考所附附图来描述本发明的实施方式。
具体实施方式
311.现结合图1a和图1d进行说明，其描绘了本发明中组件的实施方式。通常，该组件也可以称为移动传感器，具体地，可用于科里奥利质量流量计。通常，所述组件包括：电磁辐射源1例如光源1；至少一个源光学元件5，其被配置成将在源光学元件5的接收端51处接收的电磁辐射传输到所述源光学元件5的发射端52；以及检测器组件2，其包括被配置成检测电磁辐射的检测器21(例如检测器21)，该电磁辐射也可以简称为辐射或光。
312.检测器组件2被定位成使得来自源1的至少一部分电磁辐射被检测器21接收(即，至少在不存在管组件4的情况下)。特别地，检测器组件2包括检测器组件接收端22，其中在检测器组件接收端22处接收的部分电磁辐射被检测器21接收。即，通常检测器组件接收端22被定位成使得源1发射的至少一部分电磁辐射到达检测器2。特别地，检测器组件接收端22可以布置使得源自源光学元件5的发射端52的至少一部分电磁辐射到达检测器组件接收端22。因此，源自发射端52的至少一部分电磁辐射到达检测器21，即被检测器21接收。发射端52与检测器组件接收端22之间的光路可以限定所述组件的第一方向(x)。
313.应当理解，在检测器组件2仅包括检测器21的实施方式中，检测器组件接收端22可以是检测器21的一部分，例如可以是检测器21的主动检测表面。
314.因此，源1、检测器组件2和源光学元件5可以提供光障，其例如可以被配置成检测在所述第一方向(x)上的所述光路内是否存在障碍物以及/或者元件通过例如垂直于第一方向x的光路的任何移动。
315.此外，所述组件包括管组件4，其包括管的一部分。管组件4沿第一方向(x)被定位在发射端52与检测器组件接收端22之间。仅作为图1a、图1c和图1d中的示例，发射端52与检测器组件接收端22之间的距离可以是3mm，源1与所述发射端之间的距离可以是30mm。因此，在这种配置中，如果发射端52的x位置被认为是在0mm，那么检测器组件接收端22的x位置将为3mm，并且所述管组件将沿着该x方向位于0mm至3mm之间的x位置。进一步地，管组件4是可移动的，即，它在所述组件内的位置是可以改变的。因此，检测器组件2以及检测器21接收的电磁辐射的量取决于管组件4相对于检测器组件接收端22和/或源光学元件5的发射端52的位置。
316.因此，在操作期间，移动的例如振荡的管组件4的位置通常可以从由检测器21检测到的电磁辐射的量中推导出。也就是说，在管组件4不在组件的光路——即，源1的电磁辐射当离开源光学元件5的发射端52并且在撞击检测器组件接收端22之前，在第一方向(x)上传播的路径——内的配置中，最大量的电磁辐射可以到达检测器21。然而，如果管组件4移动
到所述光路中，它可以阻挡来自源1的至少一部分电磁辐射，其中被阻挡的辐射量可以取决于管组件4的位置。因此，可以从对检测器组件接收端22的遮蔽和检测器21接收到的电磁辐射量的降低中推断出管组件4的移动。
317.换言之，其位置(或移动)待确定的管组件4可以位于源1、特别是源光学元件5的发射端52与检测器组件2、特别是检测器组件接收端22之间。管组件4因此可以部分地遮蔽电磁辐射，例如光束。因此，可以根据检测器组件2、相应的检测器21接收的辐射量推断管组件4的位置(或移动)。
318.虽然这可能无法实现位置的绝对确定，例如如果检测器21不具有空间分辨率，则所测量的信号对于所述管的位置可能不是唯一的，但是所推导的信号仍可以用于确定或至少近似管组件4的移动特性。即，遮蔽相对于管组件4处于光路中心的位置可以是镜像对称，例如在到达检测器21的电磁辐射最小的位置，但是它仍然可以用于确定或至少近似于管组件4的移动特性，例如管组件4的振荡频率和/或所述振荡的相位。
319.所述管的所述部分可以被配置成经受被引导通过该管的该部分的流体的压力，该压力至少为50巴，优选地至少为500巴，更优选地至少为1000巴，例如该压力为1500巴。换言之，所述管的所述部分可以被配置成经受被引导通过该管的该部分的流体的所述流体压力。这可以有利地使管组件4适于在谱应用中使用，优选地在高效液相谱(hplc)中使用。
320.例如，源1可以是发光二极管(led)，尤其是红外led(ir-led)。通常，源1可以以发射波长发射电磁辐射。即，源1的发射可以以一个发射波长为中心，或者在一些情况下，以多个发射波长为中心。一些源可以包括宽光谱，例如近似覆盖光谱的可见范围的光谱，其中其他源可以包括相对窄的光谱带宽，例如大约20nm到30nm的fwhm。ir-led的发射波长可以在700nm至1400nm的范围内，优选地在800nm至1000nm的范围内。这类ir-led可以包括例如在20nm至150nm范围内的光谱带宽。
321.检测器21通常可以是基于半导体的，并且优选地是光电检测器。例如，检测器21可以包括光电二极管，例如钉扎光电二极管、雪崩光电二极管(apd)，或者优选地pin光电二极管。在一些实施方式中，检测器21可以包括光电二极管阵列，这可能有利于提供空间分辨率。然而，它也可以是用于检测电磁辐射的任何其他合适的装置，例如光电晶体管、图像传感器，诸如cmos传感器的有源像素传感器(aps)或电荷耦合器件(ccd)。
322.在一些实施方式中，至少一个孔3a、3b可以开设在管组件4的任一侧或两侧。即，至少一个孔3a、3b可以沿第一方向(x)位于发射端52与管组件4(孔3a)之间和/或位于管组件4与检测器组件接收端22(孔3b)之间。此类孔3a、3b可以有利地阻挡杂散光并限定管组件4可以移动通过的光路。也就是说，与不使用孔3a、3b相比，利用至少一个孔，可以更清楚和更精确地限定源光学元件5与检测器组件2之间的光路，尤其是管组件4可以移动通过的光路的部分，因为只有在特定位置和/或沿特定方向传播的电磁辐射可以被引导通过所述至少一个孔3a、3b。这可以有利于提高测量准确度。
323.至少一个孔3a、3b可以是例如狭缝、针孔或光圈，即在其中心具有开口的薄而不透光(opaque)的结构，诸如可变光圈。应当理解，在本文中，术语“不透光”应当理解为关于由源1发射的电磁辐射。也就是说，通常可将孔设计为阻挡由源发射并引导通过源光学元件5的部分电磁辐射。特别地，对于在可见范围内的光，所述孔可能不需要是不透光的，即对于
人眼来说，所述孔可能看起来不是不透光的。同样，“不透光”分别阻挡部分电磁辐射是指将所述部分电磁辐射的传输抑制至少10倍。
324.另外地或者可替选地，管组件4可以包括挡光件(未示出)，其中该挡光件可以附接到管组件4所包括的所述管的所述部分。例如，所述挡光件可以是任何类型的片材、板和/或盖，其可以附接到所述管以便提供更明确的边缘和/或截面，从而在所述管移动时，改变检测器组件2接收的电磁辐射量。换言之，管组件4所包括的管的部分可以设有挡光件，其中所述挡光件可以被配置成当管组件4移动时遮蔽检测器组件接收端22。即，根据管组件4的位置，挡光件可以移动通过所述光路并部分阻挡该光路，而不是管本身。这可以是有利的，因为与管相比，挡光板可以提供更均匀的表面来阻挡至少一部分电磁辐射，其通常可以包括大致圆形，例如可以在边缘周围较少限定。换言之，可以可选地将挡光件附接到所述管以优化遮蔽。因此，所述挡光件对于由所述源发射的电磁辐射可以是不透光的，即该挡光件可以被配置成阻挡由所述源发射并通过所述源光学元件5传输的电磁辐射，从而提供期望的遮蔽。
325.如图1a所示，至少一个源光学元件5、5a被放置在源1与管组件4和/或检测器组件2之间。一般来说，源光学元件5被配置成在其接收端51接收源1的电磁辐射，将电磁辐射传输到发射端52，并在发射端52发射电磁辐射。即，一般来说，源光学元件5可以将由源1发射的电磁辐射传输例如引导到检测器组件2的方向上、特别是检测器组件接收端22的方向上。应当理解，发射所传输的电磁辐射的发射端52不一定涉及主动步骤，例如源1发射，即产生电磁辐射。发射端52仅仅“释放”所传输的电磁辐射，这被称为发射和/或辐射电磁辐射。
326.源光学元件5可以是例如波导管，例如光导管5a(参见图1a)，其也可以被称为光管。类似地，所述源光学元件可以是透镜5b(参见图1b)、优选地凸透镜，或光纤5c(参见图1c)。通常，源光学元件5可以被优化成和/或适配于源1的发射波长。
327.诸如源光学元件5的光学元件通常可以被配置成以至少一个透射波长传输电磁辐射。即，例如，光学元件5可以被适配和/或优化从而以至少一个透射波长进行传输。例如，传输可以是宽带的，即包括宽光谱带宽，或包括窄带宽，诸如几十纳米。例如，具有指定透射波长和相应光谱带宽的光学元件可以进一步起到过滤不需要的电磁辐射的作用。
328.特别地，至少一个源光学元件5不同于已知的叉形光障。特别地，至少一个源光学元件5的添加可以有利于增加源1与管组件4之间的距离，从而减少了源自源1并到达管组件4的热量，并且因此减少了与所述管的加热相关的问题，例如管组件4的杨氏模量变化，特别是管组件4的不均匀杨氏模量，这可能会削弱位置测量、振荡频率测量和/或振荡相位测量的准确度和/或精度。这尤其有利，因为例如led通常仅将大约10％的供应电能转换为可用的电磁辐射，而剩余能量作为热量排放到(光)源的环境中，其中所述热量也可称为废热。废热不仅降低了源1的效率，而且还加热了已知光学科里奥利质量流量计中的管组件，其利用了叉形光障。
329.换言之，至少一个源光学元件5可以允许源1与管组件4之间存在距离，该距离强烈地抑制并且理想地基本上抑制了源1与管组件4之间的任何热耗散。也就是说，热辐射中的相当一部分即大部分例如超过75％、优选地超过90％的热辐射可以被至少一个源光学元件5吸收。由于距离较远，对流和热传导引起的热耗散也可能会大大减少。在这种情况下，源1与所述管组件之间的热传递可以(理想地仅)通过用于检测的电磁辐射例如近红外光发生。
然而，大部分所述电磁辐射在撞击管组件4(特别是选用合适的管材料，例如，金属制成的)时，可能会被反射。因此，即使用于检测的电磁辐射也不会引起管组件4的显著加热，因为这种加热将需要吸收辐射。抑制从源1到管组件4的热传递因而可以有利地将测量准确度提高显著的倍数例如10倍数或甚至更多。
330.换言之，本发明的实施方式可以包括置于源1(例如光源)与孔3a或管组件4之间的至少一个光源光学元件5。所述至少一个源光学元件5可以被配置成以低损耗传输源1的光，同时能够增加源1与管组件4之间的间隔。例如，至少一个源光学元件5、5a、5b、5c可以是光导管5a诸如刚性光导管、或(柔性)光纤5c、或凸透镜5b。因此，本发明的实施方式可以提供优于已知现有技术的某些优点。首先，由于源1和管组件4的间隔增加，至少一个源光学元件5可以减少源1到达管组件4的废热量，甚至完全抑制该废热量。因此，测量可以对1的热量不太敏感。此外，由于至少一个源光学元件5可以允许将源1放置在与所述管组件在空间上分离的位置(参见图1c)，所以源光学元件5可以使所述组件例如所述光障和整个科里奥利质量流量计的设计和构造更灵活。因此，添加至少一个源光学元件5不仅可以减少源1的热量的影响，从而提高测量准确度，而且由于对于源1相对于所述管组件和所述检测器组件2放置的位置可以有较少的约束，所以还可以提供改进的设计灵活性。原则上，利用合适的光学元件作为源光学元件，单个源1甚至可以用在两个(或更多)此类组件中，例如用在两个光障中。也就是说，多个组件可以借助于各自的源光学元件5将发射的一部分电磁辐射引导到相应的检测器组件2，从而共享同一个源1。
331.虽然至少一个源光学元件5(以及更一般地，任何光学元件)可能会引入一些损耗，即并非在其接收端51接收到的所有电磁辐射都可以通过源光学元件5成功传输并在其发射端52发射；与电磁辐射在自由空间中传播时增加源1与管组件4(依次地检测器组件2)之间的距离相比，它仍然可以显著提高到达检测器21的电磁辐射量。也就是说，在现有技术中使用的叉形光障中，源与检测器之间的距离通常可以为约3mm。然而，点源例如led的电磁辐射强度随距离呈二次方下降。因此，如果所述源与所述检测器之间的距离增加到30mm(即十倍)，与原始配置相比，大约99％的电磁辐射将丢失，因此只有大约1％的电磁辐射会到达所述检测器。相反，例如，波导管可能会损失约50％的电磁辐射，因此到达所述检测器的电磁辐射强度仍将比不使用波导管时高50倍。由于在源光学元件例如波导管的接收端和发射端处的反射以及在使用的孔处的反射，大多数此类损失可能潜在地发生。此外，由于所述源的废热可能不会被传递或至少被显著抑制，因此也可以使用更强大的源，这样可以补偿至少部分损失。
332.换言之，源光学元件5可以被放置在源1与可选的孔3a或管组件4之间，其中与在自由空间中传播的电磁辐射相比，源光学元件5可以低损耗例如大约50％的损耗传输电磁辐射，并且同时允许源1与孔3a或管组件4之间存在空间距离。该空间距离可以防止来自源1的废热直接作用在管组件4上。因此，本发明的实施方式可以以这样的方式将废热与有用的电磁辐射分离，从而使得所述管组件不会被加热到超过光学测量所需的温度，特别是不会被加热到低于已知的光障所需的温度。
333.因此，本发明的实施方式可以有利地允许针对与hplc有关的流率范围例如50μl/min至5ml/min的准确有效的流量传感器。
334.实验表明，对于检测器21上的相同(光)强度，本发明可将所述管组件的加热减少
约10倍。这对于实现更准确的密度和/或流量测量可以是有利的并且可以抑制在低流率范围内出现非/线性的出现。
335.参照图1d，检测器组件2在一些实施方式中可以还包括检测器光学元件23。与源光学元件5类似，检测光学元件23可以包括检测器光学元件接收端231和检测光学元件发射端232。检测器光学元件23可以被配置成将在检测器光学元件接收端231处接收的电磁辐射传输到检测器光学元件发射端232。
336.检测器光学元件接收端231可以构成检测器组件接收端22并且可以被配置成接收由源光学元件5的发射端52发射的电磁辐射。
337.检测器光学元件发射端232可以被配置成发射所传输的电磁辐射，并且检测器21可以被配置成接收由检测器光学元件发射端232发射的至少一部分电磁辐射。
338.本领域技术人员会理解，检测器光学元件23通常可以是具有与本文描述的源光学元件5相同或相似特征的光学元件。因此，应当理解，关于源光学元件5所作的解释和观察可以类似地应用于检测器光学元件23。换言之，检测器光学元件23可以包括与本文所述的源光学元件5相同或相似的特征。
339.特别地，例如，检测器光学元件23可以是波导管，诸如光导管(参见图1a)、或光纤(参见图1c、图1d)。同样地，检测器光学元件23可以是透镜(参见图1b)，优选地是凸透镜。通常，检测器光学元件23可以被优化成和/或适配于源1的发射波长。
340.包括检测器光学元件23的检测器组件2有利于使所述组件例如，所述光障和整个科里奥利质量流量计的设计和构造更灵活，因为检测器光学元件23可以允许将检测器21放置在与所述管组件4在空间上分离的位置(参见图1d)。换言之，包括检测器光学元件23提供了改进的设计灵活性，因为关于检测器21相对于管组件4和源光学元件5的发射端52放置在何处的限制较少。
341.一般而言，多个上述组件可以使用在现有技术中已知的科里奥利质量流量计中，尤其是在目前依赖于叉形光障的科里奥利质量流量计、如ep 1719 982b1和ep 1 719 983b1中披露的科里奥利质量流量传感器中。
342.即，本发明的实施方式还可以涉及一种科里奥利流量计系统，该科里奥利流量计系统包括多个如上面参照图1a至图1d所述的组件，例如2个或3个此类组件，其中所述科里奥利流量计系统包括管，并且其中每个组件的管组件所包括的所述管的相应部分是所述管的一部分。
343.更具体地，参照图2，科里奥利流量计系统6可以包括如上所述的多个组件61、62，它们共享一个公共管64。即，所述组件61和62的相应管组件4各自包括同一管64的一部分，使得流体可以例如首先流过包括第一管组件4的第一组件61，随后流过包括第二管组件4的第二组件62。通过所述管的流体流动由大箭头表示。因此，第一组件61在第二组件62的上游。科里奥利流量计系统6可以还包括致动器66，其被配置成引起管64的移动。优选地，所述致动器66可被配置成引起管64的振荡，其可以包括可在1hz至5khz、优选地10hz至1khz范围内的致动频率。例如，所述致动器66可以包括电磁线圈，该电磁线圈可以被配置成借助于施加在管64上的磁排斥和/或吸引力来引起管64的振荡。可替选地，例如，所述致动器66可以是压电致动器，即它可以包括压电晶体。压电晶体可以通过反向压电效应施加电场而产生机械应变。因此，通过施加交变电场，所述压电晶体可以引起压电晶体尺寸的振荡变化，这
又可以用于通过机械联轴器引起管64的期望振荡。
344.管64通常可以被配置用于hplc应用，即管64可以被配置成经受至少50巴、优选地至少100巴、更优选至少1000巴例如1500巴的压力。
345.组件61、62中的每一个都可以被配置成提供相应检测器21的检测器数据，并且所述科里奥利流量计系统通常可以被配置成确定被引导通过管64的流体的质量流率和/或密度。在一些实施方式中，科里奥利流量计系统6可以被配置成例如基于确定的质量流率和密度来确定被引导通过管64的流体的体积流率。所述科里奥利流量计系统可以有利于实现在50μl/min至5ml/min的整个范围内、优选地在1μl/min至10ml/min的整个范围内、更优选地在100nl/min至10ml/min的整个范围内确定流体的体积流率。
346.例如，科里奥利流量计系统6可以包括数据处理单元68，该数据处理单元可以被配置成从组件61、62接收检测器数据，以及/或者被配置成控制致动器66。特别地，所述数据处理单元可以被配置成基于检测器数据确定被引导通过管64的流体的质量流率、密度和/或体积流率。例如，数据处理单元可以确定所述管在第一组件61和第二组件62位置处的振荡频率和/或相位，并基于管64在各个位置处的振荡之间的相位差确定质量流率。类似地，数据处理单元68可以确定致动振荡与所述管的振荡之间的相位差，这可以使数据处理单元能够确定所述管的共振频率和流体的密度。
347.换言之，由于所述管的振荡可以是由所述致动器强制的振荡，所以所述管的振荡频率和致动频率基本相等。然而，所述致动器的振荡与所述管的振荡之间可能存在相位差。如果相位差为90
°
，则振荡处于共振状态。因此，例如，可以使用反馈回路来控制致动频率，使其与所述管组件共振，因为否则需要极强的致动器来实现所述管组件的期望振荡量。共振频率是关于密度的度量，因为它取决于所述管组件和流体的总质量，并且由于所述管的内部流体体积是固定的，因此可以确定流体的密度。
348.可替选地，科里奥利流量计系统6可以仅提供确定质量流率、密度和/或体积流率所需的数据，例如检测器数据和致动频率，这些数据可由例如谱系统的控制器和/或数据处理单元评估。
349.本领域技术人员将理解，图2中示意性示出的科里奥利流量计系统6仅用作示例，并且根据本发明所述的组件可以与已知的科里奥利质量流量计系统相结合，尤其与使用叉形光障的已知科里奥利质量流量计系统相结合。
350.参照图3，本发明的实施方式还涉及一种溶剂输送系统7，其包括至少两个泵单元71、71a、71b、混合器73和至少两个科里奥利流量计系统6、72a、72b。所述溶剂输送系统通常可以被配置成提供两种溶剂的混合物。
351.泵单元71通常可以是单独的泵或多通道泵内的泵通道，例如泵头。每个泵单元71可以包括输入端和输出端，其中每个泵单元71、71a、71b的输入端被配置成流体式连接到至少一个相应的溶剂储存器74、74a、74b。
352.溶剂储存器74可以包括在溶剂输送系统7中或者在溶剂输送系统7的外部。在一些实施方式中，溶剂储存器74可以包括多种不同的溶剂和至少一个阀，所述至少一个阀用于将溶剂中的一种选择性地联接到相应泵单元71的输入端。
353.每个泵71的输出端可以流体式连接到混合器73，其中所述混合器可以被配置成在其输出端提供被提供至其输入端的溶剂的混合物。特别地，混合器73因此可以实现流体的
纵向和/或横向混合。
354.此外，科里奥利流量计系统6、72a、72b中的每一个可以流体式连接到不同的泵单元71。例如，在所述实施方式中，泵单元71a流体式连接到科里奥利流量计系统72a，而泵单元71b流体式连接到科里奥利流量计系统72b。优选地，科里奥利流量计系统72a、72b中的每一个流体式连接到相应泵单元71a、71b的输出端。换言之，科里奥利流量计系72、72a、72b优选地位于相应的泵单元71、71a、71b的下游和混合器73的上游。
355.总的来说，所述溶剂输送系统可以是高压梯度泵。另外地或者可替选地，所述溶剂输送系统可以是用于lc、hplc和/或uhplc的二元泵。
356.在工作期间，每个泵单元71、71a、71b可以从连接到其输入端的溶剂储存器74、74a、74b抽取相应的溶剂并将加压溶剂提供给混合器73，其中泵单元71、71a、71b的溶剂可以被混合以提供溶剂混合物。例如，所提供的溶剂混合物可以用于hplc系统。
357.科里奥利流量计系统72、72a、72b可以测量所提供溶剂的流率并向泵单元71、71a、71b提供相应的反馈，从而使得泵单元71、71a、71b的操作可以基于测得的流率进行调整，以便提供所需的高准确度溶剂混合物。即，通过主动控制由各个泵单元71、71a、71b提供的溶剂的流率，可以将在混合器73的输出端提供的溶剂混合物的混合比率控制为高准确度水平。科里奥利流量计系统6、72a、72b可以有利地允许在比现有技术中目前已知的更宽的范围内准确和可靠地测量流率，例如关于至少在50μl/min至5ml/min的整个范围内、优选地在1μl/min至10ml/min的整个范围内、更优选地在100nl/min至10ml/min的整个范围内的体积流率。
358.因此，将所述组件和更具体地所述科里奥利流量计系统结合到溶剂输送系统中可以提供如下溶剂输送系统，其有利地被配置成在整个较大的流率范围如1μl/min至10ml/min内并以较高准确度提供所需的溶剂混合物。有利的是，随着时间的推移，准确度可以保持不变，并且不会因活塞密封件或止回阀处通常由于常规磨损而引起的的小泄漏而降低。
359.例如，此类系统可以用于提供溶剂梯度，其中溶剂混合物的混合比率在整个测量过程中(连续地)改变，其中需要高准确度的混合比率才能获得可靠的分析结果。
360.本发明还涉及一种谱系统，其包括根据本发明的组件或根据本发明的科里奥利流量计系统6。所述谱系统可以是液相谱系统，并且优选地是高效液相谱系统。
361.所述谱系统(未示出)通常可以包括用于供应流体流的泵，该流体流通常是具有指定流率的加压流体流。可通过主动反馈回路控制流率，该主动反馈回路包括由所述科里奥利流量计系统6和/或利用根据本发明的至少一个组件在泵下游测量的质量或体积流率。因此，由谱系统所包括的根据本发明所述的科里奥利流量计系统6和/或组件可以位于所述泵的下游。
362.在一些实施方式中，所述组件和/或科里奥利流量计系统6可以直接位于泵的下游，即，使得只有流体连接件位于所述泵与所述组件或科里奥利流量计系统之间。特别地，除了所述泵与所述组件或科里奥利流量计系统之间的管和/或连接器之外，可能没有系统部件。
363.所述谱系统通常可还包括至少一个分离柱，其位于所述泵的下游。所述组件和/或科里奥利流量计系统可以位于所述分离柱的上游。
364.此外，所述系统还可以包括取样器，该取样器可以被配置成将样品引入由所述泵
提供的流体流中，该流体流将在分离柱中被分离。因此，所述取样器可以位于所述泵的下游和所述分离柱的上游。所述组件和/或科里奥利流量计系统6可以位于所述取样器的上游。
365.所述谱系统可以还包括至少一个具有多个端口的分配阀，该阀可以选择性地通常成对地连接来自多个端口中的端口。所述至少一个分配阀可以位于所述分离柱的上游和所述泵的下游。例如，所述取样器可以连接到所述分配阀的一些端口。科里奥利流量计系统可以位于分配阀的上游。
366.所述谱系统可包括的其他部件包含捕集柱、定量环和/或通常位于所述分离柱的下游的谱检测器，所述捕集柱和定量环通常都位于所述分离柱的上游。
367.此外，所述谱系统可以包括控制器，该控制器可操作地连接到所述泵以及所述组件和/或科里奥利流量计系统。因此，例如，所述控制器可以被配置成基于从所述组件和/或科里奥利流量计系统接收的数据诸如由科里奥利流量计系统确定的检测器数据和致动频率或者有关质量流率、体积流率和/或密度的数据来控制由所述泵提供的体积流率和/或质量流率。
368.一般来说，所述控制器可以被配置成控制所述谱系统，例如所述泵、所述取样器、所述分配阀、所述谱检测器和/或所述科里奥利流量计系统。
369.此外，所述谱系统可以被配置成在至少高达50巴、优选地至少高达250巴、更优选地至少高达500巴例如至少高达1000巴或1500巴的压力下以及/或者在至少在50μl/min至5ml/min的范围内的体积流率下工作。
370.总之，本发明因此可以实现对管组件例如管的一部分进行精确的位置测量，同时减少提供给所述管的热量，从而提高了位置和/或振荡频率测量的准确度和/或精度。实现了在50μl/ml至5ml/min的整个范围内准确测量流体的流率，这在液相谱和高效液相谱中是特别期望的。这转而又有利于例如通过主动反馈回路控制由泵提供的流率，这可以降低对泵流量精度的要求，从而降低所述泵和整个系统的复杂性，增加合适的泵的可用性。特别地，本发明的实施方式有利于实现电磁辐射源1与管组件4的分离，并因此避免通过由源1产生的热量作为不期望的副产物对管组件4进行不期望的加热，这种加热可能会导致流量测量错误并使结果不太准确。这是通过引入至少一个源光学元件5来实现的，该至少一个光学元件透射由源1提供的电磁辐射，但是不透射(或者至少不显著地透射)源1的热量。
371.使用根据本发明的源光学元件5的另一个潜在优势是它在所述源的位置和方向上提供了更大的灵活性(参见图1c)。此外，它可以很容易地与已知的光学科里奥利质量流量计和为此类传感器开发的测量方法相结合。
372.每当在本说明书中使用相对术语如“约”、“基本上”或“大约”时，这类术语还应被解释为还包含确切的术语。也就是说，例如，“基本上直的”应被解释为还包含“(确切地)直的”。
373.每当在上述或还在所附权利要求中记载步骤时，应注意，步骤在本文中记载的顺序可以为偶然的。也就是说，除非另有规定或者除非技术人员清楚，否则叙述步骤的顺序可以为偶然的。也就是说，当本文件陈述例如一种方法包括步骤(a)和(b)时，这不一定意指步骤(a)在步骤(b)之前，而是也有可能步骤(a)(至少部分地)与步骤(b)同时进行，或步骤(b)在步骤(a)之前。此外，当说到步骤(x)在另一步骤(z)之前时，这并不意指在步骤(x)与(z)之间没有步骤。也就是说，步骤(z)之前的步骤(x)涵盖步骤(x)直接在步骤(z)之前被执行
的情况，而且涵盖(x)在一个或多个步骤(y1)
……
接着是步骤(z)之前被执行的情况。对应的考虑在使用术语如“之后”或“之前”时适用。
374.虽然在以上已参考所附附图描述了优选实施方式，但技术人员将理解，此实施方式仅仅是为了说明的目的而提供的，并且决不应被解释为限制本发明的范围，本发明的范围由权利要求定义。

技术特征：

1.一种组件，包括：电磁辐射源(1)；检测器组件(2)，所述检测器组件包括用于电磁辐射的检测器(21)，其中，所述检测器组件(2)包括检测器组件接收端(22)，所述检测器组件接收端被定位以接收来自所述源(1)的电磁辐射的至少一部分，其中，在所述检测器组件接收端(22)处接收的电磁辐射的至少一部分被所述检测器(21)接收；源光学元件(5)，所述源光学元件被配置成将在所述源光学元件(5)的接收端(51)处接收的电磁辐射传输至所述源光学元件(5)的发射端(52)，其中，所述接收端(51)被配置成接收所述源(1)的电磁辐射，其中，所述发射端(52)被配置成发射所传输的电磁辐射，并且其中，第一方向(x)由所述发射端(52)与所述检测器组件接收端(22)之间的光路限定；管组件(4)，所述管组件(4)包括管的一部分，其中，所述管组件(4)沿所述第一方向(x)被定位在所述发射端(52)与所述检测器组件接收端(22)之间，其中，所述管组件(4)能够移动以改变其位置，并且其中，所述检测器(2)接收的电磁辐射的量取决于所述管组件(4)的位置。2.根据前一权利要求所述的组件，其中，所述检测器组件还包括检测器光学元件(23)，所述检测器光学元件被配置成将在检测器光学元件接收端(231)处接收的电磁辐射传输至检测器光学元件发射端(232)，其中，所述检测器光学元件接收端(231)构成所述检测器组件接收端(22)，并且被配置成接收由所述源光学元件(5)的所述发射端(52)发射的电磁辐射，其中，所述检测器光学元件发射端(232)被配置成发射所传输的电磁辐射，并且其中，所述检测器(21)被配置成接收由所述检测器光学元件发射端(232)发射的电磁辐射的至少一部分。3.根据前述权利要求中任一项所述的组件，其中，所述源光学元件(5)和/或所述检测器光学元件(23)是波导管、优选为光导管或光纤或者透镜、优选为凸透镜中的至少一者。4.根据前述权利要求中任一项所述的组件，其中，所述源(1)与所述管组件(4)之间的最小距离至少为10mm，优选地至少为20mm，更优选地至少为30mm。5.根据前述权利要求中任一项所述的组件，其中，所述管的所述部分被配置成承受被引导通过所述管的所述部分的流体的流体压力，所述流体压力至少为50巴，优选地至少为500巴，更优选地至少为1000巴，诸如至少1500巴。6.一种科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统包括多个根据权利要求1至5中任一项所述的组件，其中，所述科里奥利流量计系统(6)包括管(64)，并且其中，相应组件的相应管组件(4)的管的每个部分是所述科里奥利流量计系统(6)的所述管(64)的一部分。7.根据前一权利要求所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统包括被配置成引起所述管的移动的至少一个致动器(66)。8.根据权利要求6和7中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量
计系统(6)被配置成确定被引导通过所述管的流体的体积流率。9.根据前一权利要求所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成至少在50μl/min至5ml/min的完整范围内，优选在1μl/min至10ml/min的完整范围内，更优选在100nl/min至10ml/min的完整范围内，确定所述流体的体积流率。10.根据权利要求8和9中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述科里奥利流量计系统被配置成以至少1％的准确度，优选以至少0.1％的准确度，更优选以至少0.01％的准确度在1μl/min至5ml/min的范围内，确定所述流体的体积流率。11.一种方法，其中，所述方法使用根据权利要求6至10中任一项所述的科里奥利流量计系统，其中，所述方法包括：引导由源(1)发射的电磁辐射分别通过源光学元件(5)并且沿所述科里奥利流量计系统(6)包括的每个组件的检测器组件(2)的方向。12.根据前一权利要求所述的方法，其中，所述方法包括：检测到达所述多个组件的相应检测器的电磁辐射量并生成对应的检测器数据，以及基于所述检测器数据确定流率。13.根据前一权利要求所述的方法，其中，确定所述流率的步骤还包括：基于所述检测器数据确定所述多个组件中的每个组件的管组件的相应振荡频率和/或相位。14.根据前述权利要求11至13中任一项所述的方法，其中，所述方法还包括：在第一流动步骤中，使流体以50μl/min至500μl/min，优选50μl/min至150μl/min范围内的流率流过管(64)，以及在第二流动步骤中，使流体以1ml/min至5ml/min，优选2ml/min至5ml/min范围内的流率流过所述管(64)。15.一种被配置成提供至少两种溶剂的混合物的溶剂输送系统，所述溶剂输送系统包括：至少两个泵单元，混合器，以及至少两个根据权利要求6至10中任一项所述的科里奥利流量计系统。

技术总结

本发明涉及用于科里奥利流量计的测量传感器。本发明涉及一种组件，其包括电磁辐射源、包括用于电磁辐射的检测器的检测器组件、包括管的一部分的管组件、以及源光学元件，所述源光学元件被配置成将在接收端处接收的电磁辐射传输至源光学元件的发射端。检测器组件包括检测器组件接收端，其被定位以接收来自源的电磁辐射的至少一部分，其中在检测器组件接收端处接收的电磁辐射的至少一部分被检测器接收。第一方向(x)由在源光学元件的发射端与检测器组件接收端之间的光路限定，其中管组件沿第一方向(x)被定位在发射端与检测器组件接收端之间。本发明还涉及一种科里奥利流量计系统、对应的方法和溶剂输送系统。应的方法和溶剂输送系统。应的方法和溶剂输送系统。