一种非晶氧化锌基薄膜晶体管及其制备方法[发明专利]

专利名称:一种非晶氧化锌基薄膜晶体管及其制备方法
专利类型:发明专利
发明人:韩德栋,丛瑛瑛,黄福青,单东方,张索明,田宇,王漪,张盛东,刘晓彦,康晋锋
申请号:CN201310613115.3
申请日:20131127
公开号:CN104681622A
公开日:
20150603
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了一种非晶氧化锌基薄膜晶体管及其制备方法。本发明的非晶氧化锌基薄膜晶体管包括:衬底、栅电极、栅介质层、沟道层、源电极和漏电极;其中,沟道层的材料采用掺铝锡的氧化锌半导体材料,氧化铝含量为3%~9%(质量),氧化锡含量为3%~50%(质量)。本发明制备的ATZO半导体薄膜晶粒尺寸在10nm左右,且分布均匀,属于纳米晶体氧化物半导体。这种工艺方法具有步骤简单,制造成本低廉,均匀性好,用于低温工艺,对提高薄膜晶体管器件的性能具有积极效果,改善了器件包括迁移率、开关比、阈值电压、亚阈摆幅率等方面的性能,适用于透明显示和柔性显示技术等优点。
申请人:北京大学
地址:100871 北京市海淀区颐和园路5号
国籍:CN
代理机构:北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人:王岩

本文发布于:2024-09-22 08:24:19,感谢您对本站的认可!

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标签:薄膜   晶体管   半导体
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