首页 > 专利信息

MOCVD设备反应器的喷淋头及其连接结构[实用新型专利]

专利名称：MOCVD设备反应器的喷淋头及其连接结构专利类型：实用新型专利

发明人：丁云鑫，徐小明，周永君，邬建伟

申请号：CN201220287888.8

申请日：20120618

公开号：CN202671653U

公开日：

20130116

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本实用新型的目的在于提供一种MOCVD设备反应器的喷淋头及其连接结构，减少底层和中间层在底面焊接带来的不利影响。其中，喷淋头包括喷淋组件、顶盖组件，顶盖组件包括顶盖，喷淋组件包括连接在一起的底层、中间层和顶层，底层和中间层之间形成冷却水通道、冷却水腔，中间层和顶层之间形成V族气体腔体，顶层和顶盖之间形成III族气体腔体，底层为内凹形一体件，具有底壁和自底部凸出的圈围侧壁，中间层的外侧面和底层的圈围侧壁的内侧面焊接。

申请人：杭州士兰明芯科技有限公司

地址：310018 浙江省杭州市杭州经济技术开发区(下沙)10号路300号

国籍：CN

代理机构：上海专利商标事务所有限公司

代理人：喻学兵

本文发布于:2024-09-20 15:23:31，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/2/450690.html

上一篇：具有共轭结构的三相一体空心电抗器[实用新型专利]

下一篇：2018年注塑精密结构件企业组织架构和部门职能