用于操作等离子体射流构造的系统和方法

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 114557137 A (43)申请公布日 2022.05.27

(21)申请号 CN202080069751.2

(22)申请日 2020.10.05

(71)申请人布莱尼茨等离子科学和技术研究所

地址德国格赖夫斯瓦尔德

(72)发明人雷克·科尔斯克劳斯·迪特尔·韦尔特曼菲利普·图尔斯基诺伯特·莱姆布克托尔斯滕·格林劳拉·维拉德尔·斯科尔滕斯特凡·霍恩

(74)专利代理机构北京市万慧达律师事务所

代理人谢敏楠;柏桦林

(51)Int.CI

H05H1/24

H05H1/26

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

用于操作等离子体射流构造的系统和方法

(57)摘要

本发明涉及一种用于产生和控制非热大气压等离子体的系统(1)，包括：‑放电空间(10)，工作气体可经由第一开口(12)引入到所述放电空间中，其中，等离子体(5)可在所述放电空间(10)中产生，其中，所述放电空间(10)具有第二开口(14)，使得所述等离子体(5、6)能够通过所述第二开口(14)离开所述放电空间(10)，以及‑至少一个高压电极(20)，用于产生电磁场，以在所述放电空间(10)中产生等离子体(5)。通过第二开口(14)离开的等离子体(5、6)由系统(1)的流量控制器(40)控制，该流量控制器形成为设定从工作气体源(50)通过第一开口(12)进入放电空间(10)的工作气体的体积流量(60)。在这种情况下，流量控制器(40)还形成为至少采用第一状态和第二状态，其中，在第一状态下，没有工作气体从工作气体源(50)供应到放电空间(10)，使得即使在放电空间(10)中存在产生的电磁场时，也没有等离子体(5)从第二开口(14)离开，并且其中，在第二状态下，工作气体从工作气体源(50)供应到放电空间(10)，等离子体(5)在放电空间(10)中产生，并且等离子体(5、6)从第二开口(14)离开。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2022-05-27	公开	国际专利申请公布
2022-09-16	实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/24专利申请号:2020800697512申请日:20201005	实质审查的生效