(12)发明专利说明书 | ||
(10)申请公布号 CN 114566431 A (43)申请公布日 2022.05.31 | ||
权利要求说明书 说明书 幅图 |
本发明提供了一种低损伤刻蚀多孔有机硅酸盐材料的方法,该方法为:将多孔有机硅酸盐材料至于刻蚀系统中,并将刻蚀系统预冷至温度为‑60℃~‑40℃,在温度为‑60℃~‑40℃的条件下,向预冷后的刻蚀系统中通入SF6和C4F6混合气体,刻蚀系统对多孔有机硅酸盐材料进行等离子刻蚀,得到低损伤刻蚀多孔有机硅酸盐材料。本发明能够大幅降低等离子体刻蚀过程中对多孔有机硅酸盐材料的损伤。 | |
法律状态公告日 | 法律状态信息 | 法律状态 |
2022-05-31 | 公开 | 发明专利申请公布 |
2022-06-17 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L21/311专利申请号:2022101556885申请日:20220221 | 实质审查的生效 |
本文发布于:2024-09-23 15:30:57,感谢您对本站的认可!
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