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人工合成的大环结构分子纳米孔结构及制备方法及应用[发明专利]

专利名称：人工合成的大环结构分子纳米孔结构及制备方法及应用

专利类型：发明专利

发明人：冯建东，乔丹

申请号：CN202010278865.X

申请日：20200410

公开号：CN111521766A

公开日：

20200811

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种人工合成的大环结构分子纳米孔结构及制备方法及应用。纳米孔结构为在电解质溶液中，人工合成的大环化合物插入磷脂双分子层膜中，形成的纳米尺寸通道的跨膜纳米孔结构；大环化合物一般具有直径为的空腔，大环化合物的空腔具有原子级别厚度为，本发明设计的人工合成的大环化合物在磷脂双分子层上形成稳定的单分子结构独特，与常见的跨膜纳米孔皆不同，空腔厚度仅为原子级别，化学结构统一，化学性质稳定，可以形成稳定的单个纳米孔通道，实验重复性、统一性高。

申请人：浙江大学

地址：310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

国籍：CN

代理机构：杭州中成专利事务所有限公司

本文发布于:2024-09-21 19:34:24，感谢您对本站的认可！

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